空间光调制器(SLM.0002 v1.1) g6$\i
m ];eJ'# 应用示例简述 bn=7$Ax
2+K-I 1. 系统细节 OLGMy5 光源 ]<9o>#3 — 高斯光束 m!(dk] 组件 M"Z/E>ne — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 tItI^]w2s 探测器 +S1h~@c:B — 视觉感知的仿真 V<U9Pj^?^ — 电磁场分布 ;g?o~ev 8 建模/设计 zQB1C — 场追迹: O7J V{'? 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 w;kiH+& |-%dN }O 2. 系统说明 )Q<u0AxAn gRw? <U^ :#UA!|nV 3. 模拟 & 设计结果 L9l]0C37e roIc1Ax: 4. 总结 UI wTf2B
++!0r['+> 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 eMP0BS" YdYaLTz 第1步 ,fhwDqR
? 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 q 1A0-W#4 (%fSJCBl[P 第2步 ^~3{n 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 :Yi 4Ia BtQqUk#L2 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 bV*q~@xh
mE9ytFH\k 应用示例详细内容 5X^`qUSv
D e$K 系统参数 JaN53,&<
?zYR;r2'b) 1. 该应用实例的内容 &hWYw+yH\ ;F/s!bupCM Gd|jE 2. 设计&仿真任务 `Tr !Gj_
I=k`VI d: 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 cdg&) Qs 'dwc 3. 参数:输入近乎平行的激光束
U.ew6`'Te j^Ln\N]^ d81[hT}q 4. 参数:SLM像素阵列 LOk J
f/Q/[2t :ZXaJ! 5. 参数:SLM像素阵列 p0pA| ?u{D-by%& D)eRk0iC 应用示例详细内容 k[1w] l8
T6=~vOzTJ 仿真&结果 sb%l N
[t]q#+Zs 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM >NA{* *$0 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 gv,%5r0YOw 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 D ~NWP%H ro^T L 2. VirtualLab的SLM模块 VS+5{w:t
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@Z@S;RWSU
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 o H]FT{
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 px^brzLQo
=CL h<& 3. SLM的光学功能 @SAJ*hfb0
z|zd=3c 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 n:JG+1I 为此,将区域填充因子设置为60%。 r6e!";w:U 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 N0(($8G <-!'V,c 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd lp5b&I_ ?MJ5GVeH 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 nY?X@avo> zi,":KDz# 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd {G _|gs Jv D`RUh 4. 对比:光栅的光学功能 OJ}aN>k 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 _;k))K^ 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 Ap`D{u/ 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 HjX)5@"o( 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 4cAx9bqA 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 =5M
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[Mlmn$it 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd jHc/ EZB
[.4D<}e 5. 有间隔SLM的光学功能 #EO],!JM 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 15!b]': 4\2~wSr 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd .%mjE' *q(HW 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 L9 H.DNA /Pa<I^-# "QV1G' 6. 减少计算工作量 'Ie!%k ^ 6 bt{j
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采样要求: %gXNWxv 至少1个点的间隔(每边)。 bqUQadDB 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 F2["Ak NM axd9b, 采样要求: X] t * 同样,至少1个点的间隔。 ,NQ>,}a0 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 bl;v^HR0) 随填充因子的增大,采样迅速增加。 \EEU G^T xqaw00,s 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 ?[
vC?P
如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 7=]Y7"XCf 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 c#(&\g2H 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 `H\NJ, gPWl# 5P: WWWfQ_u2
{,i='!WIm 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
"_/5{Nc$ 7. 指定区域填充因子的仿真 Jl,\^)DSw
MYeGr3V3 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 [{9&KjI0K 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 .AZ+|?d 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 E{6X-C[)v 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 *g/@-6 V3}$vKQ MFLw^10(T
8. 总结 `pd1'5Hm 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 7q: vW4N[ .+ 第1步 1Du9N[2'P 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 ^o*$+DbC 64qQ:D7C 第2步 4WV)&50 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 98eS f 扩展阅读 J'y*>dW 扩展阅读 quw:4W> 开始视频 EM.rO/qcW - 光路图介绍 s
*1%I$=@ 该应用示例相关文件: wH[}@ w - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 $U/_8^6B0
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 S~DY1e54GF