空间光调制器(SLM.0002 v1.1) H\67Pd(Z6 dAh.I3 应用示例简述 MzJCiX^
;]>kp^C# 1. 系统细节 r~t`H*C)} 光源 `Y#At3{ — 高斯光束 9\?OV@ 组件 {^VtD — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 &O&HczO 探测器 .f\LzZ-I: — 视觉感知的仿真 J7+G"_)' — 电磁场分布 lkn|>U[ 建模/设计 a1U|eLmUb — 场追迹: >cu%C s=m 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 #z*,CU#S9d x sryXex; 2. 系统说明 {PHH1dC{ Zd*$^P,| zfIo]M` 3. 模拟 & 设计结果 'cW^ S7 Ms{";qiG 4. 总结 Q`ua9oIJ=
I"07x'Ahq3 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 2Je$SE8 l!mbpFt 第1步 hi7_jl6 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 ?[D3-4 )ZG;.j
第2步 CRb8WD6. 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 4T@:_G2b \Pg~j\;F] 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 e7vm3<m4
h)KHc/S 应用示例详细内容 diq}\'f
f98,2I(>`+ 系统参数 {f/qI`
p@m0Oi,= 1. 该应用实例的内容 9BCW2@Kp t un}rdb t&r.Kf9Z\ 2. 设计&仿真任务 "HMEoZ
"s2_X+4oY 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 /sE,2X*BT eA/n.V$z 3. 参数:输入近乎平行的激光束 Av X1* /F*Y~>*% 1 &OMlW_FHR 4. 参数:SLM像素阵列 {!"UBALxc
NVyBEAoh @CMI$}!{V 5. 参数:SLM像素阵列 (`x_MTLL ZoW1Cc&p %()d$.F 应用示例详细内容 aO6\e>
o`U}uqrO 仿真&结果 %pC<T*f
o2/:e 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM _:x]'w% 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。
q6
CrUn 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 7- B.<$uC '\:4Ijp<" 2. VirtualLab的SLM模块 iHa?b2=)
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 2M
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必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 XJ18(Q|w'
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6I:Qr 3. SLM的光学功能 aukcO;oG<
S|85g1}t 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 S}6Ld(_ 为此,将区域填充因子设置为60%。 ( }-*irSsj 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 !Sc"V.o@! ClG%zE&i 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd PmR].Ohzi v 6 ~9)\!j 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 :@A&HkF ~q$]iwwqT 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd M'*s5:i L2}\Ah"[ 4. 对比:光栅的光学功能 -Q
WvB 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 #'L<7t
K 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 _N DQ2O 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 5`;SI36" 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 a:FU- ^B4~ 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 q_M N
K-qWT7<
r\NqY.U& 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd u3T-U_:jSV
.OPknC 5. 有间隔SLM的光学功能 *?)MJ@ 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 uD\R3cY *x36;6~W; 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd UXm_-/&b9 ?<?Ogq"< 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 Q*DT" W/0 ]'.qRTz'\t <Q[%:LD 6. 减少计算工作量 _4{0He`q 'gwh:
Lg:1zC
采样要求: ^<;W+dWdU 至少1个点的间隔(每边)。 )nUdU
= m 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 r!r08yf HqGI. 采样要求: SN6 QX!3 同样,至少1个点的间隔。 dOjly,! 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 Dri6\/0 随填充因子的增大,采样迅速增加。 ;jPsS^X d$ouH%^cGu 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 * #yF`_p 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 (,At5T 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 ;
476t 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 d i\.*7l? Bm~^d7;Cw &;Ncc,jb
> ,6 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
oj 8r* 7. 指定区域填充因子的仿真 dc$zW^i
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X$k-O 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 Np\NStx2 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 e=Ox~2S 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 GSA+A7sZ 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 +17!v_4^ 3.Fko<D4jD F|%PiC,,qO
8. 总结 [* xdILj 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 0\mf1{$"!7 g *5_m(H 第1步 FB k7Cn! 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 G^'We6< 1wgL^Qz@ 第2步 6 (rm%c 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 T;u;r@R/ 扩展阅读 8)>>EN8 R 扩展阅读
1^_W[+<S/ 开始视频 C(>!?-. - 光路图介绍 m"L^tSD~ 该应用示例相关文件: }B%9cc - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 enk`I$Xx
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