空间光调制器(SLM.0002 v1.1) Nz;\PS wAL}c(EHO 应用示例简述 *!dA/sid
#]gmM 1. 系统细节 Zzb?Nbf 光源 Nn U`u.$D — 高斯光束 V"} Jsr 组件 Z
B!~@Vf — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 Fw}|c 探测器 @:>gRD — 视觉感知的仿真 dI!/H&`B] — 电磁场分布 )me`Ud 建模/设计 G68@(<<Z — 场追迹: MY}K.^4^ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 }-u%6KZ =([4pG 2. 系统说明 _8\B~;0 "I9 r>= [%~yY& 3. 模拟 & 设计结果 ojA !!Ru 7;&,LH 4. 总结 6}|h
lXzm) 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 lWT`y wTG(U3{3K 第1步 - leYR`P 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 kJNwA8 7 l@-h.tS 第2步 v53|)]V 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 l(@c 1xh7KBr, 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 k_Y7<z0G
GJs~aRiz 应用示例详细内容 yO*
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# 系统参数 GS}JyU
-~X[j2 1. 该应用实例的内容 fc[_~I' 1uB$@a\ &
d$X: 2. 设计&仿真任务 *JQ*$$5
$J&c1 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 ["4Tn0g ; {Qn{w%!| 3. 参数:输入近乎平行的激光束 !]RSG^%s{ )?c,& ;-;lM6zP 4. 参数:SLM像素阵列 yf4L0.
%/5Wj_|p "^a"`?J 5. 参数:SLM像素阵列 WIpV'F|t]` XD't)B(q m7u`r(& 应用示例详细内容 4- Jwy
*c&|2EsZ 仿真&结果 &ODo7@v`1
3wcFR0f 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM ?( z"Ub] 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 m]vV.pwv 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 ;[(d=6{hc] E0EK88 2. VirtualLab的SLM模块 R^P>yk8
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 |r36iUHZS
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 cO5zg<wF
Ym!e}`A\F 3. SLM的光学功能 P".IW.^kk~
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+l] 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 2CneRKQy 为此,将区域填充因子设置为60%。 eF9GhwE= 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 1?1Bz?EKF* ws^Ne30 R 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd =WBfaxL} ( }Bb=~ 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 />/e Gn_DIFa 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd w`V6vYd@ fb>$p_s] 4. 对比:光栅的光学功能 6Io}3}3 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 uLWu. Vx 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 N' R^gL 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 }2Euz.0 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 2zW IB[ 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 #kq!{5,
wWiYxBeN
4OpzGZ4+ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd M*kE |q/K
]+W){W=ai 5. 有间隔SLM的光学功能 $T^q>v2u 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 i/1$uQ *4}NLUVX 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd yb?Pyq.D zqXF`MAB= 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 FiUwy/,ZV "wTCO1 `Hlf.>b1 6. 减少计算工作量 e5P9P%1w G2)F<Y
Y%;X7VxU* 采样要求: KvPCb%!ZP 至少1个点的间隔(每边)。 c {%mi 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 }6/M5zF3 'ET];iZ2 采样要求: kwc
Cf2 同样,至少1个点的间隔。 4Z~ nWs 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 )`f-qTe 随填充因子的增大,采样迅速增加。 a*U[;( j9hfW' 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 NimgU Fa 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 i\ X3t5 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 "g&f:[a/ 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。
Y6VJr+Ap( Td'(RV n+ebi>}P
L%is"NZh 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
jgIG";:Q 7. 指定区域填充因子的仿真 pka^7OWyN
pF-_yyQ 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 0P9\; !Y 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 o&Xp%}TI 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 O8A1200 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 `@],J H/x0'
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8. 总结 0't)-Pj+, 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 8VMA~7^ *u"%hXR 第1步 ^]R_t@ 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 z}u`45W+ F{E@snc 第2步 RdWn =; 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 _Fa\y ZX 扩展阅读 DX>LB$dy? 扩展阅读 {\`ttc> 开始视频 9d#?,:JG - 光路图介绍 ~Dq-q6-@t 该应用示例相关文件: |7c],SHm - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 zP #:Tv'
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