空间光调制器(SLM.0002 v1.1) >s1HQSe66 pHWol! 应用示例简述 z\;kjI
)Dv"seH. 1. 系统细节 E P<U:F 光源 0a(*/u — 高斯光束 KYlWV<sR 组件 .d.7D ]Yn — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 KKOu":b
探测器 ~M <4HC — 视觉感知的仿真 MT0}MMr — 电磁场分布 .fZv H 建模/设计 0m?ul%= — 场追迹: *yt/
Dj 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 |R+=Yk&u Muarryh} 2. 系统说明 u]zb<)'_ N`#v"f<~Q ,,@_r&f: 3. 模拟 & 设计结果 RRV&!<l@$ U;;Har 4. 总结 hR. EZ|.
U:`rNHl 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 0}aJCJ9sx= 4h(aTbHaQ 第1步 |FKo}>4 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 uz*C`T0:rj ;7qk9rz4 第2步 YXBS!89m 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 \Ud2]^D= y_J{+ 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 4$_8#wB1&
"b2Mk-qP 应用示例详细内容 89WuxCFS
GF
k?Qf{u 系统参数 -"(e*&TJ#
B:9Z;g@& 1. 该应用实例的内容 n+xM)) pKp#4Js !CEF@J 2. 设计&仿真任务 OxqP:kM
|z5olu$gVc 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 -'ZP_$sA 6C)OO"Bc 3. 参数:输入近乎平行的激光束 ECl[v%R/6 \2~.r/`1 ,kLeK{ 4. 参数:SLM像素阵列 ti'OjoJL
QAu^]1 ; Wlt shZo 5. 参数:SLM像素阵列 F= #zy#@. uE/qraA m.lNKIknQ 应用示例详细内容 Xf#uK\f
/x`H6'3? 仿真&结果 J|3CG;+
0k3^+#J 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM a3p|>M6E 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 &(wik#S 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 eYS 5*ABw6'6 2. VirtualLab的SLM模块 |Z!C`G[
}_u)3X.O
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 w}7`Vas9
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 r Cmqq/hZ
GT'%HmQI 3. SLM的光学功能 Kz 'W
|
rJZ-/]Xf!6 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 Hjlx,:'M 为此,将区域填充因子设置为60%。 u*H2kn[DU 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 oq;}q zYH6+!VBH# 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd k
\]@ 3):7mE( 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 W6]iJ rs\*$20 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd r?H {Y3, b/E1v,/< 4. 对比:光栅的光学功能 UlQ }
上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 tjYe82 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 ox)/*c< 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 '?Hy"5gUA 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 hydn" 9; 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 ?ILNp`k
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8CMI\yk 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd wwE9|'Ok
GAPZt4Z2 5. 有间隔SLM的光学功能 }8 ,b;Q 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 w=O:|Xu#* v]vrD2L 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd 4|x5-m+T .bew,92 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 A:k`Ykr[ |h8C}P&Z V$^x]z 6. 减少计算工作量 vUJb- :90DS_4
*:)#'cenI 采样要求: XIf,#9 至少1个点的间隔(每边)。 +Hv%m8'0| 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 vR#A7y @! Z<xSU?J 采样要求: Z=n& fsE 同样,至少1个点的间隔。 `[Kh[| 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 "xYMv"X 随填充因子的增大,采样迅速增加。 ]ujH7T 'g( R4deCX 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 dqPJ 2j $\ 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 us$~6 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 -%"MAIJnX 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 8={(Vf6
k|a{|2p Cl i k
(r:WG!I, 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
oM QH-\(} 7. 指定区域填充因子的仿真 "RZ)pav?
0jE,=<W0> 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 z_r W1?| 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。
2VMau.eQ 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 Zb8i[1 P 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 EGU?54 '}LH,H:%G {h|3P/?7
8. 总结 ENjrv 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 cXtL3T+ 2>?GD@GE 第1步 Hm%[d;Z7 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 @^#y23R U />)>~_-3 第2步 v"y
e\ZG 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 ,T"(97" 扩展阅读 Sr%~
5Q[W 扩展阅读 +=U` 开始视频 t55CT6Se - 光路图介绍 $Iv*?S"2 该应用示例相关文件: [,xFk* # - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 T\. 8og
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