空间光调制器(SLM.0002 v1.1) )ED[cYGx ZkIQ-;wx 应用示例简述 ^]DWrmy
OX`n`+^D 1. 系统细节 *=7[Ip<X 光源 ~+np7 — 高斯光束 Vx*q'~4y!| 组件 ;dFe >`~ — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 $ vjmW!
O 探测器 $ B9=v — 视觉感知的仿真 Yq^y"rw — 电磁场分布 2bJFlxEU 建模/设计 0&\Aw'21 — 场追迹: i`SF<)M( 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 f5a](& b
tu:@s8ci 2. 系统说明 X2uX+}h*tA 3PA'Uk"5Z mCGcM^21-x 3. 模拟 & 设计结果 vRq xZN bevT`D 4. 总结 H+;wnI>@
LbR-uc?x 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 +Y~+o-_
m#nxw 第1步 >&&xJ5 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 -"zu"H~t4 ,2TqzU; 第2步 zFtGc 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 #I?iR3u iW?9oe 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 @;6}xO2
%)9]dOdOk 应用示例详细内容 MQ*#oVqv
PBL^xlg 系统参数 #& wgsGV8C
vy@Lu
cB 1. 该应用实例的内容 X6.O; ElXe=5L\# AuTplO0_rE 2. 设计&仿真任务 5G!U'.gr
WQpJd7 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 uC(S`Q[Bg g8+,wSE 3. 参数:输入近乎平行的激光束 U_- K6:tr pYVy(]1I(3 H040-Q;S' 4. 参数:SLM像素阵列 y.:-
Yd;r8rN ^qx\ e$R 5. 参数:SLM像素阵列 Z]TVH8%|k l _O~v? rhTk}2@h 应用示例详细内容 LH#LBjOZk
(u&yb!` 仿真&结果 *'YNRM\}
f#kevf9zc 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM G=cH61 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 kA<r:/ 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 K=x1mM+RK hZWK5KwT 2. VirtualLab的SLM模块 rp#*uV9;
}AW)R&m
&PuJV + y
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 H}V*<mgw
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 Zfv(\SI
6Y)^)dOi 3. SLM的光学功能 W4*BR_H&*
jL+}F /~r 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 #}7m'F 为此,将区域填充因子设置为60%。 eBTedSM?t 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 +N$7=oGC
Jf<yTAm 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd $lAb6e$n \G=R hx f 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 jfPJ5]Z ICbdKgLz 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd T{4fa^c2J (vsk^3R[6 4. 对比:光栅的光学功能 qm8n7Z/ 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 &@utAuI 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 Usf"K*A 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 5rA!VES T 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 fyq]M_5 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 8+|V!q
b/,!J]W
l[ ": tG 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd sx<+ *Trl
oB06{/6 5. 有间隔SLM的光学功能 ;=VK_3" 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 @VC9gdO/ vYR=TN=Z4
所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd iC|6roO!jk pL}j
ZTo 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 ym*#ZE`B! zHoO?tGf JeTrMa 2 6. 减少计算工作量 5@>4)dk\ B,vHn2W
&Wv`AoV 采样要求: /zG-\e U 至少1个点的间隔(每边)。 />^`*e_ 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 JIbzh?$aD 95?5=TF 采样要求: C+(Gg^ w 同样,至少1个点的间隔。 t:"=]zUU 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 C*y6~AYN# 随填充因子的增大,采样迅速增加。 QV'3O| sx( l 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 G9'YgW+$7 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 \B>[je-d 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 !/Bw,y ri< 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 fv j5[Q nL+YL ^I'Lw
}Cmj (k`~ 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
BV }(djx 7. 指定区域填充因子的仿真 Qk~0a?#y5
]IHD:!Z-= 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 ^=izqh5S 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 $O~F>.* 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 ;!0.Kk
4 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 APQQ:'>N4~ {GX
&)c4 =JbdsYI(
8. 总结 (ju
aDn) 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 {*<O"|v ."F'5eTT~ 第1步 3vRLg b 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 N}}PlGp$ K.#,O+-Kg` 第2步 B'KXQa-$O 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 =N*%f% 扩展阅读 mHI4wS>()+ 扩展阅读 7SA-OFM 开始视频 vSYunI - 光路图介绍 nv_m!JG7 该应用示例相关文件: zO).<xIq+ - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 0$f_or9T
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