空间光调制器(SLM.0002 v1.1) ukwO%JAr ;q&2$Mb 应用示例简述 Gz kvj:(V
"?r_A*U 1. 系统细节 y41,T&ja 光源 X3Yi|dyn T — 高斯光束 }zyh! 组件 =kDh: &u% — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 @;`d\lQ 探测器 bD4aSubN — 视觉感知的仿真 CA]u3bf~ — 电磁场分布 (K`@OwD 建模/设计 &[qJ=HMm I — 场追迹: ;Yu|LaI\<m 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 D0VbD" y +Z1y1%a 2. 系统说明 DM=`hyf(v SK t&BnW $9rQ w1#e 3. 模拟 & 设计结果 &b9bb{y_$K |?<^4U8 4. 总结 9`T2
|DkK7gw 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ~fY\; ,HECHA_" 第1步 u`Abko<D 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 7QM1E(cMg 1g>>{ y 第2步 S:{`eDk\A_ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 DW>|'w %
YES-,;ZQ' 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 6YF<GF{
rq![a};~ 应用示例详细内容 5j>olz=n}
V|j{#; 系统参数 (,;4f7\
gtRVXgI 1. 该应用实例的内容 ykD-L^} 5 nS}h76mZ !eA6Ejf 2. 设计&仿真任务 M%v 6NxN
bA02)?L 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 ;&`6b:ug ^7iP!-w/ 3. 参数:输入近乎平行的激光束 Mt\.?V: C8AR^FW X3R:^ff\ 4. 参数:SLM像素阵列 }dpE>
bEB9J-
Q Xz\ X 8I 5. 参数:SLM像素阵列 Rgb&EnVW Ws;X;7tS @j'GcN vs 应用示例详细内容 fR#W#n#m
j5MUP&/g3 仿真&结果 <|1Kh ygv
|u_fVQj 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM EnP> 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 EqF>=5* 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 K8{ef 9=.7[-6i9 2. VirtualLab的SLM模块 =?[:Nj636
i0'g$
;"JgNad
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 C=8IQl[^e
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。
[
@9a
u]sxX") 3. SLM的光学功能 vf?Xt
/>2zKF? 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 Xh@;4n 为此,将区域填充因子设置为60%。 9;fs'R 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 3*#$:waGd g4&f2D5 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd 1^tM%2rP' <$Djags,F 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 d"OYq 'tJxADK 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd *r|Zbxf( ?G 'sb}. 4. 对比:光栅的光学功能 T$1(6<:+. 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 )0zg1z 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 cp2a @ 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 g1I8_!}~ 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 ta0 ;:o?/d 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 d#|%h]
6
JfRqOEP4Y
dpcU`$kt 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd RmJ|g<
Uj^Y\w-@Z 5. 有间隔SLM的光学功能 7ea%mg\ 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 #6mr'e1 &"DD&87N% 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd NL &![; 11RqP:zg 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。
pER[^LH_) `a5,5}7v%` oF_
'<\ly= 6. 减少计算工作量 =yZ6 $ hK {EJ+
lcXo> 采样要求: B$MHn? 至少1个点的间隔(每边)。 'j;i4ie>*x 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 `2`h4[^ [X 7>f)pfLM 采样要求: ,qj M1xkL$ 同样,至少1个点的间隔。 F]cc?r312 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 {7.uwIW.1 随填充因子的增大,采样迅速增加。 #>2cfZ`6'J rges`&0 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 BirnCfj/2 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 s8SCEpz 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 Y4N)yMSl" 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 ]F #0to \6!s";=hQ AmK g;9LS
#J~xKyJi' 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
f!G%$?] 7. 指定区域填充因子的仿真 vy5I#q(k
Yu:($//w 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 M $zt;7P| 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 jF-0 fK;)* 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 Hk?E0. 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 A_+*b
[P
TIxlLOs %>t4ib_8
8. 总结 `+(4t4@ew 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 4MRN{W6 =Ds&ArG 第1步 Ryn@">sVI 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 k[\JT[Mp :<uCi\9( 第2步 Qm4cuV-0{ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Kr%`L/% 扩展阅读 ]0g1P-&,U 扩展阅读 Vu,:rPqI 开始视频 eNrwkV^ - 光路图介绍 Tvw(Sq}; 该应用示例相关文件: *oAnG:J+M - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 }3R:7N`,|
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 l#a*w