hyperlith光刻软件

hyperlith光刻功能

极紫外光刻 (EUV)  

严格的 OPC 和源优化

嵌入式多层镜面缺陷任意缺陷几何形状

可检测性

印刷适性

离轴阴影效应、HV 偏差（包括非常量散射系数）吸收器堆栈分析（EM-Stack）吸收器轮廓（侧壁和拐角圆化吸收体缺陷EUV 的 OPC（小面积）多层镜面结构 (PSM)

双重图案  

光刻蚀刻 光刻蚀刻

光刻冻结 光刻蚀刻

侧壁间隔物

晶圆形貌效应

非平面光阻

首次接触时的潜在特征  

相移掩模版

交替 PSM：移位和不移位开场之间的强度不平衡

相位缺陷

湿法蚀刻/双沟槽

无铬相光刻

衰减相移掩模版

脱保护收缩的 NTD

SEM 诱导收缩

EUV 和 DUV 的随机效应

PEB 扩散效应

表面抑制

温度效应

侧壁分析

内外角偏差分析

拉回

最高亏损

薄膜堆叠分析

BARC 优化

多层镜反射率

抵抗厚度效应