空间光调制器(SLM.0002 v1.1) VsMN i#? (1HN, iJy 应用示例简述 sI'HS+~pU
puyL(ohem 1. 系统细节 a[!d)Y:zx 光源 "|%fAE — 高斯光束 ;5l|-&{@* 组件 atAA[~ — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 O^$Zz< 探测器 w#$k$T) — 视觉感知的仿真 M*HG4(n0 — 电磁场分布 4%7*tVG 建模/设计 eC39C2q\ — 场追迹: Lgfr"{C 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 &Os Ritj K!~](_W! 2. 系统说明 ZSSgc0u^? R}Y=!qjYE= F{+`F<r 3. 模拟 & 设计结果 "8]170 J)->
7h= 4. 总结 "F}Ip&]hAG
FHC7\#p/9Z 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 q Q'@yTVN <i6M bCB 第1步 *S4P'JSY 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 }{y$$X<:
gk#rA/x 第2步 IA4(^-9 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 p'4P2 "LWuN> 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 SAJ=)h~
D=vq<X' 应用示例详细内容 VLN3x.BY
CQ[-Cp7 系统参数 6hq)yUvo4
ZM?r1Z4 1. 该应用实例的内容 zJ`(LnV [
_$$P* 1%`:8 2. 设计&仿真任务 QR'g*Bro
pH[lj8S 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 O :^[4$~ R2`g?5v 3. 参数:输入近乎平行的激光束 r|@?v , =;=V4nKN O;BPd:< 4. 参数:SLM像素阵列 sD+G+
uyj*v]AE' |Ze}bM=N 5. 参数:SLM像素阵列 R-fjxM*
qS|VUy4 j.}V~Sp* 应用示例详细内容 "r"An"
O$/swwB! 仿真&结果 f :5/y^M&
CF"3<*%x 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM "n,ZP@M;
由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 AHY)#|/) 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 E | Q{hOn]" 2. VirtualLab的SLM模块 8v
1%H8
[i1D~rCcn
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 3+5\xRq
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 :q<%wLs
2kq@*}ys 3. SLM的光学功能 E(_I3mftm
eE%yo3 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 neFno5d j 为此,将区域填充因子设置为60%。 vPNZFi-( 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 ,z)NKt# "Cj#bUw 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd L0 2~FT 12xP)*:$ 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 RsfTUb)< Ki6.'#%7 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd >%dAqYi $ Ec*7n6~9 4. 对比:光栅的光学功能 SfSEA^@| 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 1/+r?F3 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 7h/Q;P5 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 , %O3^7i 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 uN3J)@;_ 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 =w$"wzc
gr{Sh`Cm-
%P,^}h7 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd $!!=fFX*y
}QW~.>` 5. 有间隔SLM的光学功能 Sc3M#qm_ 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 .hNw1~Fj W<]Oo ] 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd SJ7=<y}[d ^GaPpm 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 hcc-J)=m @/NZ>. [mzF)/[_2 6. 减少计算工作量 LEnP"o9ZW Mqf}Aiqk;
O[p^lr(B7 采样要求: ":^
NLBm>5 至少1个点的间隔(每边)。 ff./DMDafI 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 P^m 6di =&:f+!1$ 采样要求: l@/kPEh 同样,至少1个点的间隔。 +Z~!n 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 #33RhJu5, 随填充因子的增大,采样迅速增加。 [Pc[{( (Cd{#j< 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 !Fg4Au 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 )'dH}3Ba 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 C5PBfn<j 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 >AX~c
jo O0(Q0Ko !"x7re
~TFYlV 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
#Q7x:,f 7. 指定区域填充因子的仿真 OPt;G,$ta
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由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 CC(*zrOd- 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 =>ztB w\ 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 C"^hMsU8 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 ;zE5(3x grxl{uIC8 l8AEEG8>
8. 总结 u}LX,B-n( 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 *:tjxC 9}jq`xSL 第1步 MAD}Tv\S7 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 &<|-> *v (p.3'j( 第2步 1H,tP|s 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 .i&ZT}v3 扩展阅读 $7DcQ b9 扩展阅读 K7xWE,y 开始视频 [kuVQ$) - 光路图介绍 *xo;pe)9 该应用示例相关文件: o|;eMO- - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 YaNH.$.:
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 Cq*}b4^;