空间光调制器(SLM.0002 v1.1) K)DDk9* a@UZb 应用示例简述 Pu*6"}#~
\Ani}qQ%| 1. 系统细节 dE4L=sTEsy 光源 q$B>|y U — 高斯光束 iA' lon 组件 rzm:Yx — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 YW( Qmo7 探测器 V`XNDNJ: — 视觉感知的仿真 %B5wH_p — 电磁场分布 P;qN(2L/=< 建模/设计 Vt".%d/`7 — 场追迹: #AL=f'2=f 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 'kL#] ,P70Jb 2. 系统说明 ,0~n3G Wp!%-vzy& mUdOX7$c> 3. 模拟 & 设计结果 0;AA/ 6i.-6></ 4. 总结 "NXB$a!:
Of[XKFn_ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 odjT:Vr ]%wVHC 第1步 `Nb[G)Xh 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 FtfKe"qw ebUBrxZX 第2步 P(,p'I;j 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Vr^n1sgE}r $m].8? 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 Q;43[1&3w
GzI yP(U 应用示例详细内容 hRrn$BdLX
X.f>'0i 系统参数 R3;Tk^5A
ND>r#(_\ 1. 该应用实例的内容 xp}hev^@$ _m
gHJ 0v' ?fUlgQ}N 2. 设计&仿真任务 <UV1!2nv*
19Mu61 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 D6>2s\:>vp &]v4@%<J 3. 参数:输入近乎平行的激光束 $JJrSwR<h naYrpK,. jr /pj? 4. 参数:SLM像素阵列 q_g+Jf
P-D
s;S?;(QI 52 fA/sx 5. 参数:SLM像素阵列 w$z}r
UEM(@zD] 7hlO#PYZ 应用示例详细内容
A: 5x|
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)d 仿真&结果 J'SZ
Gb#Cm] 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM ;#xmQi'` 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 ^;Y|3)vvB 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 jkiFLtB@V % NA9{<I 2. VirtualLab的SLM模块 P"y`A}Bx
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+*ZO&yJQ^<
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 @z4*.S&tz
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 \ 3wfwu.q
XQ9O$
~q 3. SLM的光学功能 4e~A1-
\W1,F6&j 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 DcoX+8 7 为此,将区域填充因子设置为60%。 =j5MFX.-o 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 ein4^o<f. WN?O'E=2 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd [F0s!,P "?ucO4d 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 Ne8Cgp lef2 X1w}! 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd Ghx3EVqnx" 4wa`<H&S5 4. 对比:光栅的光学功能 iop2L51eJ 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 J&[@}$N 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 !MYSfPdS 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 *.sVr7=j 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 A+SE91m 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 'Jt]7;04p
tZ=E')!\
Gn|F`F 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd uD1e!oU
QMa;Gy 5. 有间隔SLM的光学功能 E*.{=W }C 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 r=5{o1"
z.$4!$q 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd o<<xY< vwjPmOjhS 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 _LMM,!f )PG6gZYW u.d).da 6. 减少计算工作量 2^mJ+v< ]ndvt[4L
"x=f=; 采样要求: KM}f:_J*lg 至少1个点的间隔(每边)。 [`{Z}q& 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 wfU7G[ TD'L'm|2 采样要求: T*#/^%HSG 同样,至少1个点的间隔。 q*\x0"mS/ 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 U}6.h&$ 随填充因子的增大,采样迅速增加。 *AoR==:ya qUjmB sB 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 +=q$ x Ia 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 /tP|b_7O 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 ^* J2'X38I 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 &y3OR1_Sm* wF <n= #JgH}|&a$
M)eO6oX| 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
3a?o3= 7. 指定区域填充因子的仿真 *+j*{>E
$^OvhnL/ 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 IhA5Wt0j 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 rs,2rSsg! 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 -R57@D>j\ 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 : YXX8|> Gnfd;.
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8. 总结 [z9`)VIe 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 c0%"&a1]]V 1u:
gFUb 第1步 nQ q=7Gu 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 V n* RRRCS]y7$t 第2步 jUSmqm' 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 <\NY<QIwFw 扩展阅读 ?Cl%{2omO 扩展阅读 &d"G/6 开始视频 .q9
$\wM/ - 光路图介绍 9[G[$c 该应用示例相关文件: {$R' WXVs - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 Qp/QaVQ+
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