空间光调制器(SLM.0002 v1.1) bG>pm|/ "gdmRE{x 应用示例简述 O@3EJkv
Q/iaxY# 1. 系统细节 TeQWrms 光源 FpfOxF6A3 — 高斯光束 ?N#mD 组件 SPL72+S`, — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 MyuFZ7Q4$ 探测器 'oHtg
@ — 视觉感知的仿真 !1dCk/D&)8 — 电磁场分布 >E?626* 建模/设计 C$)#s{* — 场追迹: :n>m">4 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 r M'snW) PF@<>NO+W 2. 系统说明 &oYX093di ~LHG ?D\6CsNp(2 3. 模拟 & 设计结果 %\[LM$f{z npz*4\4 4. 总结 8:-[wl/@
6+FmYp 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 bR49(K$~ /l0\SVwa> 第1步 'HkV_d[li 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 UBi0
/ (C,PGjd 第2步 hp,bfcM 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 pF#nj`L ,/|"0$p2x 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 8@Xq ,J
&iL"=\# 应用示例详细内容 Oh~JyrZy
+D`IcR-x 系统参数 d~O\zLQ;
Z|uUE 1. 该应用实例的内容 MaXgy|yB1 ,#UaWq@7 #G|iEC0C 2. 设计&仿真任务 cW26TtU(
: UD<1fh 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 {Aj}s3v ,K6s'3O(LW 3. 参数:输入近乎平行的激光束 _*9eAeJ A/W0O;*q %-i2MK'A 4. 参数:SLM像素阵列 wvcG <sj
7:R8QS9 )O"5dF1l 5. 参数:SLM像素阵列 |JSj<~1ki R.!'&<Svq Q~#udEajI 应用示例详细内容 &2Q4{i
eFp4MD8? 仿真&结果 7P?z{x':T
:o&qJ% 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM h:<pEL 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 !GURn1vcAe 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 vR3'B3y .4Jea#M&x 2. VirtualLab的SLM模块 O2us+DhQ
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 C!]hu)E
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 dG'aJQw
s}uOht}
o 3. SLM的光学功能 w
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fDNiU" 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 kTT!gZP$ 为此,将区域填充因子设置为60%。 p}.L]Y 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 /z>G=kA :,Q\!s! 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd (g`G(K_ r;g[<6`!S 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 Jv %,v? 2)Grl;T]s 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd x?9rT 0D <[@AMd S 4. 对比:光栅的光学功能 X&8&NkH 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 %(MaH 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。
ztKmB 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 WId"2W3M 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 z8G1[ElY 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 [KLs}
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uPr'by 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd J cL4q\g
5 >S#ew 5. 有间隔SLM的光学功能 _HW~sz| 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 N_rz~$|@9 RZ-=UIf 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd
<u]M):b3 % 4|* 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 0}C> e`<' As
}:~Jy| m-Q!V+XQp 6. 减少计算工作量 Q1yMI8 2#1"(m{
M!Q27wT8O 采样要求: I(tMw6C$: 至少1个点的间隔(每边)。 v W=$C 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 ?f f !(U &*}`uJt 采样要求: M3P\1 同样,至少1个点的间隔。 r6S-G{o 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 R?MRRq 随填充因子的增大,采样迅速增加。 VPW@y Yef=HSzo 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 r@b M3V_o 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 oS6dcJHf 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 & mwQj<Z 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 v;m`d{(i2 kZ7\zbN> {w:*t)@j
J<hqF4z 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
$/*19e~ 7. 指定区域填充因子的仿真 cq:<,Ke
ere h! 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 (K9pr>le 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 yvR3| 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 S:2M9nC 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 hWc`4xdl .)=T1^[hI @uA=v/>+
8. 总结 c=d` DJ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 eb1WTK@ pRR1k? 第1步 Qp>'V<%m- 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 <14,xYpE ?R-4uG[( 第2步 QAGR\~ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 /B"FGa04p( 扩展阅读 <[.{aj]QV 扩展阅读 6sceymq 开始视频 ?{=&R o - 光路图介绍 *<r\:g 该应用示例相关文件: X%(1C,C( - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 10tlD<eYb
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 N"/J1