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    [技术]空间光调制器像素处光衍射的仿真 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-11-11
    空间光调制器(SLM.0002 v1.1) bG>pm|/  
    "gdm RE{x  
    应用示例简述 O@3EJkv  
    Q/iaxY#  
    1. 系统细节 TeQWrm s  
    光源 FpfOxF6A3  
    — 高斯光束 ?N#mD  
     组件 SPL72+S`,  
    — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 MyuFZ7Q4$  
     探测器 'oHtg @  
    — 视觉感知的仿真 !1dCk/D&)8  
    — 电磁场分布 >E?626*  
     建模/设计 C$)#s{*  
    — 场追迹: :n>m">4  
     一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 r M'snW)  
    PF@<>NO+W  
    2. 系统说明 &oYX093di  
    ~LHG  
    ?D\6CsNp(2  
    3. 模拟 & 设计结果 %\[LM$f{z  
    npz*4\4  
    4. 总结 8:-[wl/@  
    6+FmYp  
    考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 bR49(K$~  
    /l0\SVwa>  
    第1步 'HkV_d[li  
    将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 UBi0 /  
    (C,PGjd  
    第2步 hp,bfcM  
    分析不同区域填充因子的对性能的影响。 pF#nj`L  
    ,/|"0$p2x  
    产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 8@Xq ,J  
    &iL"=\#  
    应用示例详细内容 Oh~J yrZy  
    +D`IcR-x  
    系统参数 d~O\zLQ;  
    Z|uUE   
    1. 该应用实例的内容 MaXgy|yB1  
    ,#UaWq@7  
    #G|iEC0C  
    2. 设计&仿真任务 cW26TtU(  
    : UD<1fh  
    由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 {Aj}s3v  
    ,K6s'3O(LW  
    3. 参数:输入近乎平行的激光  _*9eAeJ  
    A/W0O;*q  
    %-i2MK'A  
    4. 参数:SLM像素阵列 wvcG <sj  
    7:R8QS9  
    )O"5dF1l  
    5. 参数:SLM像素阵列 |JSj<~1ki  
    R.!'&<Svq  
    Q~#udEajI  
    应用示例详细内容 &2Q4{i  
    eFp4MD8?  
    仿真&结果 7P?z{x':T  
    :o&qJ%  
    1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM h:<p EL  
     由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 !GURn1vcAe  
     内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 vR3'B3y  
    .4Jea#M&x  
    2. VirtualLab的SLM模块 O2us+DhQ  
    %/CCh;N#  
    Im+<oZ  
     为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 C!]hu)E  
     必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 dG'aJQw  
    s}uOht} o  
    3. SLM的光学功能 w [D9Q=  
    fDNiU"  
     在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 kTT!gZP$  
     为此,将区域填充因子设置为60%。 p}.L]Y  
     首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 /z>G= kA  
    :,Q\!s!  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd (g`G(K_  
    r;g[<6`!S  
     此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 Jv %, v?  
    2)Grl;T]s  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd x?9rT 0D  
    <[@AMdS  
    4. 对比:光栅的光学功能 X&8&NkH  
     上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 %(MaH  
     所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。  ztKmB  
     通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 WId"2W3M  
     级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 z8G1[ElY  
     这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 [KLs} ~H  
    -hiG8%l5  
    uPr'by  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd JcL4q\g  
    5 >S #ew  
    5. 有间隔SLM的光学功能 _HW~sz|  
    现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 N_rz~$|@9  
    RZ-=UIf  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd <u]M):b3  
    %4|*  
    下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 0}C> e`<'  
    As }:~Jy|  
    m-Q!V+XQp  
    6. 减少计算工作量 Q1yMI8  
    2#1"(m{  
    M!Q27wT8 O  
    采样要求: I(tMw6C$:  
     至少1个点的间隔(每边)。 v W=$C  
     如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 ?f f!(U  
    &*}`uJt  
    采样要求: M3P\1  
     同样,至少1个点的间隔。 r6S-G{o  
     假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 R?MRRq  
     随填充因子的增大,采样迅速增加。 VPW@y  
    Yef=HSzo  
     为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 r@b M3V_o  
     如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 oS6dcJHf  
     如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 & mwQj<Z  
     通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 v;m`d{(i2  
    kZ7\zbN>  
    {w:*t)@j  
    J<hqF4z  
    减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
    $/*1 9 e~  
    7. 指定区域填充因子的仿真 cq:<,Ke  
    ere h!  
     由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 (K9pr>le  
     全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 yvR3|  
     因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 S:2M9nC  
     在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 hWc`4xdl  
    .)=T1^[hI  
    @uA=v/>+  
    8. 总结
    c=d` DJ  
    考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 eb1WTK@  
    pRR1k?  
    第1步 Qp>'V<%m-  
    将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 <14,xYpE  
    ?R-4uG[(  
    第2步 QAGR\~  
    分析不同区域填充因子的对性能的影响。 /B"FGa04p(  
    扩展阅读 <[.{aj]QV  
    扩展阅读 6sceymq  
     开始视频 ?{=& Ro  
    -    光路图介绍 *<r\:g  
     该应用示例相关文件: X%(1C,C(  
    -     SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 10tlD<eYb  
    -     SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究
    N"/J1   
     
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