空间光调制器(SLM.0002 v1.1) @].s^ss9_ Q)aoc.f!v 应用示例简述 ? /!Fv/
! =21K0~t# 1. 系统细节 =&pR=vl 光源 ?3N/# — 高斯光束 G:b6Wf 组件 vhOh3 — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 ?5" >5 0 探测器 eJqx,W5MK] — 视觉感知的仿真 bP$e1I3` — 电磁场分布 EUw4$Jt^p 建模/设计 Aa1#Ew<r — 场追迹: _\4r~=`HQ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 3SWDPy K_U`T;Z\ 2. 系统说明 iJ58RY u*l>)_HD 0*:n<T9 3. 模拟 & 设计结果 &S.p%Qe" fX9b1x 4. 总结 >;G_o="X
wa[J\lW 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 1Mq"f7X8
;Uch 第1步 u^C\aujg 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 L~+aD2E { %zc.b 第2步 uu4!e{K 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 KX x+J}n ST#)Fl 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 ,%m~OB#
t`&mszd~T 应用示例详细内容 ce4rhtkV
"c~``i\G 系统参数 \zcSfNE
LkeYzQH/l 1. 该应用实例的内容 M&zB&Ia"' rfdA?X{Q0 mq<:^ 2. 设计&仿真任务 ZyU/ .Uk
([JFX@ 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 n}%_H4t k!qOE\%B 3. 参数:输入近乎平行的激光束 tF*Sg{:bCa ;,/G*`81B 6UN{Vjr%` 4. 参数:SLM像素阵列 L) _ VdB
E]{0lG`l Yo5ged]i 5. 参数:SLM像素阵列 !N:w?zsp ~Gg19x.#uW brE%/%!e 应用示例详细内容 K~&3etQF
WFug-#;e 仿真&结果 %RIu'JXi
Zjc/GO 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM ENYc.$r 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 qsN}KgTjg 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 h9A=20fj fb8xs< 2. VirtualLab的SLM模块 Oa5-^&I
}&ew}'*9)
kYS\TMt,C
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 B aCzN;)
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 y(Pv1=e
T2T?)_f /
3. SLM的光学功能 <p_2&&?
~8Ef`zL 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 }q/[\3 为此,将区域填充因子设置为60%。 sQzr+]+#9 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 $iy(+} \bSakh71 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd 78mJ3/?rC ^3&-!<* 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 Q!fk|D+j x6yO2Yo 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd Fw#wVs)@: e+MsFXnB8 4. 对比:光栅的光学功能 j~ qm5} 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 WdrMp 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 Im`R2_(] 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 B<!wh 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 P_N},Xry 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 {2&MyxV
Zvz}Z8jW
p_sqw~)^% 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd xO
1uHaL
6nk.q|n:g 5. 有间隔SLM的光学功能 w4&-9[@Y 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 m`3gNox ?7*J4. 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd apm,$Vvjy ;xE1#ZT 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 ?rwHkPJ{* +Kg3qS" )%?SWuS?N 6. 减少计算工作量 H`U>ZJ. iHOvCrp+X FwSV
\N+#' 采样要求: m3b?f B 至少1个点的间隔(每边)。 B\7 80p< 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 h6gtO$A|p= `X wKCI 采样要求: fPsUIlI/A 同样,至少1个点的间隔。 [%7oq;^J 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 `>$l2, 随填充因子的增大,采样迅速增加。
-+.-Ab7 oMZ|)(7C 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 U[l{cRT
如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 \E:l
E/y 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 $QuSmA<4lS 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 o7 X5{ WG*S:_? F|W(_llfM
kv/mqKVr 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
ehYGw2 7. 指定区域填充因子的仿真 h`p9H2}0
c"@,|wCUi 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 8U&93$ 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 X6c ['Zrc 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 y <21~g= 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 3MFb\s&Fq +QVe - B6a
8. 总结 syLpnNx= 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 C")NNs= Q|J$R 第1步 XB-l[4? 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 BnLE+X ~C2[5r{So 第2步 2(sq*!tX 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Ni 5Su 扩展阅读 J#& C&S 2 扩展阅读 Lv?e[GA 开始视频 :Qra9;
Y - 光路图介绍 -nrfu) G 该应用示例相关文件: ~/kx - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 ['n;e:*
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 %]i("21