空间光调制器(SLM.0002 v1.1) yi7-[W} UsYH#?|O 应用示例简述 xGqe )M>8?
''wWw(2O 1. 系统细节 ?}B9=R$Pi 光源 A"C%.InZ — 高斯光束 v^[Ny0cM 组件 -^;G^Uq6= — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 W?'!}g(~ 探测器 FQ?H%UcW — 视觉感知的仿真 d <qbUk3; — 电磁场分布 i<1w*yu 建模/设计 \x x<\8Qr_ — 场追迹: c?eV8h1G 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 ;oULtQ m5zP|s1`[' 2. 系统说明 mb?DnP,z :H\6wJ &.o}(e:] 3. 模拟 & 设计结果 t_,iV9NrZ G+'MTC_ 4. 总结 w]) bQ7)
!hFb< 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 XT= #+ 4\2p8__ 第1步 oRy?Dx+H 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 _ZD)#? rem&F'x0V 第2步 $}OU~d1q 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Q_6./.GQ
Iu(T@",Q# 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 `U!eh1*b
cPI #XPM= 应用示例详细内容 @OFl^U0/
< W/-[ M 系统参数 g=b[V
%nOBs ln 1. 该应用实例的内容 ?$;_a%v6 ,Xk8{= jfqWcX.X= 2. 设计&仿真任务 %MbjKw
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由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。
F.PD5%/$q k%:]PQjYT 3. 参数:输入近乎平行的激光束 YcRjbF,|6 zi[bpa17W tI{
n! 4. 参数:SLM像素阵列 A~nq4@uj
V[+ Pb] L\ _8}\ 5. 参数:SLM像素阵列 pR 1 v^m| YV{^S6M @/anJrt 应用示例详细内容 IOTHk+w
fBD5K3 仿真&结果 "@GopD
gA2\c5F< 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM A+Y>1-=JO 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 v]U[7 j 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 <LZvG IMl ?)4|WN|c_ 2. VirtualLab的SLM模块 1x M&"p:
$L:g7?)k
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 N1P[&lR
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 &}:Hp9n
xC<OFpI\ 3. SLM的光学功能 '9<Mk-Aj
4(u+YW GX 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 =kZPd>&L 为此,将区域填充因子设置为60%。 .__X[Mzth3 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 1/gY]ghL j*W]^uT, 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd Rc?wIL) y7d)[d*Mz 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 /o8`I
m jh\q2E~,` 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd
8EbYk2j ,D
;`t 4. 对比:光栅的光学功能 2lAuO!% 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 Eto0>YyZ 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 _Mq@58q' 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 2c8,H29 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 e
*;"$7o9 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 ^x4,}'(
m'aw`?
m>zUwGYEu 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd /,E%)K;
(X>r_4W$ 5. 有间隔SLM的光学功能 oPzt1Y 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 ]#S1AvT @f*/V e0. 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd kz,Nz09}W uO7Ti]H 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 /MQd [03] Am kHVg En5I 6. 减少计算工作量 2R2Z6} `Ph4!-6#
8.Y6r 采样要求: >L&>B5)9 至少1个点的间隔(每边)。 nfrC@Av 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 l<7 b VCbnS191* 采样要求: .O1g'% 同样,至少1个点的间隔。 AU-/-h=Mr 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 z%*ZmF ^K 随填充因子的增大,采样迅速增加。 5f}63as 2&$ A x 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 O$$s]R6 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 r<&d1fM;X 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 z${B| 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 %\r4c*O1q l Fzb$k}_{ +Icg;m{
U6.$F#n 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
<bGSr23* 7. 指定区域填充因子的仿真 3b#KrN'
I"T_< 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 #<v3G)|aS 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 = UTv 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 lQ!6n 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 x]y~KbdeB !Otyu6& $[FO(w@f
8. 总结 lXv{+ic 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 gR~XkU !30Dice 第1步 5<ery~q 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 s\>$ K%!H? D}\%
Q # 第2步 s)ZL`S?</ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 4\Q ?4ZX 扩展阅读 O]^E%;(]}i 扩展阅读 c(YNv4*X 开始视频 T-|z18|! - 光路图介绍 #\t?`\L3 该应用示例相关文件: &:'Uh
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