空间光调制器(SLM.0002 v1.1) (,QWK08 -mRgB"8 应用示例简述 ^w~B]*A:"
[yQ%g;m 1. 系统细节 SiX<tj#HH\ 光源 ;2&" — 高斯光束 O |P<s+ 组件 OQ?N_zs, — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 \-;f<%+ 探测器 At=d//5FFP — 视觉感知的仿真
0]c&K — 电磁场分布 x@rQ7K> 建模/设计 hd9HM5{p — 场追迹: ~BJE~ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 C2v_],] ^OWG9`p+ 2. 系统说明 J$1H3#VVG S}%z0g< h^tCF=S 3. 模拟 & 设计结果 j`RG Moq HFy9b|pjy 4. 总结 [I4MK%YQ
Yr-SlO> 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 a!: N
C /^nIOAeE 第1步 A2M(
ad 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 pIcg+~ {E Ay~lo 第2步 jj]\]6@+P 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 "*t6KXVaM >iOf3I-ATt 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 rn*'[i?
4mo/MK&M: 应用示例详细内容 2Wluc37
;i6~iLY 系统参数 bGeIb-|(
")uKDq 1. 该应用实例的内容 C&w0HoF L>sLb(2\i -\?- 2. 设计&仿真任务 z&d.YO_W
PtW2S 1?j 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 K}@rte +X^GS^mz 3. 参数:输入近乎平行的激光束 96V8R<
]}rNxT4< BkXv4|UE 4. 参数:SLM像素阵列 /y-D_
Zc~7R`v7} WC~;t4 5. 参数:SLM像素阵列 )>FAtE
p)/e;q^ 3i!a\N4 K 应用示例详细内容 hTn"/|_SW
c 1F^Gj!8 仿真&结果 6;'[v}O^^
6J,h}S 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM ,#ZPg_x?1 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 R'c dEoy 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 2w7$"N mgx|5Otg 2. VirtualLab的SLM模块 #2_FM!e
YTefEG]|q
:;eOhZ=_
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 q%;cu1^"M
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 ~&)\8@2
u9S*2' 3. SLM的光学功能 [l5jPL}6
ESV./~K 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 G^)]FwTs 为此,将区域填充因子设置为60%。 `S|F\mI~
首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 4%r?(C0x ,g7O 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd Bn&P@C$7 )?[7}(4jI 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 s|<n7 =J {k.:DH) 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd $EFS_*<X g3kbsi7_: 4. 对比:光栅的光学功能 ]}g\te 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 1M??@@X 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 M8WjqTq 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 Fw&ImRMk 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 i`F5 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 cF15Mm2
y{mt *VA4
,byc!P 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd =A6*;T"W
QHO n?e
5. 有间隔SLM的光学功能 <T[LugI 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 )'n@A% B n}Z%D-b$ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd G]aey>) W'vek uM 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 }V]b4t n+=qT$w) }>@SyE'Q 6. 减少计算工作量 Jp"29
)w eWv:wNouk
[ x{$f7CEh 采样要求: i.6 b% 至少1个点的间隔(每边)。 G$Mf(S'f 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 !8UIyw GZaB z#U 采样要求: %l&oRBC 同样,至少1个点的间隔。 }TMO>eB' 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 Fj<*!J$, 随填充因子的增大,采样迅速增加。 ir.RO7f +g?uvXC& 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 'M6+(`x 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 }'wZ)N@ 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 A-4;$
QSm 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 m@kLZimD vcQl0+& [(*Eg!?W=
@*vVc`; 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
CJN~p]\ 7. 指定区域填充因子的仿真 5OWyxO3{
z#&1> 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 %N&.B 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 <MJU:m$3 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 !%65YTxY- 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 '-A;B.GV% xDw~n (* (^iF)z
8. 总结 I;JV-jDM 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 rVP\F{Q4Tr 7Q|<6210 第1步 LGuZp?" 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 ,(q]
$eOZ fWJpy#/^*K 第2步 b|.Cqsb 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 L~/,;PHN 扩展阅读 O#;sY`fy_M 扩展阅读 q
n-f&R 开始视频 3 orZBT - 光路图介绍 sDNWB_~ 该应用示例相关文件: mmJnE - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 j|pTbOgk%
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 AH n!>w,