空间光调制器(SLM.0002 v1.1) X'J!.Jj :5[1Iepdn 应用示例简述 ?egZkg=U
e!=~f%c<N 1. 系统细节 7 g|EqJ7 光源 ^v5<* uf%m — 高斯光束 t.Yf8Gy 组件 } fJLY\ — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 2rxz<ck( 探测器 p(!d,YSE — 视觉感知的仿真 l i)
5o — 电磁场分布 \b*z<Odv 建模/设计 n7/>+V+ — 场追迹: Zo<j"FG 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 &embAqW: gy Ey=@L 2. 系统说明 6aKfcvf & ^Lv)){t *RM 3_ 3. 模拟 & 设计结果 UDW_?SHAx \}71pzw( 4. 总结 B \LmE+a>
l[<U UEjZJ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 Rga
*68s|& \V#fl 第1步 &%`WXe-`R 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。
<Hr~|oG ;;|.qgxc~ 第2步 C6'K)P[p 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 >hY.F/[ E[cH/Rm 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 m/3,;P.6
xqb*;TBh* 应用示例详细内容 SuXeUiK.[
8Si3
aq3 系统参数 ;0lY_ii
IGOEqUw* 1. 该应用实例的内容 i1ScXKO ;I?x;lH !Df>Q5~g 2. 设计&仿真任务 IN75zn*%
O(6j:XD 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 (K_{a+$[ Iz[ohn!f 3. 参数:输入近乎平行的激光束 ?,i}Qr [Q m}7Nu ~F8xXW0 4. 参数:SLM像素阵列 pI_dV44W
Y?$ &->ngzg 5. 参数:SLM像素阵列 k{H7+;_ 1|m%xX,[ JT&RaFX 应用示例详细内容 3m| C8:
VeSQq 仿真&结果 4fL`.n1^
v-BQ>-& s 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM !hFhw1 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 FA+"t^q 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 c8T| o=`k6 &%%ix#iF 2. VirtualLab的SLM模块 >7PNl\=gG
A'.=SA2.Y
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 yO}5.
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 C T\@>!'f
b;%t*?t 3. SLM的光学功能 Z #T
wSw> UU 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 ',c~8U#q 为此,将区域填充因子设置为60%。 U
E$Ix 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 a9UXg<4 Kk*8 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd l&}}Io$?@
xH&hs$= 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 I~:gi@OVV v+I-*,R 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd #=VYq4B= G[`1Yw$ 4. 对比:光栅的光学功能 J/O{x 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 =#v? }JG 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 L7d1)mV 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 Q@7d:v 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 0y6M;"&~E 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 5mC"8N1)
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eZaSV>27 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd tc<uS%XT4^
[:FiA?O] 5. 有间隔SLM的光学功能 #c5jCy}n 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 R(`:~@3\6 ^lAM /
所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd }f]Y^>-Ux OQ7 `n<I<) 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 I# &r5Q ;8eKAh I O:*F0 6. 减少计算工作量 D:;idUO y TD4![
ATl?./T u 采样要求: Y}1c>5{bE 至少1个点的间隔(每边)。 gf1+yJ^d! 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 'gvR?[!t l6y}>] 采样要求: qh:Bc$S 同样,至少1个点的间隔。 Aeb(b+= 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 sVK?sBs] 随填充因子的增大,采样迅速增加。 USEb} M` iN[x
*A|h 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 dF\#:[B 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 w?8SQI,~X 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 C/IF~<B 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 ,VHqZ'6 ^>?=L\[ =c'4rJ$+
H*'1bLzq 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
"FWx;65CR 7. 指定区域填充因子的仿真 eHuJFM
MQQm3VaKS 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 U}RBgPX! 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 0RT 8N=B83 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 4"|Xndh1. 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 _cX}!d!j A~2)ZdAN O\ZC$XF
8. 总结 Zd6ik&S
考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ;:fW]5"R wSN9`" 第1步 x9vSekV 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 [OW <<6 4|=>gdW)KN 第2步 x#J9GP. 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 #wI}93E 扩展阅读 LE\=Y;% 扩展阅读 .|Huzk+ 开始视频 N/bOl~!y - 光路图介绍 U!aM63F3 该应用示例相关文件: D%p*G5Bg3 - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 JaCX}[R
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 P>VoA