空间光调制器(SLM.0002 v1.1) 7ruWmy;j FgPmQ 应用示例简述 a<+Rw{
9{A*[.XK] 1. 系统细节 Z vyF"4QN 光源 Esg: — 高斯光束 $Df1t 组件 Gt !Hm( — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 \(5Bi3PA} 探测器 gKIN* Od — 视觉感知的仿真 WFqOVI*l — 电磁场分布 :X*uE^bH 建模/设计 % %2~%FVb — 场追迹: ~$Z_#,|i? 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 $ WWi2cI; L;KLmxy# 2. 系统说明 A+3=OBpkW0 [Kbna>` a<V
Mh79* 3. 模拟 & 设计结果 ];0:aSi# z_z'3d.r7 4. 总结 _g"su#
hrOp9|!m 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 <R#:K7>O H{Na'_sL 第1步 :/NP8$~@j 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 -%t8a42 k_%maJkXp 第2步 .:, 9Tf 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Fd9Z7C 89A04HX 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 )v.\4Q4
jbTyM"Y 应用示例详细内容 h6(L22Hn
f<3r;F7 系统参数 E`uK7 2j
W{;LI
WsZ 1. 该应用实例的内容 faI4`.i 1)
G6 -QP1Se*# 2. 设计&仿真任务 &oiBMk`*
F?TmOa0 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 CB?H`R pC. Q|cA8Fn 3. 参数:输入近乎平行的激光束 z3-AYQ.H Z7R+'OC %bUpVyi!( 4. 参数:SLM像素阵列 T?FR@.
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KHXnB DnPV
Tp(> 5. 参数:SLM像素阵列 gG=E2+=uy l,3[hx jDc5p3D&[] 应用示例详细内容 zHCz[jlrMq
l=JK+uZ 仿真&结果 o,RLaS,BK'
DavG=kvd 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM Nm=W?i 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 RA+k/2]y! 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 ]={{$}8. QRv2%^L 2. VirtualLab的SLM模块 1jozM"H7Q
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 *^u5?{$l(
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 jM90
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f z8eL:i: 3. SLM的光学功能 u-7/4Y)c
!}^{W)h[ 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 x*[\$E`v 为此,将区域填充因子设置为60%。 3B|o 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 e;<=aa)}? |L4K# 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd pVt8z|p_;{ NQ!jkojD 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 A@EeX4N ]`&ws 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 70L{u+wIy _{6QvD3kg. 4. 对比:光栅的光学功能 %@5f+5{i!z 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 'kK}9VKl 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 0zaE?dA] 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 },'2j 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 w Maib3Q 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 A -G?@U
0I4RZ.2*Y
]z,W1Zs? 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd wz5xJ:T j
E[>4b7{g: 5. 有间隔SLM的光学功能 bH&Cbme90- 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 ` IiAtS UfSWdR) 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd [Zk|s9 Kgi%Nd 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 'c\zWmAZ 1_THBL26d 67Z|=B!7 6. 减少计算工作量 0 }k[s+^ Hm4:m$=p4
<SUjz}_Oa: 采样要求: b;O]@kBB 至少1个点的间隔(每边)。 I3D8xl>P\ 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 P}y}IR{6
DHJh.Y@H 采样要求: a1B_w#?8 同样,至少1个点的间隔。 #Na3eHT 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 5zX;/n~ 随填充因子的增大,采样迅速增加。 (Kd;l&8 <7/ _Vs)F0 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 C] qY 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 8MGtJ'. 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 6]rIYc[, 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 \1hbCv$Hf _ro^<V$% K?,eIZ{.S
*fso6j#% 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
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ix 7. 指定区域填充因子的仿真 iXK.QktHw
uOc:^ 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 *x2+sgSf_0 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 N%%2!Z# 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 j<>E
Fd 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 N|Xx#/ H%>
E6rVB $As;Tvw.
8. 总结 u~7mH 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 xQ9P'ru NypM+y 第1步 m.e+S,i 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 J^8(h R e3,TY.,Ay 第2步 xDv$z.=Y 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Md(AqaA 扩展阅读 A(G%9'T 扩展阅读 \fIGMoy! 开始视频 GOuBNaU{ - 光路图介绍 m/RX~,T*v& 该应用示例相关文件: Qn'Do4Le - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 0YK`wuZGS
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