空间光调制器(SLM.0002 v1.1) p{\qSPK Gnuo-8lb 应用示例简述 |H3?ox*
<z~2d 1. 系统细节 RZcx4fL}x 光源 O c^6u — 高斯光束 %fexuy4 组件 ]%vGC^ — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 ')Dp%"\? 探测器 p*(U*8Q — 视觉感知的仿真 6KBzlj0T+ — 电磁场分布 .:#_5K 建模/设计 s[vPH8qb — 场追迹: W(]E04 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 RE(=! 8lGR B.C H9M 2. 系统说明 KoxGxHz^Y3 yhJA;&}> "4Wp>B 3. 模拟 & 设计结果 V'f&JQA C7XS6Nqu 4. 总结 .f?qUg
Lk8W&|;0| 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 d~P<M3#> ~%8Q75tn. 第1步 }]Gi@Nh|o 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 R9|2&pfm(M T9U2j-lA? 第2步 E<98ahZ?l 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 )$Dcrrj kL2Zr 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 q|Pt>4c5?
$jUS[.S_|I 应用示例详细内容 ~T p8>bmSR
qD=m{O8%_ 系统参数 6|"!sW`%N
b[&,%Sm+6 1. 该应用实例的内容 U`8^N.Snrp 9 z8<[> 7/U<\(V!g 2. 设计&仿真任务 JtrDZ;^@
3Q!J9t5dc 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 n'&`9M['%d Wc`J`.#
3. 参数:输入近乎平行的激光束 n.)[MC} /v;)H#; EZwdx 4. 参数:SLM像素阵列 -'p@ lk
"o5gQTwb A 4W 5. 参数:SLM像素阵列 ~QEXB*X-g' nTlv'_Y( 5{d9,$%8& 应用示例详细内容 [K4+G]6
UmD-7Fd 仿真&结果 X\$W'^ np
&8_#hne_ 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM kvgs $ 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 V^$rH< 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 S'-`\%@7 ,b.4uJg' 2. VirtualLab的SLM模块 ^Mvsq)
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YaJ{"'}
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 T
m@1q!G
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 gHh.|PysW
ID)gq_k[8, 3. SLM的光学功能 :kiO
~ Dp:j*H 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 @aV~.!! 为此,将区域填充因子设置为60%。 @gqs4cg{f 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 1={Tcq\] <Ec)m69P 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd g=YiR/O1QN ,I&0#+}n 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 r(in]7 _9-D3_P[3 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd -ynLuq#1A `TlUJ]d) 4. 对比:光栅的光学功能 R,5$ 0_]|+ 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 o?O,nD
6 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 mv%:[+! 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 >5@vY?QXO 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 QH' [( 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 j.'"CU
&<P^Tvqq&
}
Ved 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd =E~5&W7
?5YmE(v7 5. 有间隔SLM的光学功能 U1HD~ 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 :k )<1ua $t
H.np 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd nk3<]u 6u, 0y$3 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。
pOI`,i}. ^YJ^+:D( ?!
_pP| 6. 减少计算工作量 ;1g-z] 0G\myv
w$;*~Qc 采样要求: aLk2#1$g 至少1个点的间隔(每边)。 (DMnwqr 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 6BN(^y#-X >fj$wOq 采样要求: p,u<gJUL 同样,至少1个点的间隔。 ^21f^>k( 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 x(zZqOed 随填充因子的增大,采样迅速增加。 fQ.>G+0I> `L*;58MA 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 e, 0I~: 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 I nK)O'; 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 @$yYljP 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 $F()`L{Tj r\ Yur f uNXY-;
$z,DcO.vz 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
27 TZ+? 7. 指定区域填充因子的仿真 kBT}Siw
Eg29|)qsz 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 N_k6UA9 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 zomNjy* 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 X|1YGZJ 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 LqsJHG ~d `4W<1a Q!e0Vb
8. 总结 6Oba}`)q9 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。
yi;t [_hhC 第1步 i6:yNb =' 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 j"u)/A8* xy3%z 第2步 "}+/0$F 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Hf{%N'4 扩展阅读 O:p649A 扩展阅读 bCe-0!Q 开始视频 V@'S#K# - 光路图介绍 eniR} 该应用示例相关文件: TC{Qu;`H+U - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 *9(1:N;#
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