空间光调制器(SLM.0002 v1.1) &%;K_asV; X< 4f7;]O 应用示例简述 'wjL7PI
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;h 1. 系统细节 C zxF 光源 <_#a%+5d — 高斯光束 ]SL0Mn g8 组件 |W*i'E — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 5OC{_- 探测器 <xh";seL — 视觉感知的仿真 c^7QiTt_ — 电磁场分布 g]9A?#GyE 建模/设计 k3UKGP1 — 场追迹: F/:Jp3@ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 \+>g"';f N*'d]P2P`J 2. 系统说明 ?@H/;hB[| ~y>N JM>1 ZDr&Alp)o 3. 模拟 & 设计结果 l{t!
LTf; [4b_`L 4. 总结 lj 2OOU{
&6^QFqqW`- 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 PDhoCAh
! -op(26:W< 第1步 lx&;?QQ 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 [Mp8" b$N&sZ 第2步 O[^u<*fi{ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 mH9_HK.C ^gY3))2_ 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 hw0u?++
_e$T'*q 应用示例详细内容 .iZo/_
V?N8 ,)j 系统参数 frUO+
TSUT3'&~p 1. 该应用实例的内容 Z?)=4| =4804N7 f~{4hVA 2. 设计&仿真任务 R_B`dP<"~Y
/yFs$t>9 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 2-_d~~O1N c. 06Sw* 3. 参数:输入近乎平行的激光束 \pVWYx @"L*! CQ:38l\`gd 4. 参数:SLM像素阵列 b>f{o_
&nfGRb O^sOv!!RH/ 5. 参数:SLM像素阵列 @]@6(To v_I)eac z $kd9^lj#[ 应用示例详细内容 |yVveJ
{ !NXu 仿真&结果 @<C<rB8R
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&< 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM E@7);i5K 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 d'2q~ 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 lFbf9s:$B ;CLOZ{ 2. VirtualLab的SLM模块 # GOL%2X
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 v6KRE3:V
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 agj_l}=gO
#T$yQ;eQ 3. SLM的光学功能 mH/9J
< m/@_" 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 3h`_Qv%g 为此,将区域填充因子设置为60%。 G!.%Qqs 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 r0,XR =p>IP"HJ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd G1G*TSf FS7@6I2Ts 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 1s6L]&B ]h?p3T$h 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd uc]`^,`2/ f8S! FGiNc 4. 对比:光栅的光学功能 4}Dfi5:
上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 .^V9XN{'a 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 ]La~Bh6;m 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 JXq l=/% 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 giORc
这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 9qI#vHA
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' ?uwUBi 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd ^!rAT1(/_
3NSX(gC% 5. 有间隔SLM的光学功能 dzs(sM= 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 {8T/;K@ "-R19SpJKh 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd 1fqJtP6 cjwc:3
CM 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 kV:T2}]|H l$ufW| lw=!v%L 6. 减少计算工作量 >,a$)z F}c}I8Ao
'f-8P 采样要求: 8 t`lRWJ 至少1个点的间隔(每边)。 J=6(
4> 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 hj,y l& 1C+d&U 采样要求: Sy"!Q%+| 同样,至少1个点的间隔。 HcCT=x7: 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 N~tq] 随填充因子的增大,采样迅速增加。 Td5yRN! ? hw2Sb,bY 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 1.I58(0~+ 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 `oOVR6{K9 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 nd~O*-uYg 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 4WP@ F0@n3 'a G`qPB <op|yh3Jkk
)`K!XX$% 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
zI"1.^Trn 7. 指定区域填充因子的仿真 T\w{&3ONm
eXi}-~o 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 LG;U?:\ 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 P(aN6)D 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 *K;s*-|U 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 `X%Qt~ 22@w: _*++xF1
8. 总结 ou=33}uO 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 a/xnf<(H ''H;/&nDX 第1步 /kAbGjp0 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 w+gPU1|(r GDYFhH7H 第2步 cC]lO 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 b<j*;n. 扩展阅读 v(;n|=O 扩展阅读 sp6A*mwl 开始视频 [:8+ +#KD - 光路图介绍 q9(Z9$a(\ 该应用示例相关文件: DFp">1@`PR - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 }aL&3[>>
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 LoW}!,|