空间光调制器(SLM.0002 v1.1) 1^S'sWwe ]Z=Ij
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应用示例简述 jg?bf/$s
AHq M7+r9 1. 系统细节 )Q~C4 C-j 光源 C B6A}m — 高斯光束 su}&".e^ 组件 xg?auje — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 oI*d/* 探测器 }4Zkf<#7$ — 视觉感知的仿真 UAdz-)$ — 电磁场分布 B&
"RS 建模/设计 d)\2U{ — 场追迹: eap8*ONl 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 X6'H`E[ 55^tfu 2. 系统说明 0iF -}o S.1(3j* C\OECVT 3. 模拟 & 设计结果 p=H3Q?HJ} ~JLYhA^'+< 4. 总结 F.68iN}
Yc|uD-y 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 0 k9<& CG.,/]_ 第1步 pcnl0o~ 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 /22nLc;/Cx ?.Q3 pUT 第2步 Z&-tMai; 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 cW; H!:& `UQEXoB) 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 [3kl^TE
"T7>)fbu 应用示例详细内容 C s#w72N
6Kp}_^|z 系统参数 [ZD[a6(94
F{\=PCZ>7 1. 该应用实例的内容 IkQe~;Y }3J=DCtS x}|+sS,g 2. 设计&仿真任务 YQYX,b
JCD?qeTg 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 Lc%xc`n8B hl<y4y&| 3. 参数:输入近乎平行的激光束 }vY.EEy! Gc'M[9Mh l!:^6i 4. 参数:SLM像素阵列 C `6S}f,
j;+["mi
o,*=$/or 5. 参数:SLM像素阵列 *{|$FQnR>( :v)6gz(p v%nP*i9 应用示例详细内容 X$^JAZ09
^BiPLQ 仿真&结果 G,|KL" H6
-?z\5z 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM nmg{%P 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 |z*>ixK 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 x[x(y{&~ g YUTt 2. VirtualLab的SLM模块 E30Z`$cz:
ke]Yfwk
R$d7\nBG
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 |vz9Hs$@l
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 0X>T+A[E
yLqF ,pvO 3. SLM的光学功能 ^V.'^=l
Mq'IkSt' 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 !^?qU;| 为此,将区域填充因子设置为60%。 V{ |[oIp 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 CmnHh~% l'uOORI 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd d}+W"j; d.AC%&W 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 ,Xtj;@~- eGvOA\y: 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 8R?I`M_b CA*~2| 4. 对比:光栅的光学功能 h.}u?{ 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 oY.\)eJ~> 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。
H=<LutnZ 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 ) rpq+~b 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 b# ='^W3 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 %b?uW]j:
ag;dc
Nfaf;;J} 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd $.8 H>c
%/pc=i|+ 5. 有间隔SLM的光学功能 DFy1 bg 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 -N# #w= ^P$7A]! 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd X<euD9? }-nU3{1 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 $5A^'q Mudrg[@` qqvF-mDN 6. 减少计算工作量 S>t>6&A "+h/-2rA
yU_9a[$V 采样要求: xS+rHC 至少1个点的间隔(每边)。 D^?_"wjW 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 (0C&z/ "b%FmM 采样要求: !y*oF{RZ 同样,至少1个点的间隔。 8zmv
5trt 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 n)RM+g 随填充因子的增大,采样迅速增加。 tX?J@+ 0>@[o8 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 2f..sNz 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 2w4MJ,Uw 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 9o_-=>( 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 sfI N)jh Ac\W\=QvB hQ';{5IKvC
}0{B 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
E{>`MNj 7. 指定区域填充因子的仿真 }N,>A-P
&J(!8y*QyE 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 P']Y(
!L 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 .@k *p >K 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 &t_h'JX& 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 7>,rvW:] TB#Nk5 D^$OCj\
8. 总结 oD0EOT/E 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 _]o5R7[MQ &yLc1#H 第1步 H.~bD[gA 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 qd(hQsfqYU w1i?#!| 第2步 dtTlIhh1V 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 woau'7}XOu 扩展阅读 h8.FX-0& = 扩展阅读 968^ "T# 开始视频 V(..8}LlD - 光路图介绍 =P]GPEz_ 该应用示例相关文件: fU
={a2 - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 61:9(*4~!F
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 x'i0KF