空间光调制器(SLM.0002 v1.1) 9)[)07 -nD}k 应用示例简述 eH*i_g'
1j}e2H 1. 系统细节 YOfYa 光源 E+ XR[p — 高斯光束 5ff5M=M 组件 9Ns%<FRO@ — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 @.dM1DN) 探测器 ?}uvpB1} — 视觉感知的仿真 *y+K{ fM1 — 电磁场分布
31]Vo;D 建模/设计
>h9~
/ — 场追迹: =:TQ_>$Nc2 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 n(n7"+B n"~K",~P 2. 系统说明 E3x<o<v jrm^n_6}; rc`I l{~k 3. 模拟 & 设计结果 <8h3)$ zQGj,EAM} 4. 总结 ZXbq5p_
hO$29_^" 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 6@d/k.3p hA`9[58/ 第1步 &u) qw} 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 jC-`u-_'j SM<qb0 第2步 r$LU$F 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 mkgL/h* S4E@wLi 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 pUgas?e&
d%!yFix;< 应用示例详细内容 O`~L*h_
V Kc`mE 系统参数 3m~3l d
;>]dwsA*P 1. 该应用实例的内容 [H2su|rBI` )R@Y$*fm "/hLZl 2. 设计&仿真任务 1bCS4fs^>
0U2dNLc 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 '?$<k@mJW
@3I?T
Q1 3. 参数:输入近乎平行的激光束 Ax4;[K\Q "nNT9
K| X(]J\?n' 4. 参数:SLM像素阵列 E_xk8X~
fKs3H?| G<~P||Lu^ 5. 参数:SLM像素阵列 2T"[$iH!7 En8L1$_ 7l'1 应用示例详细内容 kPnuU!
Z~"8C Kz 仿真&结果 oTpoh]|[
s%N6^}N 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM pTYV@5| 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 ;s-fYS6(>{ 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 A&Q!W)= h{PJ4U{W 2. VirtualLab的SLM模块 ?bG82@-
?&b"/sRS
1| xKb(_l
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 mldY/;-H!1
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 fp"GdkO#}i
{6wy}<ynC+ 3. SLM的光学功能 ?zK>[L
t3.I ` Z 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 S|BS;VY 为此,将区域填充因子设置为60%。 NV3oJ0f&2 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 2u}ns8wn e" p5hpl 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd @N\
Ht'f 2AjP2 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 &$pA,Gjin\ S^@#%> 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd A~wyn5:_ c=IjR3F 4. 对比:光栅的光学功能 7"k\i= 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 WQY\R!+ 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 v/G^yZa 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 9/5EyV 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 ]Ai!G7s8P 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 fH_Xm :%
7+J<N@.d
.@f)#2 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd J2$=H1-
3;EBKGg| 5. 有间隔SLM的光学功能 3WY:Fn+# 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 \
id(P3M 8t&'Yk 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd h&IF?h hhr>nuA 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 nZkMyRk !%G;t$U=M 1.z !u%2 6. 减少计算工作量 x@<!# d+ )$E'2|Gm/
?B:],aztf 采样要求: lJBZ0 至少1个点的间隔(每边)。 ;UWp0d%
如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 7e<\11uI]a ~ePtK~,dv 采样要求: o%73M!- 同样,至少1个点的间隔。 <h1J+ 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 3+:uV 随填充因子的增大,采样迅速增加。 N+ ei)- |>=\
VX17 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 v!rOT/I 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 z_9qT"vF 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 ;?!pcv Ui 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 z%WOv~8~ F}_Zh9/$( C~VyM1inD
dY]iAJ 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
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qc9q 7. 指定区域填充因子的仿真 Y]HtO^T2
D$bJ s O 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 bn"z&g 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 *uZ'MS 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 %Wb$qpa 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 $*dY f t)*A# ("j*!Dsd
8. 总结 Ty"=3AvRLV 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 /pnQKy. PhC{Gg 第1步 8*yky 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 38(|a5 W|[k]A` 2
第2步 qt#4i.Iu+ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 vke]VXU9z 扩展阅读 }WG -R 扩展阅读 FuZLE%gP 开始视频 Z~Z+Yt;,9a - 光路图介绍 p4{3H+y 该应用示例相关文件: ,V:RE y - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 rlVo}kc7:
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 [=I==?2`X