空间光调制器(SLM.0002 v1.1) ,1Suq\
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zKx?cEpE 应用示例简述 1wW8D>f]K
UkG|5P` 1. 系统细节 @r%[e1. 光源 GLcf'$l — 高斯光束 *
Od_Cl 组件 {[jcT>.3j — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 2rB$&>}T 探测器 Cj _Q9/ — 视觉感知的仿真 `a["`N^ — 电磁场分布 oA(jtX[( 建模/设计 %+L:Gm+^g# — 场追迹: <dV|N$WV 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 _.' j'j% qy`@\)S/5 2. 系统说明 |n \HxU3 J|W~\(W6i ua/A &XQx 3. 模拟 & 设计结果 9jDV]!N4 L
Bb&av 4. 总结 z\pT nteO
H~i+:X=I 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 Op" \i E
b-?wzh 第1步 c+f~>AaI 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 JX7_/P O"<D0xzF? 第2步 _"&b%! 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 |P$tLOrG =<YG0K 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 3Nd&*QSV
.5 p"o-:D 应用示例详细内容 W2O
=dG`
H1yl88K 系统参数 5n"b$hMF
'v GrbmK 1. 该应用实例的内容 I5mnV<QA^ b] DF7 U X~*1 2. 设计&仿真任务 jmxjiJKP
O]DZb+O" 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 ZN~:^,PO/ "a6[FqTs 3. 参数:输入近乎平行的激光束 eGHxiC 'H`aQt+ c/DB"_}!a 4. 参数:SLM像素阵列 7<*sP%6bD
oS 7 q#` -GLI$_lLF 5. 参数:SLM像素阵列
)o`|t a[Ah g,h'K 应用示例详细内容 0k>bsn/j
{u{n b3/jl 仿真&结果 $ jWe!]ASU
wb~#=6Y 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM (2RZc].M~ 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 +)k%jIi! 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 0-M.>fwZ= 2a'b}<|[( 2. VirtualLab的SLM模块 V|e9G,z~A
9_)*b
xok8
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 J,Du:|3o
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 \2KwF}[m
k%YvJ XL 3. SLM的光学功能 s_S[iW`l=
uDvZ]Q|. 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 F`IV9qv 为此,将区域填充因子设置为60%。 [0<N[KZ) 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 Z`y%#B6x. F6J,: 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd 1O3"W;SR<: G`8i{3: 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 )65 o 4WU%K`jnXb 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd zO)A_s.6K w g?GEY 4. 对比:光栅的光学功能 6..G/,TB 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 V<:scLm#OF 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 = i9|lU"Va 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 mucKmb/ 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。
cc`+rD5I- 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 bwN>E+
7vO3+lT/Y;
9>?3FMKdY 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd ]yI~S(
qM%l 5. 有间隔SLM的光学功能 UP]X,H~stU 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 +PT/pybA |rW,:&; 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd d h5% K;j}qJvsb 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 <4UF/G) "g}m xPe o^HzE;L} 6. 减少计算工作量 ${ fJ] |hGi8
H|@R+ 采样要求: >wx1M1 至少1个点的间隔(每边)。 LWwWxerZ 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 0P)"_x_ yvN;|R
采样要求: VaKBS/y" 同样,至少1个点的间隔。 F&pJ faig 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 )/uu~9SFd 随填充因子的增大,采样迅速增加。 JSO'. [N q8 jI
y@ 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 sUl/9VKl 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 DVC<P}/ 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 BuwJR
Ql. 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 Qmbl_# j\SvfZ0" U42B(ow
%#gHa 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
Km/#\$|} 7. 指定区域填充因子的仿真 A\xvzs.d
x,LQA0 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 H!6nIS9yxt 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 bSbUf%LKt 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 7l+>WB_] 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 )o51QgPy EGD&/%aC [*i6?5}-
8. 总结 'UW]~ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 0{0A,;b Pgdv)i3 第1步 ~r%>x 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 uIeD.I'@{5 6xfG`7Az 第2步 .LQvjK[N 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 ;_]Z3 扩展阅读 !/]vt?v#^ 扩展阅读 cx_.+ R 开始视频 cwK+{*ZH/ - 光路图介绍 I[td:9+hK@ 该应用示例相关文件: (=de#wh2] - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 /C: rr_4=
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