空间光调制器(SLM.0002 v1.1) c(5r SZ )AO8& 应用示例简述 _Vl22'wl
`:&jbd4H 1. 系统细节 %M
KZ':m 光源 lf?dTPrD — 高斯光束 "PhP1;A9, 组件 @GrQ/F7 — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 8n`O{8:fi 探测器 +;*dFL — 视觉感知的仿真 WD${f#]N — 电磁场分布 y)%CNH)*x 建模/设计 hJsYKd8g — 场追迹: ;kv/(veQ1< 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 5q Y+^jO]o F-SD4a 2. 系统说明 &]xOjv/? :K]&rGi, {!G 3. 模拟 & 设计结果 i=mk#.j~ b?Zt3# 4. 总结 8kA2.pIk
8a}et8df: 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 B>=NE.ulUL -Nn@c|fz 第1步 G+dQ" cI9 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 Yfotq9.=+ P9/Bc^5' 第2步 ln~;Osb 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 KbP( ; 5UU1HC;C 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 rz'A#-?'oG
^}>Ie03m50 应用示例详细内容 l]wjH5mz=i
~,jBm^4 系统参数 P_{jZ}y(
g4"0:^/ 1. 该应用实例的内容 ,|u^-J@
wEu"X hnf7Q l} 2. 设计&仿真任务 45+w)Vf!
w4UaWT1J 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 L
UitY fP:26pK^ 3. 参数:输入近乎平行的激光束 I0v$3BQ4 dYP-QUM$7 qC;1ND 4. 参数:SLM像素阵列 NrTK+6 z
93+p~? 14LOeo5O 5. 参数:SLM像素阵列 6%nKrK A3jT;D9Y% a9<&|L < 应用示例详细内容 E/[<} ./
IC[iCrB 仿真&结果 H/Wo~$
|#x]FNg 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM _Vj uQ 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 (ZI11[e{ 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 Fy!-1N9|l =%UX"K` 2. VirtualLab的SLM模块 #4Z]/D2G
N9s ,..
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 "h >B`S
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 ag~4m5n*~
fsr0E=nV 3. SLM的光学功能 k%[pZ5.!
beN(7jo 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 4PVkKP'/ 为此,将区域填充因子设置为60%。 xbeVqP 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 }RT#V8oc P{{pp<tX*& 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd ,*Vt53@E m:{ws~ 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 8&0+Az"{O '&<T;V% 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd Fo0dz >#jfZ5t 4. 对比:光栅的光学功能 4jyDM68i 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 q_sQC5:s 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 V6.w=6:`X 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 @&7|Laa 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 [kjm EMF9i 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 j![ ; ;
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GdxMHnn= 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd k~<b~VcU
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5. 有间隔SLM的光学功能 mnwYv..ePz 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 ee9nfvG- _Coh11 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd N0:gY]o% ?3v Oc/2@ 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 aeP
6JHj j|N8"8"
YjV-70' 6. 减少计算工作量 xq.HR_\ |6mDooTy
w,'"2^Cwy 采样要求: 3O W)% 至少1个点的间隔(每边)。 o,#[Se*n 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 <`~zKFUQ[ ;g0p`wV 采样要求: 5tIM@,.I/ 同样,至少1个点的间隔。 j#`d%eQ~J 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 "HuV' 随填充因子的增大,采样迅速增加。 ?Cu1"bl 7Z(F-B
+j 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 s /?&H- 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 3e<FlH{ 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 L;n2,b 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 H|uvc vf TvEN0RV2 m
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T2nbU6H 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
XuQ7nlbnq 7. 指定区域填充因子的仿真 E27N1J+1
6 +:Tv2 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 YEEgDw]BQ 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 _Gpq=(q) 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 UHtxzp =[ 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 /<HEcB
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8. 总结 =-ky%3:`@ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ]aqHk <By6%<JTn 第1步 09f:%!^u 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 wW7W+,{o j4au
Zl]NF 第2步 yAu-BObD 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 hLVS}HE2 扩展阅读 a:PS}_. 扩展阅读 VtR?/+8X 开始视频 RaKfYLw - 光路图介绍 f PoC
yl 该应用示例相关文件: 0 L34)W - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 Q]';1#J\
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 *cdr,AD?lH