空间光调制器(SLM.0002 v1.1) :}ZY*ind -y8>c0u 应用示例简述 ZE6W"pbjU
.|2[!7CXH 1. 系统细节 E{IY7Xz^> 光源 NxN~"bfh — 高斯光束 dY.NQ1@" 组件 wI#R\v8(`n — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 6@=ipPCR 探测器 fI-f Gx — 视觉感知的仿真 ?2Sm
f — 电磁场分布 sO8F0@%aH( 建模/设计 CjmF2[| — 场追迹: ~.J{yrJ& 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 \&^U9=uq NnO%D^P] 2. 系统说明 |
=tGrHL z/f0.RJ r5PZ=+F 3. 模拟 & 设计结果 He LW* {6HgKI 4. 总结 *4[P$k$7
@e^(V$ap 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 X ="]q|Z QzV%m0 第1步 Q`z2SYz> 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 ~f?brQ? SBamgc 第2步 w,;ox2 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 O2oF\E_6 O5A]{W 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 !.w|+-JKO
G3.\x_;k 应用示例详细内容 G-Zn-I
agnEYdM_ 系统参数 Nq[-.}Z6
_ IlRZ} f 1. 该应用实例的内容 4 }*V=>z -hZw.eChQa G Cp90 2. 设计&仿真任务 v'SqH,=d
R{{?wr6b$ 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 !1`f84d |5\:
E}1 3. 参数:输入近乎平行的激光束 -;GB Xq ~!'T!g%C NX?6
(lO, 4. 参数:SLM像素阵列 =T#?:J#a
%Wt F\p ro18%'RRI 5. 参数:SLM像素阵列 kjOI7` DU M0woJt[& BJnysQ 应用示例详细内容 /1?{,Das=
G+K`FUNA 仿真&结果 bJFqyK:6
gTg[!}_;\N 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM 5
$.az 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 K9S(Xip 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 JUTlJyx8 "2`/mtMon 2. VirtualLab的SLM模块 fP{IW`t}]
cxnEcX\
EP6@5PNZ
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 k(_^Lq f-
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 7h\U}!
q5>!.v
3. SLM的光学功能 |S3wCG
6x@4gPy[ 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 \|$GB U 为此,将区域填充因子设置为60%。 slV]CXW)t 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 ]9hhAT44 gA&`vnNP 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd FUZ`ST+OL RHuc#b0 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 #6nuiSF VQn]"G(` 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd g>_d,#F T$tO[QR/ 4. 对比:光栅的光学功能
OdtS5:L 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 ]u"x=S93 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。
Ol*|J 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 Zu/1:8x 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 r1.OLn?C 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 'PdUSv|lH
r&nEM6
>!#or- C 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd i^V3u
JiRfLB 5. 有间隔SLM的光学功能 $H1igYc 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 Tnb5tHjnh tdnd~ WSR 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd i{k v$ir! QE`u~ 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 ~{[,0,lWU +=(@=PJ6 g715+5z[ 6. 减少计算工作量 %(g!,!l) \w2X.2b.F
BXLw 采样要求: 2yA+zJ
46B 至少1个点的间隔(每边)。 =p#:v 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 7OLchf
x$6FvgP( 采样要求: DO
,7vMO 同样,至少1个点的间隔。 #YB3Ug]z 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 e)]DFP[n 随填充因子的增大,采样迅速增加。 | @p da5fKK/s 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 \$2zF8 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 6('xIE(R 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 z2OXCZ*/ 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 Z4tc3e
K=!?gd!Vw q:G3y[ P
sW!MV v 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
n2&M?MGX 7. 指定区域填充因子的仿真 QHe:
-A1:S'aN- 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 y?8V'.f| 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 Xb7G!Hk#g 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 I7jIA>ZZi 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 qF4DX$$< kk+:y{0V *+<H4.W
H
8. 总结 ,pVq/1 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 l6HT}x7OiH T$s )aM 第1步 n16TQe"8 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 i|G /x jx8hh}C 第2步 \`WAG>'l5 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 1DM$FG_Z- 扩展阅读 [,q^\T 扩展阅读 q??N, 开始视频 FSS~E [(DL - 光路图介绍 cb9@
0^- 该应用示例相关文件: 8:}$L)[V - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 0coRar?+b
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 +g8uV hC