空间光调制器(SLM.0002 v1.1) cW%O- <5^(l$IBj 应用示例简述 Wuz~$SU
DgP%Q 1. 系统细节 gWPa8q<b 光源 k,(_R= — 高斯光束 f ebh1rUX 组件 =hlu,
B y — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 &d;$k 探测器 a^,RbV/ — 视觉感知的仿真 M] *pBc(o0 — 电磁场分布 TR20{8" 建模/设计 ?Ea"%z*c5 — 场追迹: 7mBL#T2 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 %q^]./3p /ep~/#Ia 2. 系统说明 xnOlV Z;s-t\C b>WT-.b0 3. 模拟 & 设计结果 55\mQ|.Jn i|GC 'XD@ 4. 总结 V|`|CVFo]
z`SkKn0f
Y 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 BD+?Ad? @9a=D<'> 第1步 P!EX;+7+x 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 r0>T7yPAK qiN'Tuw9 第2步 X;tk\Ixd 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 _{%H*PxTn= K(2s% 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 @d|9(,Q
IgL8u 应用示例详细内容 k"$V O+}m
o5uwa{v 系统参数 R#M).2::
{VG6m
Hw 1. 该应用实例的内容 tHeLq*)) ;*p}~#2 VXS9E383 2. 设计&仿真任务 =KLYR UW
+l(}5(wc 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 }p~%GA.=98 AbB>ZT>hR 3. 参数:输入近乎平行的激光束 rB]/N,R bv "S( v]~[~\|a 4. 参数:SLM像素阵列 ix;8S=eP~{
?%(*bRV - f`e.c_n( 5. 参数:SLM像素阵列 g:yK/1@Hk} z?xd\x ;f
Gi5=- 应用示例详细内容 0'uj*Y{L
FceT' 仿真&结果 &0raa
,U}8(D~: 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM C'ZU .Y
由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 Yi`.zm 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 [Wc 73- \N30SG?o 2. VirtualLab的SLM模块 4~4Hst#^
*6L^A`_1]
v]v f(]""
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 "'Ik{wGc
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 q2y:bqLWl
) =[Tgh 3. SLM的光学功能 ~$B,K]
ryN-d%t? 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 UWHC]V? 为此,将区域填充因子设置为60%。 |@RO&F 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 bHCd|4e,2 W3b\LnUa 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd 2r,fF<WQ TR |; /yJ 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 })B)-8 Hi Yx(hY 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd (ZYOm A.[T#ZB.4 4. 对比:光栅的光学功能 S`::f(e 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 )lbF'.i 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 ee0J;pP2# 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 kHO\#fF< 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 -}%zus5 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 wZ^/-
0*q:p`OLw*
UxW~yk 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd xK/`XY
k(MQ:9'| 5. 有间隔SLM的光学功能 +=R:n^r^, 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 hRP0Djc -Je+7#P1 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd ]n+:lsiV *)`:Nm~y 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 ]n{2cPx5d =Zj9F1E[i 7cC$) 6. 减少计算工作量 +wmfl:\^{H _Qv4;a
C oaqi`v4T 采样要求: | c;S'36 至少1个点的间隔(每边)。 J(Bn
n 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 $z<CkMP!U7 P5N"7/PfW 采样要求: 4ngiad6bR 同样,至少1个点的间隔。 #8PjYB 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 ;,viE~n 随填充因子的增大,采样迅速增加。 :7R\"@V4 $1axZ~8sS 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 O&}0 7( 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 |PWLFiT(> 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 2]@U$E='s 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 hJ|z8Sy@1 toF@@% 9(m^^
ar6Z?v$ 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
a@%FwfIu 7. 指定区域填充因子的仿真 ]|-y[iu
^0r@", 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 Cnn,$R=/s 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 6:e0?R^aD" 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 _8bqk\m+ 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 ~sM334sQ lY6U $*9c 5~\W!|j/
8. 总结 =~R0U 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 blLX ncyD W7.]V)$wM 第1步 *QrTZ$\C 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 *`dGapd3 @.%ll n 第2步 }@x0@sI9 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 3 iY`kf 扩展阅读 P/^:IfuR 扩展阅读 ?A]:`l_" 开始视频 b6#V0bDXHD - 光路图介绍 `AYHCn 该应用示例相关文件: S:Hg
=|R - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 ]E,
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 u\6:Txqq