空间光调制器(SLM.0002 v1.1) \C6m.%%={R a&cV@~ 应用示例简述 xAO]u[J
r\1*N.O3|O 1. 系统细节 \G"/Myi 光源 (l^lS=x — 高斯光束 V , "'k<y 组件 ejQCMG7 — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 XDWERvIj 探测器 x~z 2l#ow — 视觉感知的仿真 rTJWftH! — 电磁场分布 "LWp/ 建模/设计 GJ$,@ — 场追迹: Y\=:j7' 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 M]{!Nx hh{liS% 10 2. 系统说明 e8# 3Y+Tc {!S/8o"] M#p,Z F 3. 模拟 & 设计结果 W
| }Hl{} @88 efF 4. 总结 ][mc^eI0s|
2n=;"33%a 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 93dotuF |)_R
bqZ 第1步 vP2QAGk< 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 +u2Co_FJ& LKZI@i) 第2步 &|4Uo5qS=Z 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 E.3}a>f d7P @_jO6 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 ,+RO 5n
r?TK@^z 应用示例详细内容 f#t^<`7
S#9SAX [ 系统参数 6.jZy~
#jJcgR< 1. 该应用实例的内容 l_%~X9" $5IrM7i ("6W.i> 2. 设计&仿真任务 r;C\eN
a\w|tf 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 "=(;l3-o E-D5iiF 3. 参数:输入近乎平行的激光束 U!5*V9T~J m5pVt4 -Tx tX8v 4. 参数:SLM像素阵列 &>{>k<z
4:'] 'E .7FI% 5. 参数:SLM像素阵列 dWy1=UQfP 4QNR_w C":\L>Ax 应用示例详细内容 mmL~`i/
<3}l8Z 仿真&结果 Wwha?W>
*F*X_O 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM xW =$j| 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 ([*t. 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 Ji[g@# zIFL?8!H9{ 2. VirtualLab的SLM模块 (Y)h+}n5N
%#9 ~V
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 GJs[m~`8#
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 fJ2{w[ne
[r8 d+ 3. SLM的光学功能 sV[Z|$&Z
5-HJ&Q 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 dA/o4co 为此,将区域填充因子设置为60%。 4d
G- 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 Pfx71*u, (N|xDl&; 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd |:+pPh!- o$VH,2 QF 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 ~iZF~PQ1_ rVy\,#| 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd ;/ KF3
% vXyo 4. 对比:光栅的光学功能 TSSt@xQ+ 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 vw]
D{OBv* 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 FM"BTA:C 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 JK"uj% 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 -Y?(Zz_w 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 T1HiHvJ
y%bqeo
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D{c>i`\G 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd $Wzv$4;
Y0O<]2yVx 5. 有间隔SLM的光学功能 hX| UE 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 oy
bzD S\g7wXH 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd <S@mQJS!y F>kn:I"X) 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 \w[ZY$/ H0 n@kKr 8sF0]J[g{ 6. 减少计算工作量 p]|ME '3UIriY6
Pq\V($gN 采样要求: R
4QwWSBJ 至少1个点的间隔(每边)。 soQzIx 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 zGd*Q5l lEbR) B, 采样要求: OGi4m | 同样,至少1个点的间隔。 ae#HA[\0G 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 I u~aTgHX% 随填充因子的增大,采样迅速增加。 %802H%+ zHc 4e
为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 rn[}{1I33Q 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 ?Gv!d 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 $_7d! S" 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 $4*E\G8 &Yks,2:P `{Di*
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]xFW 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
*o\Y~U-so 7. 指定区域填充因子的仿真 2X;0z$
]#-/i2-K 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 [(P[qEY 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 (9 z.IH7}k 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 Ta\8>\6 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 RQ)!KlY 2\CkX aU]O$Pg{
8. 总结 F;&fx( 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 {9|$%4kRl qTa]th; 第1步 ;0Ct\ [eh 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 9s6>9hMb) GE8D3V;*V 第2步 e5>5/l]jsg 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 #
/,2MQ 扩展阅读 `ToRkk&&>{ 扩展阅读 a.`JS 开始视频 -G<2R"Q#N - 光路图介绍 qqt.nrQ^ 该应用示例相关文件: >&Ui* - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 >?{iv1
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