空间光调制器(SLM.0002 v1.1) Q3 yW#eD p
#Y2v 应用示例简述 l G $s(
=k:yBswi 1. 系统细节 aW(Hn[}^ 光源 # GOL%2X — 高斯光束 Fm4)|5 组件 i?B(I4a!G — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 zaG1 探测器 1XJLGMW, — 视觉感知的仿真 DgODTxiX — 电磁场分布 I6rB_~]h 建模/设计 WFG`-8_e[I — 场追迹: _7b' i6- 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 tWaM+W Xsd+5="{N 2. 系统说明 bL0>ul" +AYB0`X) k%%0"+y#a 3. 模拟 & 设计结果 H&!?c5 IM=3n%6 4. 总结 &%r<_1
"g:1br?X,9 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ?<STl-]& |H
,-V; 第1步 R?iC"s! 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 8C8,Q\WV(~ &9F(C R 第2步 GGez!?E% 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 m aOt/- )6*)u/x: 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 1h#e-Oyff
a~&euT2 应用示例详细内容 !![HR6"Q
`&URd&ouJD 系统参数 v4vIcHDs
qu%}b> 1. 该应用实例的内容
B6.9hf og`K!d~ HwZ"l31 2. 设计&仿真任务 NM+(ss'
JVR,Py:%G 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 V,&A?
Y q!AcMd\ 3. 参数:输入近乎平行的激光束 +d=w%r) 2Z+:^5 jJyS^*.X 4. 参数:SLM像素阵列 %<{1N|
0+Z?9$a1 N"A`tc5& 5. 参数:SLM像素阵列 \S0QZQbz/ xjh(;S' Kp>fOe'KW 应用示例详细内容 C_;A~iI7
47!k!cHa 仿真&结果 Ru@ { b`
" 2Q*- 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM J*4T|#0 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 0DX)%s,KO 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 Ynl Zyw! n;e.N:p 2. VirtualLab的SLM模块 cYz|Ux
5Kl;(0B9
"f:_(np,
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 6e%ZNw{#=
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 ,j(S'Pw
J+m1d\lBu 3. SLM的光学功能 &] O^d4/
f&!{o= 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 oAgU rl;R 为此,将区域填充因子设置为60%。 _2X6c, 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 E| y
}aL&3[>> 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd AI]lG]q8 rPK 1# 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 ~p
x2kHZ W1ql[DqE{ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd O?0`QMY c~u91h? 4. 对比:光栅的光学功能 d "25e"(~F 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 k,61Va 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 465?,EpS 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 X'p%K/-m 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 lJt?0;gn 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 yM*_"z!L
*BKIA
(Q"~bP{F 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd O@a7MzJ
f1|&umJ$ 5. 有间隔SLM的光学功能 7n7UL0Oc1 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 i93^E~q] EZ[e
a< 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd ''}2JJU{ , 8o
Y(h 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 !-4VGt&c, o,'Fz?[T% |a=7P 6. 减少计算工作量 ;0-R"c)- u5tUm
/%TL{k&m$ 采样要求: R]0tG
至少1个点的间隔(每边)。 PV-B<Y 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 Esf\Bo" n&8SB'-r 采样要求: f1
`E- 同样,至少1个点的间隔。 nZ[`Yrq)0 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 AE=E"l1] 随填充因子的增大,采样迅速增加。 [`'K.-?# VyWzb 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 KgXu x-q 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 aVp-Ps|r 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 t(UdV 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 {
T?1v*.[ lS?#(}a1) [0lO0ik>G
0P;\ :-&p 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
($t;Xab 7. 指定区域填充因子的仿真 w{ Pl
mp8Zb&Ggb 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 KxDfPd+j[ 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 #lF 2qw 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 !*o{xq 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 !J[! i"e ,,G'Zur7 Dlz1"|SF
8. 总结
%$=2tfR 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ~'N+O K .>p.k*vU 第1步 oG
c9
6B% 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 eQ<GNvm luJNdA:t& 第2步 G-'CjiMu 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 l0eh}d 扩展阅读 2yVQqwQm 扩展阅读 `:Zgq+j& 开始视频 m,&2s-v - 光路图介绍 h$p}/A 该应用示例相关文件: %2'Y@AX` - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 Aa^w{D
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 *vT Abk$