空间光调制器(SLM.0002 v1.1) t'^/}=c- )8yNqnD 应用示例简述 9\V^q9l
)nQ.6 1. 系统细节 n<?:!f` 光源 0Y{A — 高斯光束 WUKYwA/t 组件 KATt9ox@ — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 23zB@aE_?1 探测器 QD<f)JZK — 视觉感知的仿真 ^ [2A<
g — 电磁场分布 kf';" 建模/设计 k\A8Z[ — 场追迹: _L9`bzZj
一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 b3W@{je LXrnAt 2. 系统说明 .^ soX} NeQ/#[~g 5Osx__6 $t 3. 模拟 & 设计结果 ]JbGP{UiN o@vo,JU 4. 总结 L'.7V ~b{
h>9GfF3 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 $0
eyp]XC\ YuFJJAJ 第1步 Ng2qu!F7 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 VD,g fM6Pw6k 第2步 YRqIC -_ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 ckS.j)@.c }[k~JXt 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 ,,OO2EgZ`
O)n"a\LD 应用示例详细内容 IZ/+RO n
P-.>vi^+ 系统参数 Y:XE4v/)@L
1Jjay# 1. 该应用实例的内容 q{ i9VJ] S{&,I2aO (]>=y 2. 设计&仿真任务 B|zJrz0q3
)%I2#Q"Nt- 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 1YL6:5n !RN(/ &%y 3. 参数:输入近乎平行的激光束 fYBmW') gs7h`5[es ~dg7c{o5 4. 参数:SLM像素阵列 EBc_RpC/Z
j#hFx+S 7.`Fe g. 5. 参数:SLM像素阵列 e0Zwhz, ErnjIx: 0Z$=2c?xT 应用示例详细内容 ?RNm8,M
>)\x\e 仿真&结果 CY"&@v1
j51Wod<[ 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM 0]p!
Bscaf 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 LQ(z~M0B 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 Q8OA{EUtq e=e^;K4 2. VirtualLab的SLM模块 <pyLWmO
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QhR.8iS
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 B)>r~v]
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 o}O"
<+o*"z\mI 3. SLM的光学功能 n@>h"(@i
$=3&qg"! 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 ;r'y/Y'? 为此,将区域填充因子设置为60%。 b|jdYJbol& 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 ,41Z_h qmQ}
所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd 0se0AcrW =Y!x 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 j=c=Pe"?u ,t?c=u\5 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd }(tuBJ9 4u0\|e@a 4. 对比:光栅的光学功能 /6S% h-#\ 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 G4O
$gg 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 IY_u|7d 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 yR}PC/> 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 ::?,ZA 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 J5Pi"U$FkY
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4PdJ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd CVxqNR*DN
y-C=_v_X 5. 有间隔SLM的光学功能 xwvg@ 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 ,yPs4',d XL=Y~7b 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd e8E*Urtz Qk`ykTS! 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 Hg[g{A_G[ R;yi58Be .0ov>4,R 6. 减少计算工作量 ,^Ug[pGG- 4S9hz
ahJ-T@ 采样要求: 4DLp+6zP 至少1个点的间隔(每边)。 x&^>|'H 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 oY
NIJXln 6>L) 采样要求: vH[G#A~4 同样,至少1个点的间隔。 _Fc :<Ym? 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 /kZ{+4M 随填充因子的增大,采样迅速增加。 >{/As][ $nf5bo/; 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 %1JN% 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 \}:RG^*m 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 *HC[LM 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 4k7
LM] E8gbm&x* 85{2TXQ^%=
T{A5,85 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
heizO",8.& 7. 指定区域填充因子的仿真 xbTvv>'U
E`A6GX 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 (B/od# nU 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 YZ0y_it) 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 DA9-F 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 7NQ@q--3s JkfVsmc<{h ~k(4eRq
8. 总结 /7`fg0A 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 j Z6]G{ .,vF%pQ 第1步 UZ*Yt 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 jIvSjlm I isF
jJPe 第2步 tJ qd 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 :6T8\W 扩展阅读 @nNhW 扩展阅读 ~ZxFL$<'3 开始视频 h=x{
3P;B - 光路图介绍 P&g.%8b~84 该应用示例相关文件: U%PII>s'# - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 C@P4}X0,=
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 g!![%*'
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