空间光调制器(SLM.0002 v1.1) O-vGyNxP| #mR4fst 应用示例简述 #$~ba%t9%
h-a!q7]l 1. 系统细节 }TRAw#h 光源 x} /,yaWZ — 高斯光束 |!|^ v 组件 <^.=>Q0S\ — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 yfQ5:X 探测器 5
*}R$ — 视觉感知的仿真 n>3U_yt6b — 电磁场分布 Kyt)2p 建模/设计 KT|RF — 场追迹: ] H~4 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 vgt]:$ c:S] R" 2. 系统说明 8kE]_t FLal}80.o: WFR?fDtE 3. 模拟 & 设计结果 ,&PE6hn [u@Jc, 4. 总结 !J1rRPV
zepop19 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 %V&n*3 RpG+>"1] 第1步 :a8 YV!X 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 w&$d* E c$S{^IQ 第2步 #1c]PX 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 }<@j'Ok}. dG QG!l+> 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 )M=ioE8`h
3K&4i'}V 应用示例详细内容 spU)]4P&
^L1L=c;, 系统参数 R_]{2~J+
N#V.1<Y 1. 该应用实例的内容 2 &/v] 5Dp#u !Bz0^1,L 2. 设计&仿真任务 rWys'uc
OJT1d-5p 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 ELrsx{p: nKR{ug>I) 3. 参数:输入近乎平行的激光束 ERwHLA i
8!zu!-0 (npj_s!.C) 4. 参数:SLM像素阵列 .)1_Ew
tqAd$:L +[\eFj|= 5. 参数:SLM像素阵列 4=uhh
&<zd.~N" $VAx:Y| 应用示例详细内容 0![
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T|&[7%F3" 仿真&结果 &aM7T_h8
FYs)MO 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM PcB_oG g 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 #T`t79*N 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 d]9U^iy jq'!UN{ 2. VirtualLab的SLM模块 l4T7'U>`
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 Cs2;z:O]
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 N@B9
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'`'GK&) 3. SLM的光学功能 (E,T#uc{
R+gz<H.Q 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 B?VhIP e 为此,将区域填充因子设置为60%。 sNun+xsf^ 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 XdH\OJ rt
JtK6t 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd ]weoTn: zy*/T>{# 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 hdTzCfeZ5@ S9HwIH\m 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd \OlmF<~ :JlP[I
4. 对比:光栅的光学功能 f#ri'&}c
: 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 JNcYJ[wqv 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 d[rv1s>i 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 XMG]Wf^%\< 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 %s19KGpA 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 ZiLj=bh
j,]Y$B
UGK*G y 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd F R|&^j6
phO;c;y} 5. 有间隔SLM的光学功能 zbJT&@z 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 YBh'EL}P e<r,&U$ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd O|_h_I-2 HSq}7S&U 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 r(gXoq_w .F+@B\A< TX 6. 减少计算工作量 ||yzt!n I-OJVZ( V
<FZ@Q[RP 采样要求: LdJYE;k Ju 至少1个点的间隔(每边)。 ws4cF
N9P? 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 n]he-NHP eYx Kp!f 采样要求: [$[:"N_ 同样,至少1个点的间隔。 +{/ 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 7g_]mG[6 随填充因子的增大,采样迅速增加。 I!^O)4QRx HV<Lf
6gE 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 vTn}*d.K= 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 4`,j =3 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 `-LGU7~+ 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 s=CK~+,/ X.:]=,aGW bJs9X/E
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减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
gCyW Vp 7. 指定区域填充因子的仿真 ,a#EW+" Z
jlxpt)0i 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 y+7PwBo%e 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 <tioJG{OT 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 u]OW8rc 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 =FD;~ }V\N16f Kv~U6_=1O
8. 总结 g:EVhuK 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 cph:y G}p\8Q}' 第1步 )2M>3C6>f 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 8g7<KKw m4*@o?Ow 第2步 @e{^`\ l=< 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 NF?
vg/{ 扩展阅读 a0Zv p>Ft 扩展阅读 |ZQ@fmvL/p 开始视频 U,LTVYrO - 光路图介绍 PdvqDa8 该应用示例相关文件: 7x<i :x3 - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 =z8f]/k*>
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 M8u<qj&<O