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    [技术]空间光调制器像素处光衍射的仿真 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-11-11
    空间光调制器(SLM.0002 v1.1) Lco~,OE  
    _ q(ko/T  
    应用示例简述 cpe+XvBuK  
    4~ q5,^kgB  
    1. 系统细节 tGD6AI1"I  
    光源 /1Qr#OJ(]  
    — 高斯光束 e{h<g>7  
     组件 y_'Ub{w  
    — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 7yG#Z)VE  
     探测器 8{|8G-Mi  
    — 视觉感知的仿真 "$~':) V"  
    — 电磁场分布 dWM'fg  
     建模/设计 h(<,fg1  
    — 场追迹: Um }  
     一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 ob+b<HFv  
    bH-ub2@qO  
    2. 系统说明 +s"hqm  
    }Q)#[#e  
    l3KVW5-!gS  
    3. 模拟 & 设计结果 rR$h*  
    Yw22z #K  
    4. 总结 s6ZuM/Q  
    tf =6\p  
    考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 jTf@l?|  
    =4vy@7/  
    第1步 9V'%<pk''(  
    将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 _ ?TN;  
    &qLf@1AD  
    第2步 )) Zf|86N  
    分析不同区域填充因子的对性能的影响。 O ~(pg  
    7WZrSC  
    产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 4]rnY~  
    UN7EF/!Zz  
    应用示例详细内容 fr,7rS/w{l  
    g-qP;vy@"q  
    系统参数 SIe="YG]<  
     ^le<}  
    1. 该应用实例的内容 zqd@EF6/bz  
    ylUb9KusOx  
    2:*w~|6>}5  
    2. 设计&仿真任务 Y4%:7mw~=  
    pEw"8U  
    由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 f'8kish  
    SEORSS  
    3. 参数:输入近乎平行的激光 OHv[#xGuV?  
    `{4i)n%e&  
    3NZK*!@ '  
    4. 参数:SLM像素阵列 M])ZK  
    w;D+y*2  
    (w&F/ynO:  
    5. 参数:SLM像素阵列 4pe'06:  
    E"\/ M  
    M\C"5%2Mu  
    应用示例详细内容 \:R%4w#Jv  
    t4{rb, }W  
    仿真&结果 #XK2Ien)Z  
    X$%'  
    1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM 1m+p;T$  
     由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 $r@ =*(  
     内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 z,|r*\dw  
    BW-`t-,E;  
    2. VirtualLab的SLM模块 /{|EAd{  
    |].pDwgt  
    85lCj-cs  
     为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 Z/Eb:  
     必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 ]d55m/(   
    >d~WH@o`G  
    3. SLM的光学功能 ?:Mr=]sD  
    ^F>cp ,x  
     在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 /`9sPR6e  
     为此,将区域填充因子设置为60%。 XttqO f  
     首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 CPgCjtY  
    #btLa\HJ  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd EJ@?h(O  
    U0=]  
     此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 nJbtS#`G4  
    r/& sub"X  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd uC.K<jD%  
    2#o>Z4 r{  
    4. 对比:光栅的光学功能 c?P?yIz6p  
     上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 @95FN)TXZY  
     所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 5>VY LI  
     通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 %R1tJ(/  
     级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 vQ<90Z xqB  
     这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 f5F@^QXQ  
    0MV>"aV  
    '[J<=2&  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd whonDG4WP  
    VQY&g;[d  
    5. 有间隔SLM的光学功能 5pU2|Bk /  
    现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 Zkx[[gzL  
    pp.6Ex (R  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd jxiC Kx,G  
    H1I{/g  
    下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 J%V-Q>L  
    Av?2<  
    N+zKr/  
    6. 减少计算工作量 ii%+jdi.  
    A; 5n:Sd  
    Z?pnj8h-&  
    采样要求: |_}2f  
     至少1个点的间隔(每边)。 D6CS8 ~"  
     如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 T_X6Ulp  
    _8Z_`@0  
    采样要求: bfA=3S"0  
     同样,至少1个点的间隔。 DjI3?NN  
     假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 ;^ La"m  
     随填充因子的增大,采样迅速增加。 Vm5c+;  
    ]BtbWKJBqe  
     为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 Z-8Yd6 4  
     如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 # S}Z8  
     如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 O@MGda9_;  
     通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 ZeUvyIG  
    "8 ~:[G#  
    uA,>a>xYI  
    cZH-"  
    减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
    `Q+ (LBP  
    7. 指定区域填充因子的仿真 H~GQ;PhRx  
    MS>t_C(  
     由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 *5 |)-E  
     全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 F.-R r  
     因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 @o#!EfZyE  
     在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 !Gu%U$d  
    S;~g3DC d  
    (T>nPbv)  
    8. 总结
    @Ys!DScY,  
    考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 Jg]'+>,J  
    '\Jj8oJQj  
    第1步 {~h*2n  
    将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 BBH0OiV=  
    UbEb&9}  
    第2步 bV edFm  
    分析不同区域填充因子的对性能的影响。 +E1I");  
    扩展阅读 AjJURn0`,!  
    扩展阅读 zG' "9kJx  
     开始视频 }"|"Q7H  
    -    光路图介绍 :ml2.vP  
     该应用示例相关文件: o@#Y8M  
    -     SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 |} {B1A  
    -     SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究
    uC8L\UXk  
     
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