空间光调制器(SLM.0002 v1.1) c,ccavv{I m!{}Y]FZn 应用示例简述 W<J".2D
'dE G\?v9 1. 系统细节 X bF; 光源 ttEQgkd` — 高斯光束 tTWeOAF 组件 ?y.q<F) — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 SfKm]Z>Hp 探测器 kOv2E] — 视觉感知的仿真 5hNjJqu — 电磁场分布 K\Oz
~,z 建模/设计 4vri=P 2% — 场追迹: h'{}eYb+ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 5F@7A2ZR ]1A"l!yf 2. 系统说明 VieX5 |K},f, czMu<@c [ 3. 模拟 & 设计结果 #+mt}w/ 6pkZ8Vp: 4. 总结 %s.hqr,I
fz%I'+! 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 adHZX {`Ekv/XWa 第1步 ]B;GU 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 ./_o+~\e' :HSqa9>wa 第2步 oY!nM%z/ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Wa#!O$u X#l]%IrW! 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 Z]$RO
X~/hv_@ 应用示例详细内容 _xgF?#
X[L6Av 系统参数 u{0'"jVJ
bM]\mo>z< 1. 该应用实例的内容 l_ycYD$ZA w7b?ve3- t`b>iX%(1t 2. 设计&仿真任务 7U#`^Q}
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.EDL. 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 V K/;ohTTP sb
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3. 参数:输入近乎平行的激光束 w(w%~;\kLP TH_Vw,) <ex,@{n4 4. 参数:SLM像素阵列 $gi{)'z
LOY+^ I!(.tu6u6c 5. 参数:SLM像素阵列 */gm! :Ym S~WsGLF s Pb0+z=L 应用示例详细内容 l~.}#$P]
z/bJDSQ 仿真&结果 9/$D&tRN
3L24|-GxH 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM (bfHxkR. 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 ^%X,Rml<e 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 QcyYTg4i po~l8p> 2. VirtualLab的SLM模块 i2or/(u`
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 D:Zpls.
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 *&X.
{p-b,J9~a 3. SLM的光学功能 Y21,!$4gb
vt`hY4 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 .Z=D|&! 为此,将区域填充因子设置为60%。 c nAwoTt4 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 {r2-^QHF Zmf\A 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd EK:!.Fl 7&G[mOx0 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 4]$cf: 7+aTrE{ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd YH`/;H=$G/ \LB =_W$ 4. 对比:光栅的光学功能 H27J kZ& 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 x1)G!i 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 ZOl
=zn 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 ^n5[pF}Gw 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 >'#G$f 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 {.9phW4Vr?
|xaJv:96%
(;=:QjaoZ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd kzCD>m
u/FnA-L4 5. 有间隔SLM的光学功能 (80#{4kl 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 \(_FGa4j wC@5[e$ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd T*>n
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"J5^ 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 ToIvyeFr BsVUEF ,N uV<I!jyI 6. 减少计算工作量 D%cWw0Oq \ief [
=%AFn9q 采样要求: k))*Sg 至少1个点的间隔(每边)。 =?UCtYN,P 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 b7>^w<ki "H>L!v 采样要求: hd1H 同样,至少1个点的间隔。 j(G}4dib 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 6~\z]LZ 随填充因子的增大,采样迅速增加。 ~uRG~,{rH :bMCmY 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 G~T]m . 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 MGIpo[ 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 2X2,(D! 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 We3*WsX\ /=4P<&J W5*%n]s~
B?c9cS5Mj 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
th8f 7. 指定区域填充因子的仿真 .['@:}$1
w[PWJ! < 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 ay#cW., 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 F?'=iY<h 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 ByeyUw 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 F.?`<7 {e[S?1t=l /h%<e
8. 总结 L1*P<Cb 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 9BB<.
p xbrxh-gV 第1步 3ydOBeY 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 Fa^5.p (+>~6SE 第2步 hb9X<N+p 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 %a+X\\v2 扩展阅读 UiS9uGj 扩展阅读 L7mN&Xr 开始视频 (utm+*V, - 光路图介绍 boo,KhW'Y 该应用示例相关文件: !cw<C* - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 &$ F0
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 I.tJ4