切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • 1161阅读
    • 0回复

    [技术]空间光调制器像素处光衍射的仿真 [复制链接]

    上一主题 下一主题
    在线infotek
     
    发帖
    7377
    光币
    31026
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-11-11
    空间光调制器(SLM.0002 v1.1) ukwO%JAr  
    ;q&2$Mb  
    应用示例简述 Gzkvj:(V  
    "?r_A*U  
    1. 系统细节 y41,T&ja  
    光源 X3Yi|dyn T  
    — 高斯光束 }zy h!  
     组件 =kDh:&u%  
    — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 @;`d\lQ  
     探测器 bD4aSubN  
    — 视觉感知的仿真 CA]u3bf~  
    — 电磁场分布 (K`@OwD  
     建模/设计 &[qJ=HMm I  
    — 场追迹: ;Yu|LaI\<m  
     一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 D0VbD" y  
    +Z1y1%a  
    2. 系统说明 DM=`hyf(v  
    SK t&BnW  
    $9rQ w1#e  
    3. 模拟 & 设计结果 &b9bb{y_$K  
    |?<^4U8  
    4. 总结 9 `T2  
    |DkK7gw  
    考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ~fY\;  
    ,HECHA_"  
    第1步 u`Abko<D  
    将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 7QM1E(cMg  
    1g>>{ y  
    第2步 S:{`eDk\A_  
    分析不同区域填充因子的对性能的影响。 DW >|'w%  
    YES-,;ZQ'  
    产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 6YF<GF{  
    rq![a};~  
    应用示例详细内容 5j>olz=n}  
    V|j{#;  
    系统参数 (,;4f7\  
    gtRVXgI  
    1. 该应用实例的内容 ykD-L^}  
    5nS}h76mZ  
    !eA6Ejf  
    2. 设计&仿真任务 M%v 6NxN  
    bA02)?L  
    由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 ;&`6b:ug  
    ^7iP!-w/  
    3. 参数:输入近乎平行的激光束 Mt\.?V:  
    C8AR ^F W  
    X3R:^ff\  
    4. 参数:SLM像素阵列 }dpE>  
    bEB9J- Q  
    Xz\X 8I  
    5. 参数:SLM像素阵列 Rgb&EnVW  
    Ws;X;7tS  
    @j'GcN vs  
    应用示例详细内容 fR#W#n#m  
    j5MUP&/g3  
    仿真&结果 <|1Khygv  
    |u_fVQj  
    1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM EnP>  
     由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 EqF>=5*  
     内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 K8{ef  
    9=.7[-6i9  
    2. VirtualLab的SLM模块 =?[:Nj636  
    i0'g$  
    ;"JgNad  
     为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 C=8IQl[^e  
     必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 [ @9a  
    u]sxX")  
    3. SLM的光学功能 vf?Xt  
    />2zKF?  
     在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 Xh@;4n  
     为此,将区域填充因子设置为60%。 9;fs'R  
     首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 3*#$:waGd  
    g4&f2D5  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd 1^tM%2rP'  
    <$Dj ags,F  
     此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 d"OYq  
    'tJxADK  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd *r|Zbxf(  
    ?G 'sb}.  
    4. 对比:光栅的光学功能 T$1(6<:+.  
     上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 )0zg1z  
     所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 cp2a @  
     通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 g1I8_!}~  
     级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 ta0;:o?/d  
     这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 d#|%h] 6  
    JfRqOEP4Y  
    dpcU`$kt  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd RmJ|g<  
    Uj^Y\w-@Z  
    5. 有间隔SLM的光学功能 7ea%mg\  
    现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 #6mr'e1  
    &"DD&87N%  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd NL&![;  
    11RqP:zg  
    下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 pER[^LH_)  
    `a5,5}7v%`  
    oF_ '<\ly=  
    6. 减少计算工作量 =yZ6$ hK  
    {EJ+   
    lcXo>  
    采样要求: B$MHn?  
     至少1个点的间隔(每边)。 'j;i4ie>*x  
     如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 `2`h4[^ [X  
    7>f)pfLM  
    采样要求: ,qj M1xkL$  
     同样,至少1个点的间隔。 F]cc?r312  
     假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 {7.uwIW.1  
     随填充因子的增大,采样迅速增加。 #>2cfZ`6'J  
    rge s`&0  
     为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 BirnCfj/2  
     如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 s8SCEpz  
     如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 Y4N)yMSl"  
     通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 ]F #0to  
    \6!s";=hQ  
    AmK g;9LS  
    #J~xKyJi'  
    减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
    f!G%$?]  
    7. 指定区域填充因子的仿真 vy5I#q(k  
    Yu:($//w  
     由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 M $zt;7P|  
     全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 jF-0fK;)*  
     因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 Hk?E0.  
     在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 A_+*b [P  
    TIxlLOs  
    %>t4ib_8  
    8. 总结
    `+(4t4@ew  
    考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 4MRN{W6  
    =Ds&ArG  
    第1步 Ryn@">sVI  
    将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 k[\JT[Mp  
    :<uCi\9(  
    第2步 Qm4cuV-0{  
    分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Kr%`L/%  
    扩展阅读 ]0g1P-&,U  
    扩展阅读 Vu,:rPqI  
     开始视频 eNrwkV^  
    -    光路图介绍 Tvw(S q};  
     该应用示例相关文件: *oAnG:J+M  
    -     SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 }3R:7N`,|  
    -     SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究
    l#a*w  
     
    分享到