空间光调制器(SLM.0002 v1.1) 0V8 6]zSo *(5T?p[7 应用示例简述 <5#2^ (
\L}7.fkb8 1. 系统细节 4b,+; 光源 Hr7pcz/#l — 高斯光束 ,)TnIByM 组件 9HPwl — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 MR5[|kHJT 探测器 .RAyi>\e — 视觉感知的仿真 xsy45az<ip — 电磁场分布 Bc-/s(/Eq 建模/设计 =1VZcLNt — 场追迹: M)Z!W3 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 S,avvY.U\ \!w | 2. 系统说明 P*U^,Jh< 9`"#OQPn1 PY3bn).uR 3. 模拟 & 设计结果 nZ#u#V V,8Z!.MG 4. 总结 cW"DDm
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5j0 Ib>\ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ?4aW^l6/ tTubW=H 第1步 OQKc_z'" 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 ^|hVFM2 vfXNN F 第2步 k\dPF@~Hvl 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 /;[x3}[ 23,pVo 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 xD~r Q$6sI
BgDWl{pm 应用示例详细内容 cnw+^8
gf9U<J#&C 系统参数 Je2&7uR0
`CBXz!v!O 1. 该应用实例的内容 L
8;H_:~_' Tow! 5VAM YTTij|( 2. 设计&仿真任务 nII#uI/!q
02NVdpo[wU 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 <r>Sj/w<D G%zJ4W% 3. 参数:输入近乎平行的激光束 -AolW+Y ;4GGXT++L [kckE-y 4. 参数:SLM像素阵列 >msQ@Ch
F;kKn:X L Qe4 % A 5. 参数:SLM像素阵列 i3d2+N` :O,r3O6 6X?:mn'%QF 应用示例详细内容 G)M! ,
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>ke.ZZV? 仿真&结果 ]sE)-8
i:jB 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM FUJ<gqL 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 %4V$')rek 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 nD]MgT `g) 2. VirtualLab的SLM模块 g>w {{G
Y|J=72!]
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 _Ex<VF u
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 . &`YlK
N`3^:EJL8 3. SLM的光学功能 %X}vuE[[UC
v,z~#$T& 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 KhX)maQ 为此,将区域填充因子设置为60%。 =n_z `I 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 AkdO:hVtG ~gOZ\jm} 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd UIg?3J}R ~-uf%= 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 c#1kg@q@ 11Qi
_T\ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd F?6Q(mRl Q-#<{' ( 4. 对比:光栅的光学功能 .O(9\3q\ 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 Tp.]{* 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 +Wy `X5v 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 #Ufb 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 9^`cVjD5 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 $<C",&
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`kv7Rr}Q 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd l{ql'm
05\0g9 5. 有间隔SLM的光学功能 }u$c*} 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 b`j9}tZ $>uUn3hSx\ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd &(l.jgqg& \*qradgx$ 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 }Qe(6'l_ :hW(2=% d#$Pf=} 6. 减少计算工作量 e6tU8`z PYs0w6o
L:mE)Xq2 采样要求: R^sgafGl= 至少1个点的间隔(每边)。 9HiyN>( 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 Ui9;rh$1eU !7Qj8YmS 采样要求: 8g-Z~~0W1 同样,至少1个点的间隔。 ,`!lZ|
U 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 JC~4B3! 随填充因子的增大,采样迅速增加。 zSk`Ou8M *B{] 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 e Y^zs0 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 NV?XZ[<*< 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 f8qDmk5s 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 9=/4}!. ?p 4iXHE .0gfP4{1{
w9RBT(u 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
uTPAf^| 7. 指定区域填充因子的仿真 =3SJl1w1
J|be'V#]1 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 ?$tD 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 !O}e)t 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 re#]zc< 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 5 $$Cav 61&{I>~1 Lc[TIX
8. 总结 I*(kv7(c0 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ;#IrHR*Bk Xo[cpcV 第1步 G,^ ?qbHg 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 W?P4oKsql* rUyGTe(@h 第2步 k{b|w') 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 +%KkzdS' 扩展阅读 h)j#?\KYm9 扩展阅读 aK| 开始视频 tX1`/}`` - 光路图介绍 ]GCw3r(! 该应用示例相关文件: YDYNAOThnb - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 n_LK8
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 /-^J0f+l3