空间光调制器(SLM.0002 v1.1) Em~7D]Y KjFZ 应用示例简述 MekT?KPQ{L
:"M9*XeHO 1. 系统细节 ,]~u:Y} 光源 l-<3{! — 高斯光束 v%H"_T 组件 r/mA2 — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 <X:Ud&\ 探测器 OLk9A — 视觉感知的仿真 ruZYehu1W — 电磁场分布 t{/:( Nu 建模/设计 Zz"I.$$[M — 场追迹: l;XU#6{ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 zyaW3th ZB~l2 2. 系统说明 u:_sTfKm& GXT]K>LA ZhhI@_sz 3. 模拟 & 设计结果 8g<Q5( X|X4L(i 4. 总结 EX[B/YH
~hS3*\^~M 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 Ho|o,XvLv XMt
u "K 第1步 !OPSS P]- 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 NFB*1_m w+t# Yb\7 第2步 lbQ6
a 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 lemVP'cn GxYW4b 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 dv"as4~%
gO+\O 应用示例详细内容 }czsa_
5JS ZLC 系统参数 8{R&EijC
S4L-/<s[* 1. 该应用实例的内容 ;c1relR2 F(d:t! TG1P=g5h 2. 设计&仿真任务 yt. f!"
8$\Za,)g 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 t(}/g A/!<kp{S 3. 参数:输入近乎平行的激光束 inYM+o!Ub 2Oyy`k
lwVk(l
Z 4. 参数:SLM像素阵列 8jRs=I
:%N*{uy tC^ 1} 5. 参数:SLM像素阵列 },rav] zm3-C%:Bw YnSbw3U.I 应用示例详细内容 OFL|RLiD
>L^xlm%7o 仿真&结果 gdl| ^*tc
S"zk!2@C 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM xZX`%f- 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 `3J':Vh 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 RL6Vkd? xPt*CB 2. VirtualLab的SLM模块 }7.#Dj/r6
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cg,Ua!c
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 jO=*:{#x
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 _m Xs4
Zb."*zL 3. SLM的光学功能 YJd8l>mz
<|a=hHPi: 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 'f*O#&? 为此,将区域填充因子设置为60%。 t)} \9^Uo 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 #EJP(wXa 6a*83G,k 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd '99@=3AB:` \QGa4_# 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 wZjlHe #1[z;Mk0 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd B52yaG8C 1fY>>*oP 4. 对比:光栅的光学功能 gXt O*Rfqk 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 +Qs!Nhsq 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 _42Z={pZZq 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 vG~+r<: 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 }~F~hf>s 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 9*\g`fWc}{
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+"8}R~`! 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 9OyN i
]v\^&7pW 5. 有间隔SLM的光学功能 XFQNr` 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 Jt]&;0zn2 -w]/7cH 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd @r<b:?u $3k
"WlRG 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 :3^dF}> d; =u Efx=T$%^& 6. 减少计算工作量 `*aBRwvK~ t`YWwI.
,[X_]e;
采样要求: z]=8eV\ 至少1个点的间隔(每边)。 .x-J44i@/ 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 _R^y\1Qu ^"x<)@X 采样要求: qSTW b% 同样,至少1个点的间隔。 zTY;8r+ 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 SE)nD@: 随填充因子的增大,采样迅速增加。 d>|;f Uw)=WImz[ 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 YJ,*(A18 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 s8vKKvs`9 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 l5k?De_(x 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 NiA4JgM]v fx)KNm8Lx =7
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R0wf#%97 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
()\jCNLT 7. 指定区域填充因子的仿真 "3}<8c
9S>g6}[E#0 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 >zngJ$ 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 [T^?Q%h 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 g_aCHEFBv 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 hw=GR_, 1nI^-aQ3 {^m Kvc
8. 总结 ?djQZ* 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 rN5tI.iC ashar&' 第1步 zN!j%T.e
将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 V%NeZ1{ e H}ZQ?uK; 第2步 |PP.<ce\- 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 a#[-*ou` 扩展阅读 YGk9b+` 扩展阅读 cb$-6ZE/ 开始视频 #;Tz[0 - 光路图介绍 O{]9hm(tN 该应用示例相关文件: I=Ijdwb H - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 <9eu1^g
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 41Ve}%