空间光调制器(SLM.0002 v1.1) `lWGwFg g( (RV#piM 应用示例简述 ~!qnKM>[
s)`(@"{ 1. 系统细节 kfZ`|w@q 光源 Qrg- xu= — 高斯光束 -Dx3*Zh P 组件 X:$vP'B> — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 }7(+#ISK6 探测器 8FMxn{k2 — 视觉感知的仿真 R54ae:8 — 电磁场分布 GWWg3z.o"W 建模/设计 yxHo0U — 场追迹: #qYgQ<TM! 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 s_XCKhN: r KUtTj 2. 系统说明 }DS%?6}Sy GDSXBa*7 (${ #l 3. 模拟 & 设计结果 7@%qm|i>w ndzADVP 4. 总结 cx$h"
UMe?nAC 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 %UrNPk yRyXlZC 第1步 F
|BY]{ 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 +]A,fmI. \} v@!PQl 第2步 {)l Zfj}l 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 ; F'IS/ttX KR?aL:RYb 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 <O0tg[ub
w01[oU$x= 应用示例详细内容 I3Z?xsa@Z
Zf3(!
a[ 系统参数 *3`R W<Z
:_6o|9J\t 1. 该应用实例的内容 Os'E7;:1h iYgVSVNg :rQDA=Ps 2. 设计&仿真任务 JAd .\2%Y
jmwN 1Se> 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 0*b8?e i@nRZ$ K 3. 参数:输入近乎平行的激光束 XXum2eA bWp:!w#K 2=fM\G 4. 参数:SLM像素阵列 @2h hB W
9!n95 NMK$$0U 5. 参数:SLM像素阵列 >W] Wc4\ /C Xg$%\ >~Zj 应用示例详细内容 jyW={%&
U<0Wa>3zj 仿真&结果 IF6$@Q
W7WHDL^ 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM 3]?='Qq.( 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 G{fPQ= 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 4AJT)I. 1a(\F7 2. VirtualLab的SLM模块 #;a+)~3*O
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 VQH48{X
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 ^g6v#]&WA
b'+Wf#.]f0 3. SLM的光学功能 KBtqtE'(L
1/?Wa 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 WLXt@dK*u 为此,将区域填充因子设置为60%。 ,dQ*0XO! 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 }C_g;7* GBb8}lx 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd j1g$LAe C('D]u$Hdk 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 eC"e
v5v !Z2h?..O 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd ?
bWc<] [>?|wQy >= 4. 对比:光栅的光学功能 6O{QmB0KK 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 e_ epuki 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 .jqil0#)Y" 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 W)r|9G8T 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 A,EG0yb 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 }w35fG^
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i=n;rT 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd &77J,\C$:
8/R$}b>< 5. 有间隔SLM的光学功能 Z1q<) O1QX 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 }rmr0Bh A2\hmp@A@7 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd Xk%eU>d >ph=?MKD 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 dLH@,EKl) 83V\O_7j 4uO88[= 6. 减少计算工作量 9'H:pb2 Szu@{lpP@
0AWxU?$A4 采样要求: ',[AKXJ 至少1个点的间隔(每边)。 5Xxdm-0 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 j7g>r/1eE h#UPU7; 采样要求: \\R<HuTY 同样,至少1个点的间隔。 P|ibUxSA~, 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 Xmmj.ZUr 随填充因子的增大,采样迅速增加。 3:WHC3}W fI;nVRfp 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 8hww({S2 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 3;z1Hp2X 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 6W YVHG 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 Jb> X$|N'% fGeie m 3%9XJ]Qao
eVMnI yr 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
;>ml@@Z 7. 指定区域填充因子的仿真 :##$-K*W"
oc-&}R4= 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 EVqqOp1$v4 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 g51UIN]o- 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 X*7VDt= 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 7fWZ/;p R!"`Po 'tMD=MH
8. 总结 ,\+N}F^
考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。
N6BOUU] s."N7F 第1步 {l/`m.Z 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 UnVa`@P^:G Dby|l#X 第2步 M).CyY;bm 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 p {.6 扩展阅读 Lf<urIF 扩展阅读 O`_, _ 开始视频 @>ys,dy - 光路图介绍 WyB^b-QmDh 该应用示例相关文件: @6!Myez' - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 5sEk rT '
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