hyperlith光刻软件

发布:speos 2024-12-02 14:28 阅读:178
极紫外光刻 (EUV) _E1:3 N|  
NTn-4iJy  
严格的 OPC 和源优化 ed617J  
嵌入式多层镜面缺陷任意缺陷几何形状 Bkcs4 x  
可检测性 uYs+x X_  
印刷适性 8L&#<Ol  
离轴阴影效应、HV 偏差(包括非常量散射系数)吸收器堆栈分析(EM-Stack)吸收器轮廓(侧壁和拐角圆化吸收体缺陷EUV 的 OPC(小面积)多层镜面结构 (PSM) *%MY. #  
jbG #__#_  
双重图案 N (43+  
g{i( 4DHm(  
光刻蚀刻 光刻蚀刻 oEfKL`]B  
光刻冻结 光刻蚀刻 VbZZ=q=Kd  
侧壁间隔物 ,H|V\\  
晶圆形貌效应 H_jMl$f)j  
非平面光阻 1c\$ziB  
首次接触时的潜在特征 khyV uWN  
[rf.P'p%  
相移掩模版 k<AnTboa  
jirxzj  
交替 PSM:移位和不移位开场之间的强度不平衡 |{Oe&j3|  
相位缺陷 OpiN,>;  
湿法蚀刻/双沟槽 mH;\z;lyK  
无铬相光刻 +H+OYQ>^  
衰减相移掩模版 eO*FoN  
脱保护收缩的 NTD Xo'_|-N+  
SEM 诱导收缩 5I@< 6S&X  
EUV 和 DUV 的随机效应 _TkiI.'  
PEB 扩散效应 ]r|X[9  
表面抑制 t.3b\RV[  
温度效应 A?Uyj  
侧壁分析 U t0oh  
内外角偏差分析 pWeKN`  
拉回 IY+P Yad  
最高亏损 \QQw1c+  
{wK98>$a  
薄膜堆叠分析 N U\B  
`vUilh ^c  
BARC 优化 Z?dz@d%C  
多层镜反射率 JH5ckgdZ  
抵抗厚度效应
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最新评论

vurtne_000 2024-12-03 08:29
是直播带货,
ka2012 2024-12-03 22:35
广告吧,没听说这个软件。
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