空间光调制器(SLM.0002 v1.1) 1*6xFn [#G*GAa6* 应用示例简述 W|E %
J,=ZUh@M 1. 系统细节 iweT@P` 光源 _7qa~7?f — 高斯光束 E.0J94>iM 组件 -eD]gm — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 MZWv#;.] 探测器 rz`"$g+# — 视觉感知的仿真 q
\fyp\z — 电磁场分布 J p^#G2 建模/设计 T-+ uQ3 — 场追迹: darbL_1 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 BG.sHI{ 0ZLLbEfnPB 2. 系统说明 Eht8~"fj '{.8tT?tJ H;q[$EUNb 3. 模拟 & 设计结果 ;R<V-gab Bu?Qyz2O 4. 总结 @[f$MRp\
\!w | 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 nqTOAL9FF {9Ok^O 第1步 ;kR=vv 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 a0 PU&o1EF z!.cc6R 第2步 *DZ7,$LQ~D 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 |b^UPrz)VS %""h:1/S 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 4}UJBb?
4vvQ7e7 应用示例详细内容 {^:NII]
"Y4glomR[ 系统参数 o-AF_N
:qAX9T'{t 1. 该应用实例的内容 c^puz2 J6>tGKa+e %3"U|Za+ 2. 设计&仿真任务 :V@)A/}uk
/EegP@[ 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 !#*#ji xo nG{o$v_| 3. 参数:输入近乎平行的激光束 &N+`O)$ CPeu="[ sX*L[3!vN 4. 参数:SLM像素阵列 l%?4L/J)#
c5 AaUza DO+~ 5. 参数:SLM像素阵列 Dfc%
jWbA xirq$sEl DnG9bVm> 应用示例详细内容 '.>y'=
$;~YgOVZ5 仿真&结果 _6`GHx
X%N!gy 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM ~F-lO1 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 #`K {vj 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 ![fNlG!r o`7 Z<HF 2. VirtualLab的SLM模块 7sWe32
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 :=5X)10
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 1w7XM0SHcn
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3. SLM的光学功能 B*Om\I
".N{v1 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 YK$[)x\S 为此,将区域填充因子设置为60%。 qbCU&G|) 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 R?/xH=u> h| `R[ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd ]\oT({$6B l]Xbd{ 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 A"s?;hv\fS ur=:Ha 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd AkdO:hVtG ~gOZ\jm} 4. 对比:光栅的光学功能 x >tm[k 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 ~-uf%= 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 c#1kg@q@ 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 11Qi
_T\ 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 F?6Q(mRl 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 7#oq|5
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Tp.]{* 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd %g89eaEZ
1^V.L+0s] 5. 有间隔SLM的光学功能 iQT0%WaHl 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 yGrnzB6| "L1LL
iS 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd bb\XZ~)F ZU`~@.`i 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 Bt5 P][< rnp; R [e@m-/B 6. 减少计算工作量 A{k1MA<F6 8;c\}D
O@W/s!&lFa 采样要求: 6#K.n&=* 至少1个点的间隔(每边)。 P>)J:.tr0 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 S~ S>62 xfC$u`e= 采样要求: T5e#Ll/ 同样,至少1个点的间隔。 2G!z/OAj 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 2EN}"Du]mj 随填充因子的增大,采样迅速增加。 {hN<Ot &y|Ps eH" 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 &m[}%e%~0 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 ' S,g3 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 c;-NRvVb 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 tq@)J_7| }NGP! ? u".*!%
>SziRm>Y7 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
w`+-xT% 7. 指定区域填充因子的仿真 ) R5j?6}xF
\-{$IC-L 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 &`vThs[x 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 .f;@OqU 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 k\*?<g 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 #Cy3x-! +|8.ymvm tl7:L>
8. 总结 _h,_HW)G 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 xx7&y!_ >+.GBf<E 第1步 vdB2T2F 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 (JnEso-V }Y!s:w# 第2步 .m>Qlh
分析不同区域填充因子的对性能的影响。 O'#;Ge/, 扩展阅读 w'$>E4\ 扩展阅读 ?[>Y@we 开始视频 matm>3n - 光路图介绍 T"C.>G'[B 该应用示例相关文件: omy3<6 - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 w2/3[VZ}l
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