空间光调制器(SLM.0002 v1.1) /%aiEhL RyB~Lm`ZK% 应用示例简述 \,Lo>G`!
H y"x 1. 系统细节 XNMa0 光源 Do%-B1{ri — 高斯光束 IL/Yc1 组件 7`IpBm< — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 /"H`.LD.? 探测器 )Rat0$6 — 视觉感知的仿真 =$8nUX` — 电磁场分布 kPBV6+d~ 建模/设计 L\{IljA — 场追迹: e^YHJ>@ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 |sZ! $N']TN 2. 系统说明 wfvU0]wk} 0n ~ Zz \k`n[{ 3. 模拟 & 设计结果 BG^C9*ZuP H
xV#WoYKj 4. 总结 y|&}.~U[
F["wDO 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 &bz:K8c 'evj,zFhW 第1步 ]{
BEr* 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 *tOG*hwdT R8L_J6Kpa 第2步 n26Y]7N 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 6J~12TU, CSbI8 5F 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 X.K<4N0A9J
?.c;oS| 应用示例详细内容 WD;Y~|
@ ''GPL@ 系统参数 t&5%?QyM
Sx:Ur>?hd5 1. 该应用实例的内容 Nfe>3uQK nhSb~QqEh xt'tL:d 2. 设计&仿真任务 vB37M@wm
rPc7(,o* 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 S0g'r
!;6 wi8Yl1p]!z 3. 参数:输入近乎平行的激光束 Zn,>]X 1iL'V-y 'sp-%YlM - 4. 参数:SLM像素阵列 cH<q:OYi
Sx*oo{Kk% %xlqF< 5. 参数:SLM像素阵列 =.|J!x T,fI BD: #U=X NU}k 应用示例详细内容 9p 4"r^
H4OhIxK 仿真&结果 d_S*#/k
~9F ,% 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM 4>^K:/y 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 wn>edn 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 Fg$3N5* _<$>*i
R 2. VirtualLab的SLM模块 H9 C9P17
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 =O _z(
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 B:"THN^
V&soN:HS 3. SLM的光学功能 TGuiNobD
ULc`~] 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 in<Rq"L 为此,将区域填充因子设置为60%。 hA 3HVP_ 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 $(s\{(Wn }],Z;: 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd pqvOJ#?Q}= 8$|8`;I( 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 *5sBhx Nf+b"&Zh` 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 4fh^[\ zeP}tzQO 4. 对比:光栅的光学功能 ,3v+PIcMM+ 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 -Z4{;I[Q@ 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 6,1b=2G 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 {^{p,9 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 NT%W;)6m9 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。
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\&V0vN1
h:XzUxL\ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd |5I'CNi\
jO9ip 5. 有间隔SLM的光学功能 |6J ?8y 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 q,<[hBri- d;tkJ2@NO 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd HhA -[p )T907I| 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 1ju#9i`.Wg })vOaYT|- [MX;,%;; 6. 减少计算工作量 0YH+B 2Zuq?1=
j^`X~gE 采样要求: v,NHQyk 至少1个点的间隔(每边)。 ?[ly`>KpJ 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 NIZ<0I*5 "%WgT2)m. 采样要求: ,!G{5FF8: 同样,至少1个点的间隔。 ?&WYjTU]H 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 "wH) mQnd 随填充因子的增大,采样迅速增加。 M|T4~Q U& T1B|w"In 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 e"-X U@`k1 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 ?wMHS4 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 5_K5?N 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 k'`m97B tc_f;S`k N;F)jO
xsl
G@!z$ 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
<j}lp- 7. 指定区域填充因子的仿真 N5|Rmfo1
fnzy5+9" 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 78n}rT%k1 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 u#W5`sl 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 -9P2`XQ^ 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 6XEZ4QP} ydl jw m(D]qYwh
8. 总结 ,zcQS-e2 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 iWX c x9>\(-uU 第1步 Gtv,Izt 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 pvWau1ArNq OQ/<-+<w 第2步 Pvo#pY^dXX 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 ]>##`X 扩展阅读 oqkVYl E 扩展阅读 i;\s.wrzH 开始视频 -P=g3Q i - 光路图介绍 `Y?t@dd 该应用示例相关文件: TmRxKrRs - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 n_[i0x7#
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