空间光调制器(SLM.0002 v1.1) GL%)s?
8]mRX~ 应用示例简述 -AN5LE9-
lK_T%1Gz 1. 系统细节 q|V|Jl 光源 UD=[::## — 高斯光束 jO-T1P']Y 组件 6 2#@Y-5 — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 xXlx}C 探测器 M`n0
qy — 视觉感知的仿真 ~O~iP8T — 电磁场分布 _(-i46x} 建模/设计 ,xg-H6Xfa{ — 场追迹: xR8y"CpE 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 +
}$(j#h x_ t$* 2. 系统说明 >0_{80bdO ~)F_FS rJh$>V+ ' 3. 模拟 & 设计结果 }@"v7X $ g/(BV7V 4. 总结 +/
{lz8^,
|8tKN"QG 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 _0BQnzC= 4V c``Um 第1步 +IMt$}7[ 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 fR?'HsQg KrR`A(=WL 第2步 @Ko#nDEq 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 =KAN|5yn F"cZ$TL] 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 ;66{S'*[
*pDS%,$xe 应用示例详细内容 !L(
)3=
UoaWI2 系统参数 l[i1,4
D<:zw/IRE 1. 该应用实例的内容
1/,~0N9 1;PI%++ (>,b5g 2. 设计&仿真任务 nBLb1T
=dwy 4 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 4T$DQK@e }u1h6rd ` 3. 参数:输入近乎平行的激光束 D^a(|L3; qQIX:HWDKZ /EJy?TON* 4. 参数:SLM像素阵列 kGL3*x
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|p8 0|i|z!N> 5. 参数:SLM像素阵列 =Ot_P7'5gv acgx')!c
3bJ|L3G 应用示例详细内容 p>f?Rw_
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GoaH*h 仿真&结果 Sn^M[}we
g7lPQ_A* 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM ;Wa&Dg/5` 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 [>U2!4=$M 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 |WpJen*?Y X 4!Jj* 2. VirtualLab的SLM模块 +md"X@k5*
vR>GE?s6
u.*}'C>^^v
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 h(GSM'v
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 .XVL JJ#
JStEOQF4 3. SLM的光学功能 O<$j}?2
2aX{r/Lc 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 o9yUJ@
:i 为此,将区域填充因子设置为60%。 ep0dT3& 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 lgD% 0P!Fci/t 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd V#+F*w?&D .,U4 ATO 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 "!fwIEG 8H T3C\$s 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd c.5u \I9" aR'~=t&;z1 4. 对比:光栅的光学功能 "zz b`T[8 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 'm"Ez'sS 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 P}>>$$b\Yi 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 sTep2W.9 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 ]0SqLe 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 =fdW H4
0%Y}CDn_
#/8
Nav 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd :Bu)cy#/[
$9xp@8b\_ 5. 有间隔SLM的光学功能 baL<|&
c 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 !,rF(pz WS?Y8~+{5 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd cM4{ e^ E1`_[=8a9 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 ,H<nNBv3M 3`RI[%AN~ B@*!>R 6. 减少计算工作量 -}( o+!nl [-81s!#mkw _34%St!lg 采样要求: GU 9p'E 至少1个点的间隔(每边)。 S v#,L8f 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 o>T+fBHE &p*rEs 采样要求: h(3-/4 同样,至少1个点的间隔。 Y=O-^fL 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 8Bh
micU 随填充因子的增大,采样迅速增加。 opu)9]`z #`l&HV 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 x9 n(3Oa 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 x{GFCy7 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 3H4T*&9;n 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 -mo4`F ;XlCd[J< ,_D@ggL-
\5=4!Ez 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
'WBhW5@ 7. 指定区域填充因子的仿真 (?lT @RY/
Jw^my4 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 ,JTyOBB<I 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 FL&Y/5 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 8]O#L}" 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 #e[r0f?U 7s2*VKr _F^NX%
8. 总结 a5d_= :S; 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 :<0lC j kGakdLl 第1步 [9Tnp]q 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 9 }42s + JS<w43/j 第2步 dldS7Q 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 :O?3lj) 扩展阅读 #SjCKQ~ 扩展阅读 1!E}A!; 开始视频 &zVXd - 光路图介绍 'P4V_VMK 该应用示例相关文件: EaH/Gg3 - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 Gc5mR9pV
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 v;}MHl