空间光调制器(SLM.0002 v1.1) |/%5~=%7 OU#p^5K 应用示例简述 a'Zw^g
+s;Vfc$b]H 1. 系统细节 l`:u5\ rM 光源 $G }9iV7 — 高斯光束 |42;171
组件 R)*l)bpZ# — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 *vIP\NL?H 探测器 shy[>\w — 视觉感知的仿真 c$BH`" <* — 电磁场分布 Ij =NcP 建模/设计 vx' ] ; — 场追迹: JEWc{)4QD 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 #G`K<%{?f >#l:]T 2. 系统说明 .\ya 3^fwDt} pYr+n9)^ 3. 模拟 & 设计结果 r%ebC 7gB?rJHV, 4. 总结 xJU]py~o
Vky]In= 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 2]5Li/ 6J}Yr5oD 第1步 =&9c5"V& 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 Sf.OBU1rs KfZb=v;-l 第2步 R4JfH 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 j&Xx{ 4v >G%oWRk 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 <-n^h~,4
CnZEBAU 应用示例详细内容 ']I!1>v$[
_`^AgRE 系统参数 +Ss3Ph
~tRGw^<9 1. 该应用实例的内容 |K{d5\_ 6aHD?a o LW.j)wB] 2. 设计&仿真任务 WcY_w`*L
Rf>)#hn% 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 -@`Ah|m@} #ley3rJW] 3. 参数:输入近乎平行的激光束 h!|U j ;fW~Gb?" bolG3Tf| 4. 参数:SLM像素阵列 ;s3\Z^h4kd
hwL`9.w 8Yf*vp>T/x 5. 参数:SLM像素阵列 oA7DhU5n 1i~q~O, 2\z|/
Q 应用示例详细内容 _Y]Oloo('
t^zE^:06 仿真&结果 W SxoGly
L*,h=#x( 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM =7H\llL4BC 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 4u%AZ<-C}m 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 {J,"iJKop D&uaA-;s 2. VirtualLab的SLM模块 @{_X@Wv4iV
*c/V('D/
ji\LC%U-
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 h^Yh~84T
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 FGyrDRDwC
S (xs;tZ 3. SLM的光学功能 Z8Y&#cB
}[UH1+`L 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 Qb>("j~Z 为此,将区域填充因子设置为60%。 ED79a: 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 (}>)X] <\Y(+?+uZ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd JeNX5bXW %$Py @g 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 Shy.:XI Fv
%@k{ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd ?Sa,n^b*H C R?}* 4. 对比:光栅的光学功能 .JB1#&B+ 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 Ij.mLO] 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 YzM/?enK}T 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 ip}%Y6Wj 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 &K9RV4M5 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 Pp69|lxV=k
}wvR s5;o
Z`GEF|eh 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd W=293mME
h>[ qXz 5. 有间隔SLM的光学功能 M.MQ?`_"b 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 4]0:zS*O {cLWum[SY 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd i>CR{q #4LTUVH 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 F-ofR]|)> J>#yA0QD2 PyHL`PZZ 6. 减少计算工作量 }93FWo. u^E0u^
H\<0{#F 采样要求: )T
gfd5B 至少1个点的间隔(每边)。 (0LA.aBIf 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 2|RoN)% ~~k0&mK|Q 采样要求: Z>Rshtg 同样,至少1个点的间隔。 '@#(jY0_ 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 Y`-q[F?\y 随填充因子的增大,采样迅速增加。 <'sm($.2 >Jn` RsuV 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 1'TS!/ll]; 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 gYGoJH1 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 F 8sOc&L 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 40].:9VG ^*$!9~ bVN?7D(
w;AbJCv2 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
zIS ,N ' 7. 指定区域填充因子的仿真 Q$`uZ
>>C
S8 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 ><S2o%u~ 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 y,n.(?!* 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 y,`0f| 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 ks%;_~b $;=?[Cn |)%H_TXTy
8. 总结 j)iUg03>/4 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ]S9Z5l0 zn^ G V 第1步 D[6sy`5l 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 wnXU= O6b+eS 第2步 Y@MxKK uj 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 \fI05GZ 扩展阅读 ;KmrBNF 扩展阅读 t*Z5{ 开始视频 E|_8#xvb - 光路图介绍 /FPO'} 6i 该应用示例相关文件: sVmqx^- - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 PGYx]r
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 Rm$( X5x>o