空间光调制器(SLM.0002 v1.1) )e@01l ^vYVl{$bT 应用示例简述 x8\E~6`,
Y:DNu9 1. 系统细节 Z&AHM &,yj 光源 45]Ym{] — 高斯光束 n$XMsl.> 组件 Bl>_&A) — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 %i;r]z- 探测器 0sq=5 BnO — 视觉感知的仿真 67Af} >Q — 电磁场分布 W;xW:
- 建模/设计 O|A~dj` — 场追迹: s:-8 Z\, 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 ]#vvlM>/ w`H.ey 2. 系统说明 o[5=S,' $O;N/N:m hNu>s 3. 模拟 & 设计结果 [lDt0l5^
z*??YUT\M 4. 总结 qat45O4A1
q/W{PBb-2k 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 L%c]%3A ):|G
kSm 第1步 gJ)h9e*m^ 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 pgLzFY[' T! &[ 第2步 .{'Uvn 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 @p9e:[ Zztt)/6* 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 C,sD?PcSi+
a}[=_vb}K 应用示例详细内容 lx A<iQia
F^ %{
; 系统参数 /iuUUCk
89:?.' 1. 该应用实例的内容 %x cM_|AyR YoSo0fQA +O.&64( 2. 设计&仿真任务 } K+Q9<~u
cEh0Vh-] 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 {WM& MA/"UV&M( 3. 参数:输入近乎平行的激光束 IGF37';; NIWI6qCw q N[\J7Pz9 4. 参数:SLM像素阵列 q>(I*=7
84hi, S5P $BR=IYby 5. 参数:SLM像素阵列 <'o 'H Z;"4$@|qE ?@g;[310` 应用示例详细内容 7(+OsE
a@S4IoBg% 仿真&结果 $Z(g=nS>
&bS"N)je 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM BRSgB-Rr7 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 |)!k@?_ 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 0$F _hZU J^F(] 2. VirtualLab的SLM模块 {'=Nb
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H8o%H=I%
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 jr#g>7yM
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 #<WyId(
^NnU gj 3. SLM的光学功能 Ls$g-k%c@Q
5.C[)`_ 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 vhE}{ED 为此,将区域填充因子设置为60%。 LBbo.KxAe3 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 X,JWLS J bHWvKv+ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd TW-zh~|F ~\@<8@N2a6 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 K+`-[v5\ i Ks,i9j 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd /F8\%l+ 1$3XKw' 4. 对比:光栅的光学功能 Q
2SSJ 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 _'v }=:X 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 Y+"hu2aPkY 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 ^b|Nw: 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 Z.Y;[Y
这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 xJH9qc ME
F)<G]i8n~
(fk, 80 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd yZ(Nv $[5
9^
*ZH1 5. 有间隔SLM的光学功能 !EmR (x 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 +{Vwz ixJ20A7 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd 5(MZ%-~l {,-5k.P[ 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 !>kv.`|7~ FOUs=
E[ oN6*WNt J 6. 减少计算工作量 M-qxD"VtV= W|-N>,G
X^_+%U 采样要求: I;11j 至少1个点的间隔(每边)。 !Bd*
L~D 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 {+UNjKQC 3W0E6H" 采样要求: 4M<JfD 同样,至少1个点的间隔。 +q_lYGTiO 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 v[yTk[zd0 随填充因子的增大,采样迅速增加。 w<F;&';@h lTOM/^L 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 8hdAXWPn 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 5N3!!FFE 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 bmq XP 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 ";Ig%] feq6!k7 s3E~X
^B6i6]Pd=9 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
>~wk 7. 指定区域填充因子的仿真 R#Nd|f<
uSQ>oi] 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 $8T|r+< 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 5bznM[%xO 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 ]{6yS9_tuI 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 qL;T&h G$kwc
F'C $I6eHjYT
8. 总结 'hi\98y 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 F?,&y)ri
ZYD88kQ 第1步 $}nUK~$GSv 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 Rd1ku= %d#)({N 第2步 5NvyK[w] 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 uj1E*
98m 扩展阅读 1
GHgwT 扩展阅读 QKaj4?p$|S 开始视频 I7z]%Z - 光路图介绍 *=If1qZs 该应用示例相关文件: [11-`v0 - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 8OtUY}R
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 '%RK KA