空间光调制器(SLM.0002 v1.1) 2VE9}%i f=mZu1(FZ 应用示例简述 \V*xWS
0^RXGN 1. 系统细节 qIIv6''5@ 光源 WzF !6n!h
— 高斯光束 }#Qc \eud 组件 3T!lA — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 c;n *AK 探测器 ; o0&`b? — 视觉感知的仿真 s#tZg — 电磁场分布 T2!6(,
s9 建模/设计 ML8<4o — 场追迹: T3pmVl 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 m/y2WlcRx [3--(#R\}? 2. 系统说明 ek}a}.3 { A?t%e Vy938qX 3. 模拟 & 设计结果 2VJR$Pao *UmI]E{g3( 4. 总结 [ zEUH:9D
DFd%9*N 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ~;&m*2
|V 5wh|=**/ 第1步 AbYqf%~7`l 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 jr!?v<NoX \,7}mdQSv 第2步 iIq)~e/ Z 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 +[tE ^`-F 6N;wqn 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 '_/Bp4i
cdZ~2vk 应用示例详细内容 )l[M
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uec!RKE 系统参数 h}cy D7Wn
!/3B3cG 1. 该应用实例的内容 KFvQ NZ-\h !H irhDN 2. 设计&仿真任务 3MY(<TGX
NCk r /#! 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 F>-B3x vL\&6n~M> 3. 参数:输入近乎平行的激光束 TT4./R: L.1_(3NG lobGj8uxq 4. 参数:SLM像素阵列 S!G(a"<W
NNE<L;u 72Iy^Y[MX 5. 参数:SLM像素阵列 |*'cF-lp6v k'IYA#T6 YH%'t=
<m 应用示例详细内容 X(\fN[;
`9uB~LY^i 仿真&结果 I>[RqG
fe_yqIdk 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM r!HwXeEn/ 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 -"h;uDz|z 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 +tk{"s^r* QzzW x2 2. VirtualLab的SLM模块 sZL#xZ5
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1}:bqI.<W
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 nM-h&na{s
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 lI-L`
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<X7FMNr[ 3. SLM的光学功能 ;M_o)OS3
#L{OV)a< 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 ?I[8' 为此,将区域填充因子设置为60%。 0em#-*|2" 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 *hQTO=WF kRTwaNDOD 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd 9f',7i yI ld75S` 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 DVK)2La /u0'
6V 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd rfgI$eu
<oWB0% 4. 对比:光栅的光学功能 NLr PSqz 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 VGceD$< 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 '{J&M|<A 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 {iv<w8CU) 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 $`wMX{ 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 1 29q`u;
2Ri{bWi
0\:(ageY? 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd mdq;R*`
'^Ql]% _ 5. 有间隔SLM的光学功能 =Uj-^qcE 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 "bm K,w"_T 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd y-j\zK @~#Ym1{W 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 :k3Nt5t! t\
7~S&z >2Jdq 6. 减少计算工作量 u6_@.a} @EDs~ lPv
RgGyoZ 采样要求: qqu.EE 至少1个点的间隔(每边)。 o.'g]Q<}UB 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 GD:4"$)[o n#:N;T;\a 采样要求: EloMe~a3 同样,至少1个点的间隔。 CXO2N1~(J 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 e+j)~RBnu3 随填充因子的增大,采样迅速增加。 >A<bBK# .%^]9/4 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 K"0PTWt 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 L9@&2?k 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 EM/@T} 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 Ai/b\:V9S "d$m@c E-{^E. w1
X5`A GyX 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
8?i7U<CB 7. 指定区域填充因子的仿真 S_T1y
!Mu|mz= 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 z9p05NFH 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 )6w}<W*1E 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 2{Chu85 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 &E40*
(C :Mcu Hsihytdj
8. 总结 =r.mlc``W 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 \/SQ,*O J8"[6vI d~ 第1步 K3' niGT 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 tBm_YP[ ]/!<PF 第2步 Z{
u a=0 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 [tH-D$V 扩展阅读 Kv rX{F= 扩展阅读 JIFU;*PR1 开始视频 PT^c^{V - 光路图介绍 A#W?2k9 该应用示例相关文件: T /mI[*1xI - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 -PnyZ2'Z
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 7-~Q5Kr.