空间光调制器(SLM.0002 v1.1) 4}LF>_+= |I\A0a a 应用示例简述 <Z8] W1)
F[=m|MZb 1. 系统细节 @&ZTEznbyt 光源 h5F'eur — 高斯光束 *VlYl" 组件
?ha}# — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 ~$\j$/A8/ 探测器 X3m?zQbhv — 视觉感知的仿真 ygfqP — 电磁场分布 Fcr@Un' 建模/设计 c&Zm>Qo[
— 场追迹: oNU* q.Q 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 ;W+-x]O 17i^|&J6}: 2. 系统说明 ;%Da { ?*s!&-KI F{"%ey"> 3. 模拟 & 设计结果 I@S<D"af F>b6fUtR 4. 总结 0&nF Vsz
:9h8q"T 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 &"kx(B {f&ga 第1步 Q~@8t"P 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 )[K3p{4 j d81E 第2步 z>0"T2W
y 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Q]7Q qJ/C*Wqic 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 ww,c)$
l46F3C| 应用示例详细内容 lhI;K4#
6+u'Tcb 系统参数 K?tk&0
$"FdS,*qKl 1. 该应用实例的内容 jFXU
xf +i>q;=~ h[8y$.YsC 2. 设计&仿真任务 j%}Jl
LX fiSM{o 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 _-&.=3\1 heKI<[8l 3. 参数:输入近乎平行的激光束 31*6 ;( Xp~]kRm9 _Nn!SE 4. 参数:SLM像素阵列 84[^#ke
*YtNt5u fEjW7 c 5. 参数:SLM像素阵列 O%&@WrFq Vw*x3>` ^8m+*t
应用示例详细内容 RrHnDO'
g=C<E2'i* 仿真&结果 %8L<KJd
S2R[vB4). 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM C P#79=1 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 2jW>uk4/i 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 K*Jtyy}r 9^ r 2. VirtualLab的SLM模块 Ng"vBycy
&XsLp&Do2
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 j1F+,
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 %jxuH+L
=b7&(x 3. SLM的光学功能 BB.TrQM.#
.NT&>X~.V 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 gn"&/M9E 为此,将区域填充因子设置为60%。 w4'K2 7 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 V@S/!h+ k^pu1g=6I 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd A7C+&I!L {_Qxe1^g 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 hPxI&
:N *$(CiyF! 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 1[l>D1F? -YV4
O 4. 对比:光栅的光学功能 =BS'oBn^6 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 <S$21NtM87 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 winJ@IY W 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 zt2-w/[Q 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 A{2$hKqHi 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 j#,M@CE
? SP7vQ/
t4@g;U?o 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd t4/eB<fP
o'7ju~0L 5. 有间隔SLM的光学功能 ZYe\"|x,s 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 |u"R(7N*
sGls^J) 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd eH /Q8A"'Nk 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 }AW)R&m :5M}Iz7 R6Mxdm2P} 6. 减少计算工作量 1vs>2` DLa aRKRy
f_h"gZWV 采样要求: e K1m(E.= 至少1个点的间隔(每边)。 **r? 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 SP7g qM rg^\BUa-W, 采样要求: zXPJ;^Xxa 同样,至少1个点的间隔。 }r~l72
` 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 oHXW])[ 随填充因子的增大,采样迅速增加。 xO<-<sRA ^Pg
YP 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 *7;*@H*jd 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 $ t# ,'M 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 DgT.Lku? 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 $v<hW
A]> %[\x%m) PnIvk]"Ab
+'j*WVE%5 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
^xw [d}0S 7. 指定区域填充因子的仿真 q\t>D
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cvV?V\1f 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 B
Ff.Rd95 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 W/r?0E
因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 #X@<U <R 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 a^\- }4yR *_/eAi/WG iC|6roO!jk
8. 总结 Ky9No"o 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 sJI- .V 3X#t 第1步 M |Q 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 Q`p}X&^a h[je _^5 第2步 e|5B1rMM 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 oj(A`[ 扩展阅读 fFZ`rPb 扩展阅读 'x,GI\;? 开始视频 OZB}aow - 光路图介绍 N<Z)b!o%u 该应用示例相关文件: $:u7Dv}\ - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 \LoSUl
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- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 18p3