空间光调制器(SLM.0002 v1.1) 09Y:(2Qri :*)b<:4 应用示例简述 EtA ,ow
UQCond+K 1. 系统细节 M,bcTa8 光源 t++\&!F — 高斯光束 |p":s3K"Hy 组件 &A~(9IV — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 Q?-u J1J 探测器 MpLn) — 视觉感知的仿真 BaE}|4 — 电磁场分布 =N{-lyr) 建模/设计 f9J]-#I if — 场追迹: *uMtl' 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 [`=:uUf3 O]\eMM& 2. 系统说明 szD
BfGd%j a8r+G]Z _tVrLb7`s 3. 模拟 & 设计结果 $
iU~p ? p^ ':@= 4. 总结 |NaEXzo|qY
,ikn%l#cm 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 btIh%OM [:-o;K\.-a 第1步 ($:JI3e[; 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 8:4`q9 h*?/[XY 第2步 )z2hyGX 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 AC/8 2$ YM]ZL,8 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 v0S7 ]?_
]mmL8%B@_ 应用示例详细内容 OX/}j_8E^(
E[E[Za^Y 系统参数 7q,M2v;
EL-1o02- 1. 该应用实例的内容 xT1{O ` 9b*1-1" SvR? nN| 2. 设计&仿真任务 $N1UEvC%Q
SH5G 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 8y,
]>n ^zr]#`@G 3. 参数:输入近乎平行的激光束 |k^ * U4@W{P02 _GK3]F0 4. 参数:SLM像素阵列 Qv@Z#
s8<)lO<SV. i%)Nn^a;T 5. 参数:SLM像素阵列 "?Cx4<nsM Hc{0O7 h .Iscr^~ 应用示例详细内容 ]h$,=Qf
hD
xPi/nWl`| 仿真&结果 8?rRLM4
'M#'BQQ5 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM C,xM)V^a 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 g.d%z 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 l;dZJ_Ut$ Vuqm{bo^ 2. VirtualLab的SLM模块 >9.xFiq<
]7, mo
zU9G:jH
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 0#rv.rJ{
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 |[VtYV _{
^{T3lQvt 3. SLM的光学功能 x`vIY-DS
m18 If 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 TKsze]/q 为此,将区域填充因子设置为60%。 oiq7I@Y`x 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 qi\!<clv {g>k-. 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd {zc<:^r^ ~\%MJ3 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 heliL/ GP5Y5) 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd <<da TQV l*|^mx^Q 4. 对比:光栅的光学功能 JxP=[>I 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 K`nI$l7hg 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 :A,V<Es}I" 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 Fs_umy# 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 "bRg_]\q6 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 D@i,dPz5Zl
.Y%)&
V6,D~7 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd an 3"y6.8
e'oM%G[ 5. 有间隔SLM的光学功能 N;A#3Ter 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 pHFh7-vj H V`{YuP 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd oVsj
Q `CI9~h@k 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 0}YR= U
n#7@8, .F0V 6. 减少计算工作量 k[l+~5ix b'^OW
FX"% 采样要求: Z1FO.[FV 至少1个点的间隔(每边)。 fv!l { 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 \`#;J?Y|`F `)F lb|da 采样要求: 2,O-/A;tW* 同样,至少1个点的间隔。 )EYsqj 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 J'4{+Q_pa 随填充因子的增大,采样迅速增加。 GdavCwJ ~F*pV* 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 )p"37Ct? 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 GV1\8OG7 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 ~1pJQ)!zlq 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 jMUE&/k $EbxV"b+ J.:"yK""
+vkqig 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
!Y-MUZ$f 7. 指定区域填充因子的仿真 #lQbMuR
!%NxSJ 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 FyYQ4ov0&o 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 6rL'hB!!]* 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 Q{!lLka 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 qt}vM*0}V M|FwYF^ ;)[RG\
8. 总结 ?V#%^ 57p 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 673v {$>*~.Wu 第1步 aZ2liR\QE 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 Eszwg F {]: 第2步 A,MRK#1u 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 GY<Y, 扩展阅读 Gu~y/CE' 扩展阅读 |]DZc/ 开始视频 B+ GPTQSTb - 光路图介绍 X.xp'/d 该应用示例相关文件: -hL8z$} - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 Iqe4O~)
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