空间光调制器(SLM.0002 v1.1) U &RZx&W @.} @K 应用示例简述 nJY3 1(p
J*t_r-z 1. 系统细节 rb*;4a 光源 75eZhs[b — 高斯光束 3|=L1Pw# 组件 <jG[
z69) — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 q,>4#J[2;s 探测器 sf8F h — 视觉感知的仿真 *+_+ZDU — 电磁场分布 ,$Xhwr
建模/设计 :H>0/^Mg0 — 场追迹: F~?|d0
一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 <aQ5chf7 1t} 2. 系统说明 *vOk21z77d f7:}t+d gl 27&'?E* 3. 模拟 & 设计结果 :ka^ztXG @4=Az1W* 4. 总结 7KN+ @6!x
W~/{ct$Y 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ;e$YM;;d 5A+r^xN 第1步 r0q?e`nsA 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 s&1}^'| fT{%zJU 第2步 Y|E rVf4 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 vsJM[$RF :D~J(Y2 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 <YvW /x
lr ]C'dD 应用示例详细内容 %H4>k#b@$
^w_\D? 系统参数 Rd[^)q4d$w
GOD{?#c$ 1. 该应用实例的内容 y7x*:xR[ r9n:[A&HE MH|R @g 2. 设计&仿真任务 zBc |gx
eU\XAN#@ 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 lYS*{i1^ ' Xn02p,, 3. 参数:输入近乎平行的激光束 yz=aJ
v;
H 7m8(8$-6 6[-[6%o#z 4. 参数:SLM像素阵列 onl,R{,`0
CW
-[c ZqXp f 5. 参数:SLM像素阵列 f o idneus XrI$@e* a3L-q>h 应用示例详细内容 O=oIkvg
._q<~_~R 仿真&结果 ?hYWxWW
`eeA,K_ 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM "O~kIT?/v 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 E6zPN?\ < 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 mJYD"WgY <GLn!~Px@5 2. VirtualLab的SLM模块 6zI}?KZf
g([M hf#
e-#Vs{?|r
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 d>V#?1$h
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 %e:[[yq)G
Kl<NAv%j 3. SLM的光学功能 }ld^zyL
6Ad=#MM 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 G&08Qb ,N 为此,将区域填充因子设置为60%。 IyAD>Q^ 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 Mbn;~tY> M 0$E_* 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd k 7:Z\RGy N_/+B]r }T 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 tG~[E,/` %M:$ML6b< 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd w F3 MzN=% Hp@Q 4. 对比:光栅的光学功能 x"r,l/gzy 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 3-'3w , 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 *%*Bo9a/ 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 kK/XYC
0D 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 ^?*<.rsG 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 :(@P
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TFAR>8Nm
HiBI0)N} 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd XlnSh<e
wB&5q!{! 5. 有间隔SLM的光学功能 _!_1=|[ 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 `3`.usw t7Mq>rFB 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd 9ENI%Jz .R
l7,1\ 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 Ks<+@.DLTu ~+ 9vz pC #LQ 6. 减少计算工作量 Y[H769 IR#BSfBZ
XUnw*3tPJ 采样要求:
J5';Hb) 至少1个点的间隔(每边)。 U`5/tNx 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 i<):%[Q)> gA%
A}) 采样要求: fI1
9p Q 同样,至少1个点的间隔。 ZCViZWo 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 p_X{'=SQ1 随填充因子的增大,采样迅速增加。 Y B,c=Wx dFA1nn6{ 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 r?!:%L 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 WA0D#yuJ/ 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 }r@yBUW 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 gS8+S\2 43]y]/do QZIzddwp
r)OiiD" 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
<XQwu*_\ 7. 指定区域填充因子的仿真 W6_ rSVm
jU* D 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 DR,7rT{$ 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。
{f@Q&(g 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 ?~4x/d% 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 5+;Mc[V3- #9Ect@?N0 f*xr0l
8. 总结 C ocw%Yl 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 &9|L Z9K 0{vH .b
@ 第1步 )RT?/N W 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 9 M%Gnz Pq8oK'z- 第2步 9t6c*|60#n 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 H%gAgXHn 扩展阅读 K&Bbjb_| 扩展阅读 Y;%LwDC 开始视频 (CY D]n - 光路图介绍 CtV|oeJ 该应用示例相关文件: r-TrA$k - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 9}m?E<6&
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