空间光调制器(SLM.0002 v1.1) n;S0fg JWUv H 应用示例简述 O|^6UH
)Bm^aMVl3 1. 系统细节 ?-(w][MT\ 光源 n{qa ]3 — 高斯光束 4:%El+,_Y 组件 0s+rd& — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 ~,M;+T}[r 探测器 $@ T6g — 视觉感知的仿真 H;b'"./ — 电磁场分布 n41\y:CAo 建模/设计 SzgY2+Qq — 场追迹: G}9bCr, 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 (Ay4B*|! Gr"2G,,VI 2. 系统说明 ~NxoF iC5JU&l {_k!!p6 3. 模拟 & 设计结果 &a2V-|G', 4%c7#AX[T 4. 总结 4o)\DB?!
644hQW&W 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 @]VvqCk +~pc%3* 第1步 MIua\:xT 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 ^JF_;~C d= T9mj.@ 第2步 =-1^K 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 >/OXC+=^4 ~:RDw<PWp 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 o`y*yucHI
e&a[k 应用示例详细内容 [2H(yLw O
WHD/s 系统参数 iw]BQjK
J!^~KN6[ 1. 该应用实例的内容 {dSU
\': qNQ3(1xW DHu jpZXQ 2. 设计&仿真任务 7yCx !P;
qwq+?fj={ 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 Wp9
2sm+ G~$M"@Q7N 3. 参数:输入近乎平行的激光束 8Q)mmkI\= !A^w6Q;`V W0?Y%Da(4m 4. 参数:SLM像素阵列 cI4qgV
RT+30Q? $P}]|/Yb 5. 参数:SLM像素阵列 MFdFZkpiV [@l
v]+@ Qmc;s{-r; 应用示例详细内容 R7;rBEt8
IM&7h!
l"| 仿真&结果 z1KC$~{O
s?\9i6 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM ^[?+=1
k 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 Kd[`mkmS 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 02c.;ka3 &+r
;> 2. VirtualLab的SLM模块 Px?At5
>zx50e)
[F-u'h< *l
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 g}og@UY7#
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 =`.5b:e
tS/APSY 3. SLM的光学功能 &T/9yW[L
9qO:K79| 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 K}*p(1$u 为此,将区域填充因子设置为60%。 1X_!%Z 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 iO= uXN1g {aa,#B]i 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd aKU8"
5 n7!Lwq2 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 8{=(#] J<:D~@qq 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 28qWC~/9 m_ONsZHy 4. 对比:光栅的光学功能 WMRgf~TY=2 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 \7w85$ 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 `[u>NEb 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 MKYE]D; 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 K~~*M?.Z 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 ,?N_67
73Zs/
bIl0rx[` 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd ,7nb;$]
JRs[%w`kD 5. 有间隔SLM的光学功能 n~cm?" 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 zgOwSg8 r\- k/ 0 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd Jy[8,X 00x^zu?N 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 !_z>w6uR
{'bkU9+ k 5kX 6. 减少计算工作量 :h dh$}y T7nX8{l[RG
+uXnFf d^ 采样要求: .Eyk?"^ 至少1个点的间隔(每边)。 @MH]s [{o\ 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 `fh_8%m]* ! { aA*E{ 采样要求: XQ y|t"Vq> 同样,至少1个点的间隔。 5Kxk9{\8 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 6y!?xot 随填充因子的增大,采样迅速增加。 0s[3:bZ\Ia P[K
T 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 m&c(N 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 tdK^X1 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 nM}`H'0 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 A{T@O5ucj &!fcL Jd k$- q;VI
UC$+&&rO 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
"lb!m9F{ 7. 指定区域填充因子的仿真 Pu*UZcXY
VQ}3r)ch 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 md
LJ,w?{ 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 nECf2>Yp v 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 Pt;Ahmi 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 BkqW>[\5xm %+J*oFwQu .[s82c]]6
8. 总结 Av4E?@R 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 .Q@'O b` Qn&^.e9I 第1步 J, >PLQAa 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 =i %w_e bd;f@)X 第2步 /hR]aw 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 <cjTn:w 扩展阅读 sUMn
(@r 扩展阅读 DMW:%h{ 开始视频 GQWTQIl] - 光路图介绍 $o H,:x?} 该应用示例相关文件: ogbdt1 - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 9F!&y-
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