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    [技术]空间光调制器像素处光衍射的仿真 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-11-11
    空间光调制器(SLM.0002 v1.1) p{\qSPK  
    Gnuo-8lb  
    应用示例简述 |H3?ox*  
    <z~2d  
    1. 系统细节 RZcx4fL}x  
    光源 Oc^6u  
    — 高斯光束 %fex uy4  
     组件 ]%vGC^  
    — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 ')Dp%"\?  
     探测器 p*(U*8Q  
    — 视觉感知的仿真 6KBzlj0T+  
    — 电磁场分布 .:#_5K  
     建模/设计 s[vPH8qb  
    — 场追迹: W(]E04  
     一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 RE(=! 8lGR  
    B.CH9M  
    2. 系统说明 KoxGxHz^Y3  
    yhJA;&}>  
    "4Wp>B  
    3. 模拟 & 设计结果 V'f&JQ A  
    C7XS6Nqu  
    4. 总结 .f?qUg  
    Lk8W&|;0|  
    考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 d~P<M3#>  
    ~%8Q75tn.  
    第1步 }]Gi@Nh|o  
    将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 R9|2&pfm(M  
    T9U2j-lA?  
    第2步 E<98ahZ?l  
    分析不同区域填充因子的对性能的影响。 )$Dcrrj  
    kL2Zr  
    产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 q|Pt>4c5?  
    $jUS[.S_|I  
    应用示例详细内容 ~T p8>bmSR  
    qD=m{O8%_  
    系统参数 6|"!sW`%N  
    b[&,%Sm+6  
    1. 该应用实例的内容 U`8^N.Snrp  
    9 z8<[>  
    7/U<\(V!g  
    2. 设计&仿真任务 JtrDZ;^@  
    3Q!J9t5dc  
    由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 n'&`9M['%d  
    Wc`J`&#.#  
    3. 参数:输入近乎平行的激光 n.)[MC}  
    /v;)H#;  
    EZwdx  
    4. 参数:SLM像素阵列 -'p@ lk  
    "o5gQTwb  
    A 4W  
    5. 参数:SLM像素阵列 ~QEXB*X-g'  
    nTlv'_Y(  
    5{d9,$%8&  
    应用示例详细内容 [K4+G]6  
    UmD-7Fd  
    仿真&结果 X\$W'^np  
    &8_#hne_  
    1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM k vgs $  
     由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 V^$rH<  
     内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 S'-`\%@7  
    ,b.4uJg'  
    2. VirtualLab的SLM模块 ^ Mvsq)  
    )T};Q:  
    YaJ{"'}  
     为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 T m@1q!G  
     必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 gHh.|PysW  
    ID)gq_k[8,  
    3. SLM的光学功能 :kiO  
    ~ Dp:j*H  
     在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 @aV~.!!  
     为此,将区域填充因子设置为60%。 @gqs4cg{f  
     首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 1={Tcq\]  
    <Ec)m69P  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd g=YiR/O1QN  
    ,I&0#+}n  
     此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 r(in]7  
    _9-D3_P[3  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd -ynLuq#1A  
    `TlUJ]d)  
    4. 对比:光栅的光学功能 R,5$ 0_]|+  
     上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 o? O,nD 6  
     所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 mv%:[+!  
     通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 >5@vY?QXO  
     级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 QH' [ (  
     这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 j.'"CU  
    &<P^Tvqq&  
    } Ved  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd =E~5&W7  
    ?5YmE(v7  
    5. 有间隔SLM的光学功能 U1HD~  
    现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 :k )<1ua  
    $t H.np  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd nk3<]u  
    6u, 0y$3  
    下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 pOI`,i}.  
    ^YJ^+:D(  
    ?! _pP|  
    6. 减少计算工作量 ;1g-z]  
    0G\myv  
    w$;*~Qc  
    采样要求: aLk2#1$g  
     至少1个点的间隔(每边)。 (DMnwqr  
     如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 6BN(^y#-X  
    >fj$ wOq  
    采样要求: p,u<g JUL  
     同样,至少1个点的间隔。 ^21f^>k(  
     假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 x(zZqOed  
     随填充因子的增大,采样迅速增加。 fQ.>G+0 I>  
    `L*;58MA  
     为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 e, 0I~:  
     如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 I nK)O ';  
     如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 @$yYljP  
     通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 $F()`L{Tj  
    r\ Yur  
    f uN XY-;  
    $z,DcO.vz  
    减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
    27 TZ+?  
    7. 指定区域填充因子的仿真 kBT}Siw  
    Eg29|)qsz  
     由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 N_k6UA9  
     全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 zomNjy*  
     因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 X|1YGZJ  
     在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 LqsJHG  
    ~d `4W<1a  
    Q!e0Vb  
    8. 总结
    6Oba}`)q9  
    考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 yi;t  
    [_hhC  
    第1步 i6:yNb ='  
    将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 j"u)/A8*  
    xy3%z  
    第2步 "}+/ 0$F  
    分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Hf{%N'4  
    扩展阅读 O:p649A  
    扩展阅读 bCe-0!Q  
     开始视频 V@'S#K#  
    -    光路图介绍 eniR}  
     该应用示例相关文件: TC{Qu;`H+U  
    -     SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 *9(1:N;#  
    -     SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究
    PM>XT  
     
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