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    [技术]空间光调制器像素处光衍射的仿真 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-11-11
    空间光调制器(SLM.0002 v1.1) VsMNi#?  
    (1HN, iJy  
    应用示例简述 sI'HS+~pU  
    puyL(ohem  
    1. 系统细节 a[!d)Y:zx  
    光源 "|%fA E  
    — 高斯光束 ;5l|-&{@*  
     组件 atAA[~  
    — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 O^$Zz<  
     探测器 w#$k$T)  
    — 视觉感知的仿真 M*H G4(n0  
    — 电磁场分布 4%7*tVG  
     建模/设计 eC39C2q\  
    — 场追迹: Lgfr"{C  
     一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 &Os Ritj  
    K!~ ](_W!  
    2. 系统说明 ZSSgc0u^?  
    R}Y=!qjYE=  
    F{+`F<r  
    3. 模拟 & 设计结果 "8]170  
    J)-> 7h =  
    4. 总结 "F}Ip&]hAG  
    FHC7\#p/9Z  
    考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 qQ'@yTVN  
    <i6MbCB  
    第1步 *S4P'JSY  
    将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 }{y$$X<:  
     gk#rA/x  
    第2步 IA4(^-9  
    分析不同区域填充因子的对性能的影响。 p'4P2   
    "LWuN>   
    产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 SAJ=)h~  
    D=vq<X'  
    应用示例详细内容 VLN3x.BY  
    CQ[-Cp7  
    系统参数 6hq)yUvo4  
    ZM?r1Z4  
    1. 该应用实例的内容 zJ`(LnV  
    [  _$$P*  
    1 %`:8  
    2. 设计&仿真任务 QR'g*Bro  
    pH [lj8S  
    由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 O :^[4$~  
    R2`g?5v  
    3. 参数:输入近乎平行的激光 r|@?v,  
    =;=V4nKN  
    O;BPd:<  
    4. 参数:SLM像素阵列 sD +G+  
    uyj*v]AE'  
    |Ze}bM=N  
    5. 参数:SLM像素阵列 R-fjxM*  
    qS|VUy4  
    j.}V~Sp*  
    应用示例详细内容 "r"An"  
    O$/ swwB!  
    仿真&结果 f:5/y^M&  
    CF"3<*%x  
    1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM "n, ZP@M;  
     由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 AHY)#|/)  
     内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 E|  
    Q{hOn]"  
    2. VirtualLab的SLM模块 8v 1%H8  
    [i1D~rCcn  
    `h!&->  
     为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 3+5\xRq  
     必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 :q<%wLs  
    2kq@*}ys  
    3. SLM的光学功能 E(_I3mftm  
    eE%yo3  
     在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 neFno5dj  
     为此,将区域填充因子设置为60%。 vP NZFi-(  
     首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 ,z )NKt#  
    "Cj#bUw  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd L0  2~FT  
    12xP)*:$  
     此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 RsfT Ub)<  
    Ki6.'#%7  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd >%dAqYi $  
    Ec*7n6~9  
    4. 对比:光栅的光学功能 SfSEA^@|  
     上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 1/+r?F 3  
     所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 7h/Q;P5  
     通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 , %O3^7i  
     级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 uN3J)@;_  
     这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 =w$"wzc  
    gr{Sh`Cm-  
    %P,^}h7  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd $!!=fFX*y  
    }QW~.>`  
    5. 有间隔SLM的光学功能 Sc 3M#qm_  
    现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 .hNw1~Fj  
    W<]Oo]  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd SJ7=<y}[d  
    ^GaPpm  
    下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 hcc-J)=m  
    @/NZ>.  
    [mzF)/[_2  
    6. 减少计算工作量 LEnP"o9ZW  
    Mqf}Aiqk;  
    O[p^lr(B7  
    采样要求: ":^ NLBm>5  
     至少1个点的间隔(每边)。 ff./DMDafI  
     如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 P^m 6di  
    =&:f+!1$  
    采样要求: l@/kPEh  
     同样,至少1个点的间隔。 +Z~!n  
     假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 #33RhJu5,  
     随填充因子的增大,采样迅速增加。 [P c[{(  
    (Cd{#j<  
     为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 !Fg4Au  
     如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 )'dH}3Ba  
     如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 C5PBfn<j  
     通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 >AX~c jo  
    O0(Q0Ko  
    !"x7re  
    ~TFYlV  
    减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
    #Q7x:,f  
    7. 指定区域填充因子的仿真 OPt;G,$ta  
    a(DZGQ-as  
     由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 CC(*zrOd-  
     全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 =>z tBw\  
     因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 C"^hMsU8  
     在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。  ; zE5(3x  
    grxl{uIC8  
    l8AEEG8>  
    8. 总结
    u}LX,B-n(  
    考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 * :tjxC  
    9}jq`xSL  
    第1步 MAD}Tv\S7  
    将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 &<|-> *v  
    (p.3'j(  
    第2步 1H,tP|s  
    分析不同区域填充因子的对性能的影响。 .i&ZT}v3  
    扩展阅读 $7DcQ b9  
    扩展阅读 K7xWE,y  
     开始视频 [kuVQ$)  
    -    光路图介绍 *xo;pe)9  
     该应用示例相关文件: o|;eMO-  
    -     SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 YaNH.$.:  
    -     SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究
    Cq*}b4^;  
     
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