空间光调制器(SLM.0002 v1.1) !Y ;H(.A/ ^lHb&\X 应用示例简述 Zdv.PGn
${A5- 1. 系统细节 L#
`lQ"`K 光源 D+@-XU<Lp< — 高斯光束 w)45SZ. 组件 +R|U4`12 — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 $q Zc!Qc 探测器
8q]J;T — 视觉感知的仿真 ksB — 电磁场分布 ]]el| 建模/设计 mgi,b2 — 场追迹: AuoxZ?V 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 5h_<R!jA <lC]>L 2. 系统说明 "KMLk 6eOrs-ty IZv~[vi_ 3. 模拟 & 设计结果 Hze-Ob8 Z} c'Bm( 4. 总结 Cw
1 9y
`d75@0: 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 285_|!.Y +O)]^"TG 第1步 @@'nit 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 1a<]$tZk M-{*92y&
| 第2步 Up<~0 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 +p13xc?#j M6J/mOVx5 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 {*N^C@
HR;/Br 应用示例详细内容 sC% b~
KR&s? 系统参数 G7
1U 7
D,MyI# 1. 该应用实例的内容 .2e1S{ 9 BR;QY1 }<SNO)h3 2. 设计&仿真任务 V/J>GRjw
;SfNKu 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 |Dg;(i? N6h1|_o 3. 参数:输入近乎平行的激光束 Q4X7Iu: hF2/
y.:P Am=wEu[b 4. 参数:SLM像素阵列 x Y| yI>
<D;MT96SG [!G)$< 5. 参数:SLM像素阵列 NjbwGcH%\ 'V&2Xvl% (zY * 0lN 应用示例详细内容 NUMi])HkN
]pWP?Ws 仿真&结果 Xtft*Z
{1~9vHAZ 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM =HMmrmz: 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 S."7+g7Ar 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 On4w/L9L5 a'uU,Eb}#w 2. VirtualLab的SLM模块 kBbl+1{H
.!i0_Rv5x
en>9E.?N
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 27>a#vCT
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 @&5 A&(
VpSEVd:n 3. SLM的光学功能 *xcP`
|1"!kA 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 h'l^g%; 为此,将区域填充因子设置为60%。 7IW> >RBF 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 =D].` >dk9f}7- 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd /&h+t^l_Qj S8%n .<OB 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 -l
"U"U"F t^.'>RwW| 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd |z~LzSJv ^Gq5ig1rxy 4. 对比:光栅的光学功能 5 [4Z=RP 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 ^YKy9zkTl 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 y? "@v. 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 (;}tf~~r 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 pCC 7(Ouo 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 pcH<gF(k
2zK"*7b?
jJ~Y]dQi 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 3sFeP&
wVqd$nsY" 5. 有间隔SLM的光学功能 Kd3QqVJBz1 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 Q.k
:\m*h )p8I@E 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd cXN _*% W&(f&{A 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 .
uR M{Bs =XT)J6z^" xMI+5b8 6. 减少计算工作量 K)S;:MLG= ?} ( =
TJaeQqob 采样要求: st/n"HQ 至少1个点的间隔(每边)。 e"Rm_t 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 @u)
'yS vG
Vd 采样要求: F
Z!J 同样,至少1个点的间隔。 Ftv8@l 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 sG,+
随填充因子的增大,采样迅速增加。 mJC3@V
s rg5]&<Vq8 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 )NT5yF,m 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 4:mCXP,x 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 <y)E>Fl 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 M)!skU 9`"DFFSMS 4_LQ?U>$
}nud 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
jtKn3m7 +p 7. 指定区域填充因子的仿真 PuXUuJx(
Pxhz@":[ 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 &|5GB3H= 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 _3>djF_u 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 ?znSx}t 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 GBP-V66 =Q(vni83< @Bs0Avj.
8. 总结 R$m`Z+/@ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 R1ktj (~s|=Hxq|- 第1步 $h28(K% 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 5j^NV&/_ 2~c~{ jl\ 第2步 O~@fXMthh 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 NY.k. 扩展阅读 K:5eek 扩展阅读 ,EEPh>cXc 开始视频 o a<q / - 光路图介绍 8#LJ* o 该应用示例相关文件: uQeu4$k! - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 QH@>icAb
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