空间光调制器(SLM.0002 v1.1) t&Os;x?To? Z}A%=Z\/3 应用示例简述 P #F=c34u
p,pR!qC> 1. 系统细节 )? M9|u 光源 K
]OK:hY4 — 高斯光束 }0`nvAf 组件 ,B&fFis — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 8 #X5K 探测器 )Dp/('Z2 — 视觉感知的仿真 X0;4_,= — 电磁场分布 GsbAlNP 建模/设计 `dMqe\o%! — 场追迹: p47S^gW 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 e7fiGl v1k)hFjPK 2. 系统说明 49Df?sx G'zF)0oD M}_i52 3. 模拟 & 设计结果 _ ~RpGX w:Jrmx 4. 总结 gw`B "c|
m+{K^kr[ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 cWGDee( }),w1/#5u8 第1步 _ 7PMmW@ 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 cr?7O;, ]nQt>R p_ 第2步 1C Pjil*eb 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 >3:?) dt[k\ !-v 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 KV|}# <dD
=Cv/Y%DN 应用示例详细内容 LAx4Xp/
6OiSK@<Hk 系统参数 T&T/C@z'R
?6c-7QV 1. 该应用实例的内容 2#X4G~>#h
O=) >vrxP8_
2. 设计&仿真任务 *'"T$ib
k{tMzx]F__ 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 SxyONp.$\ ,U *)2`[ 3. 参数:输入近乎平行的激光束 |8%m.fY` VN4yn| f/ 2>}xhQJ 4. 参数:SLM像素阵列 o }Tz"bN
H7+Xs% ?::NO Dg 5. 参数:SLM像素阵列 RWgDD;&_[a &X9Z
W$C ~zm7?_"@] 应用示例详细内容 #X:
'aj98
ES <1tG 仿真&结果 1%M&CX
M >:]lpRK 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM >$gG/WD?KR 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 6#}93Dgv4 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 oHM
] >Sa*`q3J 2. VirtualLab的SLM模块 G.+l7bnZM
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7+8C*J
l5Y/Ok0,
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 rzrl>9
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必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 M)?dEgU}M
: FAH\ 3. SLM的光学功能 ka\OJ7u
bG&"9b_c 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 QQk{\PV 为此,将区域填充因子设置为60%。 rA0,`}8\ 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 UX`]k{Mz y AF+bCXo 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd 8,?v?uE e73^#O&Xt 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 , xx6$uZ 4@ILw 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd _2fkb=2@ &m3.h!dq 4. 对比:光栅的光学功能 kH*P n' 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 >idBS 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 BhpOXqg 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 @/J[t 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 [#" =yzR<3 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 C8@TZ[w
r%wA&FQ8U
/9Q3iV$I] 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd CZ2`H[8
B bhfG64 5. 有间隔SLM的光学功能 a\kb^D=T 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 Ap&)6g :Ud[f`t 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd F0~k1TDw e"-X U@`k1 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 +y[@T6_ |sqZ $Mu <Y 4:'L6 6. 减少计算工作量 OwzJO JnD{J`:
N\t1T(C| 采样要求: N)R[6u} 至少1个点的间隔(每边)。 PZ:u_*Vu` 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 M"=n>;*X "re-@Baw 采样要求: "SWMk! 同样,至少1个点的间隔。 dYFzye 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 RKd 随填充因子的增大,采样迅速增加。 9z
m|Lbj (A k\Lm
为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 [~5p>' 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 KYJ1}5n 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 z^*
'@ 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 )!9Ifk0KH gLD`wfZR ;SwC&.I
5`^o1nGO' 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
#$S}3
o 7. 指定区域填充因子的仿真 h4&;?T S
c"YXxAJ 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 PL0`d`TI 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 &Y|Xd4: 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 #~:P}<h 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 n[xkSF^) Df07y<>7Q S{F-ttS"
8. 总结 [um&X=1V8 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 =Je>`{J +,'T=Ic{ 第1步 H(+<)qH 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 T~4mQuYi ,a|@d}U 第2步 9pWy"h$H 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 ,1n
>U?5 扩展阅读 ~d>%,?zz 扩展阅读 Z%o7f6P0IX 开始视频 ={(j`VSUX0 - 光路图介绍 I\P Bu$Ww 该应用示例相关文件: ?dy~mob - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计
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