一种高功率纳秒激光器

近日，据国家知识产权局信息显示，武汉光至科技有限公司取得一项名为“一种高功率纳秒紫外激光器”的专利，授权公告号 CN 118448971 B，申请日期为2024年3月。

专利摘要显示，本发明提出了一种高功率纳秒紫外激光器，涉及固体激光器技术领域，包括沿第一泵浦源出光方向上依次设置有第一泵浦源、第一泵浦镜、第一增益晶体、第二增益晶体、第二泵浦镜以及第二泵浦源；第一泵浦源出射的第一泵浦光透过第一泵浦镜依次传输至第一增益晶体、第二增益晶体以及第二泵浦镜，第一泵浦光经第二泵浦镜反射，以使第二泵浦镜的反射光依次传输至调Q器件和第一反射镜，第二泵浦源出射的第二泵浦光透过过第二泵浦镜依次传输至第二增益晶体、第一增益晶体以及第一泵浦镜，第二泵浦光经第一泵浦镜反射，以使第一泵浦镜的反射光反射至第二反射镜；第二反射镜的反射光依次传输至三倍频晶体、二倍频晶体以及第三反射镜，以使三倍频晶体靠近第二反射镜的端面输出紫外激光。本发明有助于提升紫外激光的输出功率。