空间光调制器(SLM.0002 v1.1) AJt4I
W@ =OooTZb:x- 应用示例简述 $(pVE}J
i7xBi:Si 1. 系统细节 N`5
mPE 光源 h)
W|~y@ — 高斯光束 =2, iNn 组件 lkgB,cflpi — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 rh6m 探测器 h7>`:~ — 视觉感知的仿真 l~GcD — 电磁场分布 ((]Sy,rdk 建模/设计 stlkt>9 — 场追迹: I sB=G-s 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 FeuqqZ\=& n7'X.=o7 2. 系统说明 uJL[m(G etH]-S b$eZ>X 3. 模拟 & 设计结果 'E1m-kJz YRJw,xl 4. 总结 wRj&k(?*
Lz}mz-N 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 7cZ(g dQ/ &e1(| qax 第1步 0uf)6(f 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 ~Z
x_" el^WBC3 第2步 =^gZJ@ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Vw b6QIs NEX{vZkgw 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 hdx"/.s
mdukl!_x 应用示例详细内容 u6~/"
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]"4\]_?r 系统参数 Y'2 |GJc2
yX|0R
H 1. 该应用实例的内容 E=8$*YUW(g |fg{Fpc [f\TnXq24 2. 设计&仿真任务 >TZyax<:
OO`-{HKt 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 uvj`r5ei X\'+);Z 3. 参数:输入近乎平行的激光束 \v[?4[ <GRrw tu0agSpU 4. 参数:SLM像素阵列 8!u8ZvbFG
`f+l\'.s 2/V9Or52 5. 参数:SLM像素阵列 z\?cazQ T_*R^Ukb5 \*k}RKDwT 应用示例详细内容 &Ew{ {t;"
7Q3a0`Iq 仿真&结果 =dTsGNz
e|jmOYWG 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM 6l-V%3- 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 CP!>V:w%9! 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 BX=YS) !/Wp0E'A 2. VirtualLab的SLM模块 yCT:U&8%F
Foc) u~
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 ;OynkZs)
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 LU4k/
Auz.wes 3. SLM的光学功能 aL%amL6CX
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rv&E2 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 yDW$v/j.| 为此,将区域填充因子设置为60%。 7BDRA},o 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 jLu`DKB 4tv}V:EO 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd bhWH iI(7{$y 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 t^zmvPDK x O~t 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd NWq>Z!x` 0kdPr:B Q0 4. 对比:光栅的光学功能 O>j_x W]V 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 "]M]pR/j 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 YYc.e T< 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 kt*""&R 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 8V$ :th(' 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 >uN)O-
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u79,+H@ep 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd ufekhj
"Wz#<! .r 5. 有间隔SLM的光学功能 8aHs I( 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 bEJz>oyW" 05cyWg9a 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd J<4egk4 xF4>D!T%8 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 s;'jn_,0 gI SP . "=S< xT+ 6. 减少计算工作量 (ugB3o :7w^2/ZGo
8>
-3G 采样要求: [o0Z;}fU 至少1个点的间隔(每边)。 '9Hah 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 5 B lptC 5D32d1A 采样要求: ^K#PcPF-j 同样,至少1个点的间隔。 eXqS9`zKr 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 cCoa3U/ 随填充因子的增大,采样迅速增加。 $]Vvu{ w,t>M_(N 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 Sf2pU!5n^ 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 ]}~[2k. 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 ;gC.fpu 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 g0P^O@8 &F*L=Ng Sj$XRkbj:
8d90B9 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
d3$&I==;: 7. 指定区域填充因子的仿真 /NH9$u.g
&3Q!'pJJ 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。
[=63xPxs. 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 S|{'.XG 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 ){PL6|5x 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 >0W:snNK 0
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8. 总结 G8y:f%I!b 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 OKo39 A\fu yj6o533o 第1步 3=reN6Q 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 {g:I5
A# bF#* cH 第2步 .KA){_jBp 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 |]dA`e&y 扩展阅读 7g}lg8M 扩展阅读 RGw=!0V 开始视频 ~i4h.ZLj - 光路图介绍 \BV$p2m5- 该应用示例相关文件: NDJIaX:] - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 P,2FH2Eyj
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 5ayM}u%\~