空间光调制器(SLM.0002 v1.1) !^MwE]
qP;1LAX 应用示例简述 B;8Zl m9
"y7\F9 1. 系统细节 P~!,"rY 光源 l(Hz9 — 高斯光束 ! })Y9oZc8 组件
J?Y,3cc. — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 jGkDD8K [ 探测器 fCY??su*
— 视觉感知的仿真 N&
F.hi$_ — 电磁场分布 @UdF6:T 建模/设计 d\3 %5Y — 场追迹: /t]1_ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 #0h}{y
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/]J\/Z> 2. 系统说明 I`IW^eZM }8}`A\dgV SOsz=bVx 3. 模拟 & 设计结果 %4M,f.[e ;?iu@h 4. 总结 }L|B@fW
M'R
] '' 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 Y[PC<-fyf F%lC%~-qh 第1步 6l4= 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 ipGxi[Vav q!U$\Q& 第2步 g^|R;s{ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 !+Y+P? d#d&CJAfr 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 Ici4y*`M
,']CqhL6=R 应用示例详细内容 vmNI$KZM
l0t(t*[Mj 系统参数 oBub]<.J
eF7I5k4 1. 该应用实例的内容 d:A'|;'] t~ I;IB |"Zf0G 2. 设计&仿真任务 *v8daF
<{ v
%2 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 sb_/FE5e WB'1_a 3. 参数:输入近乎平行的激光束 qo\9,< rrgOp5aV" jzpDKc% 4. 参数:SLM像素阵列 jp4-w(
/L(}VJg- ()Wu_Q 5. 参数:SLM像素阵列 $Q'LDmot "B +F6 1K|F;p 应用示例详细内容 Bnwq!i!M
$f+I#uJ 仿真&结果 ^ @=4HtA
^gyI-S(; 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM RTg\c[=w 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 2-UD^;0 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 {!?M!/d UB8n,+R 2. VirtualLab的SLM模块 qG~6YCqii
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`) ],FE*:
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 .dxELSV
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 oy[ px9Wx
E^{!B]/oP 3. SLM的光学功能 ZO<\rX (
UNv!G/i-5 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 csJ)Pt?d 为此,将区域填充因子设置为60%。 sL\ {.ad5 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 yEh{9S%6p Gi@c`lRd1 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd x2HISxg }{,Wha5\n 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 tfm3IX 6'uCwAQU 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd e_!Z-#\J% \=|=(kt) 4. 对比:光栅的光学功能 3PLA*n+% 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 ?D9iCP~~ 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 PX23M|$! 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 K(lVAKiP] 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 CsT&}-C 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 ;0 +Dx~
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sc# EL~ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd k5Q1.;fW76
fY78 5. 有间隔SLM的光学功能 ;P8%yf 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 `0_
Y| 4KB %yfl-c(u 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd K/}x'*= #
&5. 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 q;sZwp< 3'A0{(b H{9P=l 6. 减少计算工作量 6;!)^b s?9Y3]&+&M
~FXq%-J 采样要求: [,ulz4" 至少1个点的间隔(每边)。 \x4:i\Fx@ 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 xA2I+r*o b"trg {e 采样要求: P&:[pPG 同样,至少1个点的间隔。 c(5XT[Tw 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 1#+|RL4o 随填充因子的增大,采样迅速增加。 :1bDkoK vE#8&Zq 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 l1L8a I,8 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 AkO);4A;Jd 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 H*f2fyC1\ 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 9CN'29c v7#|% =_@) KWeX$
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: 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
tW-[.Y -M, 7. 指定区域填充因子的仿真 Tj<B;f!u
"VoufXM: 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 >O~V#1 H 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 CS-jDok 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 B~&}Mv 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 -rgdKA@)( O%F*i2I:+k
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8. 总结 Ix@B*Xz:` 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ,D<U PtPQ a+~b3 第1步 5U]@
Y? 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 oj'YDQ^uj VUHf-bKl 第2步 cyabqx 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 A+4Kj~`! 扩展阅读 Nvh&=%{g 扩展阅读 4ZR2U3jd1 开始视频 iAXGf V - 光路图介绍 mU]^PC2[ 该应用示例相关文件: tc\ZYCFr - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 7kT X
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 9zCuVUcd$.