空间光调制器(SLM.0002 v1.1) IS&`O=7 (&x~pv"+ 应用示例简述 &M>S$+I
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"oz@w'rG 1. 系统细节 ,Lv}Xku 光源 FAM`+QtNw — 高斯光束 G8u8&| 组件 e"r}I!. — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 <$?:| 探测器 O b8[P= — 视觉感知的仿真 V.y+u7<3} — 电磁场分布 #cdLg-v 建模/设计 =v:_N.Fh-c — 场追迹: QMtt:f]?i 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 ATnD~iACY ]2h[.qa 2. 系统说明 wW%I < M Lj~lfO l06 q1M 3 3. 模拟 & 设计结果 ykM#EyN K"}Dbr 4. 总结 @lTUag'U0
7y[B[$P 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 @b>]q$)(} ]m4LY.SQ 第1步 //J:p,AF 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 N23s{S t vnN_csJ#^ 第2步 U">OdoZ,E+ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 @=;6:akz` aNqVs|H 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 Lvp/} /H/
r#Pd@SV 应用示例详细内容 Ce:R
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Ev^Xs6 }" 系统参数 5Q%#Z
L/'
9&d BL0 1. 该应用实例的内容 il#rdJ1@t W2<X 5' yBl<E$= 2. 设计&仿真任务 kBONP^xI
\]9;c6( 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 92SB'T> piId5Gx7 3. 参数:输入近乎平行的激光束 wZC'BLD %kc g#p+tE {^\-%3$ 4. 参数:SLM像素阵列 bTiw?i+6Dv
B"qG-ci 4;*V^\',9
5. 参数:SLM像素阵列 zu^ AkMc >N,G@{FR %]R#}amW 应用示例详细内容 xJ"KR:CD>
Ja (/ym^ 仿真&结果 ALwuw^+
V`H#|8\i 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM /tUl(Fp J` 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 l,X;<&-[ 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 =.o-R=:d q@\_q! 2. VirtualLab的SLM模块 )8<X6
9:Y:Vx
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 o}%fs
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必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 pP
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AzV5Re8M 3. SLM的光学功能 n;=A'g|Q
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9k 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 k N^)6 为此,将区域填充因子设置为60%。 : 1{j&$ 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 ms{R|vU%b nY8UJy}<oL 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd p']AXJ`Z =;`YtOL 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 ,qfa,O i f"v4PHq 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd VsmL#@E dL\8^L 4. 对比:光栅的光学功能 {L=[1 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 ~3%3{aa 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 3(&.[o
Z 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 x L BG}C 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 %b?Pasf. 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 }ot _k-
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<oO,CXF 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd W"*R#:Q
ZX0c_Mk= 5. 有间隔SLM的光学功能 m7"f6zSo( 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 S3_4i;K\ &8pXkD#A 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd Qx6/QaS? ]M2<I#hF. 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 zfZDtKq n1t(ns| }*'ha=`J 6. 减少计算工作量 | rvr Sab) TH|hrL;:8
V9VP"kD
采样要求: Z C93C7lJ 至少1个点的间隔(每边)。 6ZR0_v;TD 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 (2li:1j v2{O67j}
o 采样要求: @NIypi$T 同样,至少1个点的间隔。
SoX V 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 ]cr;PRyv 随填充因子的增大,采样迅速增加。 (HI%C@e9 ~Hs{(7 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 5avO48;Vc 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 4I*Mc%dD 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 `k&K"jA7$ 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 qJA.+q.e$e sJoi fl
7 DKl7|zG4
0I((UA/7Zs 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
GU3/s&9 7. 指定区域填充因子的仿真 5B 7*Z
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@iR*? 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 IFxI>6<& 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 1VFqT' 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 ?6d4T 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 5@$4.BGcF )^H9C"7T ;#9|l=
8. 总结 6t:c]G'J 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 MuGg
z>CV[ 8>q%1]X 第1步 "6yiQ\`J 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 qD*\}b]9I
%>2t=)T 第2步 A=UIN! 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 A#S:_d 扩展阅读 /zf>>O` 扩展阅读 L_"(A
#H: 开始视频 gF6j6 - 光路图介绍 k{jw%a<Sc 该应用示例相关文件: c)MR+'d\WO - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 2nkj;x{H$
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