空间光调制器(SLM.0002 v1.1) m:K/)v* ?_ p3^kl 应用示例简述 ;[%AeN5W
Wny{qj)= 1. 系统细节 539[,jH 光源 rw58bkh6 — 高斯光束 %/~Sq?f-9@ 组件 RD,`D! — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 wl}Q|4rZ 探测器 +AXui|mn — 视觉感知的仿真 6$`8y,TMSt — 电磁场分布 .`iOWCS 建模/设计 @0+@.&Z — 场追迹: O-q [#P 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 k`xPf\^tf
rfoLg 2. 系统说明
NouT~K`' 8*6U4R <Y<%=` 3. 模拟 & 设计结果 UG 9uNgzQ/ )g+~"&Gcx 4. 总结 jIg]?4bW[
zGA1 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 7'CdDB6&. AvH^9zEE( 第1步 4Bs '5@ 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 Jro) PkMN@JS 第2步 o yK'h9Wt1 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 <Zn]L: H
$XO]\ 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 1F{c5
/*i[MB 应用示例详细内容 2old})CLJ
PFu{OJg& 系统参数 Ja"?Pb
)pbsvR_ 1. 该应用实例的内容 f;x0Ho5C2 lvY[E9I0 #Ipi 3 2. 设计&仿真任务 `zwXfY,%
`1{Y9JdQ 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 ~l+2Z4nV _ VKBzOH 3. 参数:输入近乎平行的激光束 m%]1~b}" Qzt'ZK x+EkL3{ 4. 参数:SLM像素阵列 u%!/-&?wF
%|AebxB'o O`K2mt\% 5. 参数:SLM像素阵列 2RG6m=Y8y -Aaim`06bv 3:C)1q 应用示例详细内容 %PM&`c98z7
. |%n"{ 仿真&结果 '
Dcj\=8
n+MWny 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM 4Oo{\&( 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 oq${}n < 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 `,QcOkvbC KW-GVe%8f 2. VirtualLab的SLM模块 & OYo
n&OM~Vs
}C4wED.
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 U}@xMt8@l
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 ;`Nh@*_
iR?}^|] 3. SLM的光学功能 2Pow-o*r
G?kK:eV 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 @@JyCUd 为此,将区域填充因子设置为60%。 ^G|*=~_ 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 (Zg']) L"bZ~'y 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd
b:Z&;A|"{ NNt
n 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 5skxixG {ETM > 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd m8@&-,T XeX\u3<D 4. 对比:光栅的光学功能 m/z,MT74*J 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 mG"xo^1_H 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 cbN;Kv?ak} 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 X NgcBSD 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 +F-EgF+J 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 4-~Z{#-
U%q-#^A
_f'v>"K 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd >
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gg>QXui 5. 有间隔SLM的光学功能 wBcoh~
(y 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 8Qo'[+4; d]poUN~x 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd rtS' 90` nl
qn:[BU 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 NMe{1RM _0(%^5Y S=(<m%f 6. 减少计算工作量 ki?h7 #l ZK_N|1x
4;fuS_(X 采样要求: B*N1)J\5 至少1个点的间隔(每边)。 jMgXIK\ 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 Hs*["zFc 3V<@Vkf5 采样要求: Keozn*fzI 同样,至少1个点的间隔。 ; h\T7pwwb 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 =hkYQq`Q 随填充因子的增大,采样迅速增加。 oQ 2$z8 "|h%Uy?XY 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 MfP)Pk5 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 5?lc%,-& 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 [ n7>g 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 T1]?E]m{ 6Q^~O*cw n:,mo} ?X
t
N{S;)q#X 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
&}r"Z?f) 7. 指定区域填充因子的仿真 51SmoFbMz
H/c
(m|KK 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 H5T_i$W 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 xSm;~')g 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 g w"
\pD
在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 GC{M"q|_ |;vQ"8J M2O_kOeZ
8. 总结 u.ggN=Z 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 xWxc1tT` G3~`]qf
第1步 TaN{xpo 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 gcU*rml ;f[lq^eV 第2步 :OG I|[ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 $KK~KEZ2 扩展阅读 O`B,mgT( 扩展阅读 {_QdB;VwH 开始视频 .UG`pRC - 光路图介绍 jN\u}!\O 该应用示例相关文件: TmsIyDcD~ - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 ;]u9o}[
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- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 Jsz!ro