空间光调制器(SLM.0002 v1.1) iT)WR90 FJM;X-UOY 应用示例简述 %.x@gi q
0??Yr 1. 系统细节 @O3/3vi1 光源 t)1phg4H) — 高斯光束 ~0tdfK0c 组件 F#q&( — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 f5dR 5G 探测器 =LH}YUmd — 视觉感知的仿真 o#i
]" — 电磁场分布 R e:T9K'e 建模/设计 89eq[ |G_ — 场追迹: ^3I'y
UsY 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 ]YD(`42 x .{rbw9 2. 系统说明 ~5#)N{GbY 9fVj
8G w^VSj%XH! 3. 模拟 & 设计结果 ,r+"7$ 0-e 4. 总结 m3
IP7h'
Z^6#4Q]YC 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 .;Y
x*] [QEwK|!L 第1步 d?Y-;-|8Qh 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 Sni=gZ K B\<ydN 第2步 P1d,8~; 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 LF=c^9t xUj2]Q>R+ 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 QPg2Y<2
el@XK}<dr 应用示例详细内容 :0Te4UE;P7
O3_B<Em 系统参数 &:vscOl
5RhF+p4 1. 该应用实例的内容 d(l|hmj4j9 zO2{.4 x0x $ 9 2. 设计&仿真任务 0$Ff#8
wu^q`!ml 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 F.KrZ3%4iB 0BC`iql5 3. 参数:输入近乎平行的激光束 %]jQ48^R ]gP8?s| 3X'WR] 4. 参数:SLM像素阵列 v>I<|
u5 E/m UX}*X`{ 5. 参数:SLM像素阵列 YC)hX'A\ t,Q'S`eTU d^SE)/j 应用示例详细内容 DcU C,
z6Z='=pT 仿真&结果 "t+r+ipf])
3:" &Z6t# 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM !fZLQc 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 W?PWJkIw 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 |uQ[W17^N ]PVto\B= 2. VirtualLab的SLM模块 TolrEcI
Ut;'Gk
w{P6i<J
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 Y UZKle
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 \*9Ua/H
4
m$sJ 3. SLM的光学功能 "i''Ui\H
XW:%vJu^` 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 -7L 为此,将区域填充因子设置为60%。 jNqVdP]d\ 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 d"l}Ny)C ;(`e^IVf 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd u2,H ]- ]c,l5u}A$ 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 mrReast aZxO/b^j 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd UGf6i"F 6'vi68 4. 对比:光栅的光学功能 f~v"zT 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 TRCI\ 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 j #es2; 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 777rE[\@b 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 X=#It&m%s 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 x {vIT- f
.hgH9$\
*sAOpf@M 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd vhNohCt
s/PhXf\MN 5. 有间隔SLM的光学功能
BUV/twU) 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 {)uU6z
{' /6smVz@O 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd t@r#b67WJe Jbkt'Z(&J 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 ef,F[-2^o y*
rY~U#3 fYs?D+U;PF 6. 减少计算工作量 _4Ii5CNNU W`5a:"Vg
<\Vi,, 采样要求: 6w@,I; 至少1个点的间隔(每边)。 CCn/ udp@ 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 67fIIXk& }*Dd/'2+1 采样要求: dGa@<hg 同样,至少1个点的间隔。 -@#Pc# 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 oN4G1U
Kc 随填充因子的增大,采样迅速增加。 ^} tLnF 6g8M7<og9R 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 `{%-*f^ 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 &6Ns7w6*z 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 S>(z\`1qm 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 5W|u5AIw d~3GV(M %5`r-F
Hl!1h% 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
.byc;9M% 7. 指定区域填充因子的仿真 NuIT{3S
]|t9B/()i 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 l,^xX=, 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 1x8(I&i 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 \?r$&K]4 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 4Sqvhz yg`E22 eS*
*L3
8. 总结 ktU9LW~ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 Q})t<l+L .fbYB,0w 第1步 ]}_p3W "Y9 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 &^AzIfX}Gw 8
H,_vf 第2步 j1W
bD7*8 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 [2 =^C=52 扩展阅读 Pu1GCr( 扩展阅读 7xz#D4[ 开始视频 vY4WQbz( - 光路图介绍 8f|9W%jt 该应用示例相关文件: %f_FGh - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 sYl&Q.\q
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 r$94J'_