空间光调制器(SLM.0002 v1.1) |s,y/svp Gl%N}8Cim 应用示例简述 '!F'B:
NRT@"3,1YP 1. 系统细节 P*]hXm85[K 光源 e^}@X[*'# — 高斯光束 @1A.$: 组件 OtbPrF5 — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 [:zP]l.| 探测器 -zzoz x]S= — 视觉感知的仿真 .^6yCs5~` — 电磁场分布 @qSZ= 建模/设计 &O5O@3:7] — 场追迹: V KxuK0{ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 q8!]x-5$6j Ae%AG@L 2. 系统说明 *L~?.9R Tol"D2cyf
7&dK_x,a 3. 模拟 & 设计结果 CQPq5/@Y4 "A> _U<Y 4. 总结 e{H(
~e&O?X 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 \EXa 9X2 k=cDPu - 第1步 yJ="dEn>i" 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 y\})C-& +sV~#%% 第2步 "|Kag|(qB 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 <I#M^}` 1xr2x; 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 ]:;dJc'
&WeN{ 应用示例详细内容 ia (&$a8X
E
$P?%<o 系统参数 kS?CKd9by
gLRDd~H 1. 该应用实例的内容 ]57yorc` *^w}SE( Y^nm{ ;G+ 2. 设计&仿真任务 kZ PL$\/A
sm;kg= 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 &KY!a0s ?\)h2oi!F5 3. 参数:输入近乎平行的激光束 t
.}];IJP O~v~s
'c& CYlS8j 4. 参数:SLM像素阵列 ?bpVdm!
!>V)x /::Y &&$f 5. 参数:SLM像素阵列 Yep~C%/} /\;m/cwrl" E*IP#:R 应用示例详细内容 9 r&JsCc
xQ2:tY#? 仿真&结果 <s7cCpUFP
oh@Ha? 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM !Qf*d;wxn( 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 =6+99<G|%M 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 pp@B]We yn"4qC#Z 2. VirtualLab的SLM模块 ->X>h_k.Y
;4(}e{
"Zx<hL*
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 L`e19I$
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 d S'J @e=#
1;DRcVyS+ 3. SLM的光学功能 ?
|#dGk g
)0]U"Nf ho 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 #vhN$H :&q 为此,将区域填充因子设置为60%。 N'-[>w7vK2 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 Fi;H /%s:aO 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd 2P)O
0j\/ e(xuy'4r 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 TVx
`&C+ I{r*Y9 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd {~uTi>U fm`V 2'Rm 4. 对比:光栅的光学功能 qTN%9!0@9 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 9X%:
){ 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 :e nR8MS 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 .}v" `>x 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 ? dHl' 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 h6OQeZ.
{=?(v`88
AFm9"mQrw 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd _ilitwRN3
P"l'? ` 5. 有间隔SLM的光学功能 P.5l9Ns(O 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 biU_ImJ>0 w/(c}%v}= 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd O,|NOz =>B"j`oR 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 =JgR c7 [U8/nT ZJQFn 6. 减少计算工作量 16Jq*hKU Hz."4nhv
abm 3q!a- 采样要求: N0Y4m_dm* 至少1个点的间隔(每边)。 <Q/)SN6_E 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 BWy-R6br u~j
H
采样要求: Z\EA!Cs3 同样,至少1个点的间隔。 R-9o3TPa 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 5cinI^x)f 随填充因子的增大,采样迅速增加。 A8{ xZsH ;Tp9)UP) 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 [M,4qe8,} 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 WV.hQX9P 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 3MFTP5~ 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 y|KQ`; R"V90b Cf zMu9A|
2Kz$y
JTp 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
c8"Qmy 7. 指定区域填充因子的仿真 ?o?$HK
H"8B4~*7H 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 H.4ISmXU 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 2m:K
%Em6u 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 t_w\k_
T 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 t#|R"Q# Y;_F ,4H R$hIgw+p[
8. 总结 Ih|4ISI 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 /go[}X5QR[ xS tsw5d 第1步 n|&=6hiI 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 f^B'BioW( X+N5iT 第2步 ].kj-,5>f 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 7$Z_'GJ]1C 扩展阅读 W1X3ArP]m8 扩展阅读 $j\>T@ 开始视频 V~j^ - 光路图介绍 [YULvWAJ 该应用示例相关文件: {%u^O/M - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 7uL.=th'
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 'Xj^cX