空间光调制器(SLM.0002 v1.1) F|WH=s3 OBP iLCq 应用示例简述 y2C/DyuAY|
RQn3y-N] 1. 系统细节 dp1t] 光源 PzLV}
— 高斯光束 afcyAzIB& 组件 9+>%U~U< — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 `,wX&@sN 探测器 l)0yv2[h — 视觉感知的仿真 {O[ !*+O — 电磁场分布 l}Vg;"1'J 建模/设计 #+3I$ k — 场追迹: SR\$ fmo 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 U09@pne8 `udZ =S"/L 2. 系统说明 w?p8)Q6m
odq3@
ziO <gr2k8m6$ 3. 模拟 & 设计结果 uFi[50 ~_SVQ7P 4. 总结 TGPHjSZ1
&[}5yos
r 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ngaQa-8w o Bp.|8- 第1步 $2*&\/;-E! 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 }(if|skau ok9G 9|HA 第2步 >qIZ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 51M'x_8 AwGDy + 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 u]Y NF[]
N_8L8ds5 应用示例详细内容 4=n%<U`Z/
t~]oJ5% 系统参数 x1*@PiO,.
04<T2)QgK 1. 该应用实例的内容 "LH* T u&Dd9kMz 15~+Ga4 2. 设计&仿真任务 vR\[I V?
s((_^yf 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 Sst`*PX: i0~L[v9l< 3. 参数:输入近乎平行的激光束 +^.Q%b0Xx ('pxX+ bYH! P/ 4. 参数:SLM像素阵列 uv
dx>5]
Aonq;} V e -?<L"u 5. 参数:SLM像素阵列 $JXQn oE4hGt5x{ OL"So
u4 应用示例详细内容 DK;/eZe
;R?9|:7 仿真&结果 %4E7 Tu,1
tlFc+3 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM MRHkQE+K@8 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 S$I:rbc 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 P X<,/6g z eL!G, W 2. VirtualLab的SLM模块 Swz1RT
!P26$US%P
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 =<[ZFO~v
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 Q-N.23\1
&_E*]Sj\ 3. SLM的光学功能 DP_bB(
Gu_Rf&: 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。
0-+`{j 为此,将区域填充因子设置为60%。 Fw5r\J87c 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 MPd#C*c uQ.VW/> 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd CQ3{'"b @]h#T4z' 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 w,.Hdd6 ~qT+sc!t 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd uL4@e m,TqyP# 4. 对比:光栅的光学功能 &WHEP dD 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 =;$&:Zjy/% 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 ;mb
6i_ 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 f i!wrvO 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 !J'xk 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 /bylA`IMW
tI C_/
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i,,>@R 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 4p~:(U[q
e"|9%AW@< 5. 有间隔SLM的光学功能 5y"yd6O]O5 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 I>-jKSkwc Ec6{?\ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd I/)dXk~ TniZ!ud 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 ^j=_=Km] oci-[CI, "=f*Lk@[ 6. 减少计算工作量 gi@+27; ^?xXP=/
"5jZS6A] 采样要求: j4}aK2[< 至少1个点的间隔(每边)。 `u-VGd\ 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 M3F8@|2 w-CuO4P 采样要求: }}(~' 同样,至少1个点的间隔。 s_Dl8O4u 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 C.(ZXU7 随填充因子的增大,采样迅速增加。
3nK'yC >uJrq""+ 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 KQ9:lJKr 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 up2%QbN( 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 iKS9Xss8 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 d)o<R;F %r!# H_8@J
"|Q& 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
E>6zwp 7. 指定区域填充因子的仿真 *,-YWx4
w pCS]2 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 mc$c!Ax* 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 329xo03-[ 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 Mm[%v
t40 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 O:BP35z_F @i)tQd!s sy@k3wQ
8. 总结 2iG(v._x 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 z!L0j+ "+Qh,fTt 第1步 Xs`:XATb/ 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 f@/qW!o bL[PNUG 第2步 R&alq 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 "4?hK 扩展阅读 I]
"$h]T 扩展阅读 h.Dk>H_G 开始视频 pM7BdMp - 光路图介绍 #b" IX`5 该应用示例相关文件: R$3JbR. - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 =4%C?(\
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 Y3zO7*-@