空间光调制器(SLM.0002 v1.1) 5e|2b] f$ p`CVq `k 应用示例简述 [Dv6z t>
;#>,eD2u 1. 系统细节 r'GD 光源 @=0O'XM — 高斯光束 [tP6FdS/M= 组件 j_I — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 >@T(^=Q 探测器 {TWgR2?{C — 视觉感知的仿真 )RFE<
Qcj — 电磁场分布 qOi3`6LCV 建模/设计 ! 54(K6a[ — 场追迹: ~:|qdv%\ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 F9Bj$`#) ,fQs+*j 2. 系统说明 -nvK*rn>} bO:m^* 02EbmP 3. 模拟 & 设计结果 !N::1c@C | gou#zi 4. 总结 N;.cZp2
luEP5l2& 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 DJF-J# z+J4XpX0, 第1步 o#IQz_ 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 1Xv- e8M |0wUOs*5 第2步 f17pwJ~= 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 I'_.U]An 54A ndyeA 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 lIN`1vX(
$g|/.XH% 应用示例详细内容 T]5JsrT
C7]K9 系统参数 N o}Ly{
FuYV}C 1. 该应用实例的内容 >,8DwNuq 8bB'[gJ]{ sQT0y(FW 2. 设计&仿真任务 t._W643~
ak?XE4-N 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 )ow|n^D($M CapWn~*g 3. 参数:输入近乎平行的激光束 ?PIOuN= J`ia6fy.I [Ng#/QXk{ 4. 参数:SLM像素阵列 xQ
`>\f
G<C[A
"%aJ'l2 5. 参数:SLM像素阵列 +h6cAqm] ;a/Gs^W RZ!-,|"cwL 应用示例详细内容 Qa nE]
ZGHkW9b& 仿真&结果 z?HP%g'M~
y>vr Uxgo 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM Tp.0@aC 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 S
x';Cj- 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 ZM/*cA!" NhyVX%qt: 2. VirtualLab的SLM模块 #Sj:U1x
I| qoH N,g
0/d+26lR
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 EKsL0;FV
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 Kc+;"4/#q
ve2GRTO^aC 3. SLM的光学功能 )6#dxb9
-b"7WBl 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 0wV!mC 为此,将区域填充因子设置为60%。 utxT$1iJn~ 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 $d
M:
5y HDUtLUd 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd PR=:3-#R ^GG6%=g' 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 jW5n^Y) PDaHY 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd $E@L{5Yt +U9Gj# 4. 对比:光栅的光学功能 4:-h\% 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 lwhAF, '$ 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 W8j)2nKD 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 })O^xF~ 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 <Y9vc:S 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 @^oOXc,r$
[@Y<:6
sXp>4MomV 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd E\Hhi.-
z"8%W?o> 5. 有间隔SLM的光学功能 +HNY!fv9 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 [8AGW7_ J
>Zd0Dn 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd mMm_=cfv
=,&PD(. 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 |
Zx .C(Ir Cw]&B 6. 减少计算工作量 )K.~A&y@ YKq, `7"%
TB9{e!4 采样要求: uc9t0]o=h 至少1个点的间隔(每边)。 (3YCe { 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 /n;-f%dL {vh}f+2 采样要求: p
x1y#Q 同样,至少1个点的间隔。 :4s{?IY)l 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 hI*gw3V 随填充因子的增大,采样迅速增加。 aP^,@RrL t%Hg8oya 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 '"&M4.J{ 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 8px@sXI*` 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 h<2o5c| 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 '<_nL8A^ h^R EBPe yq+'O&+
7/QQ&7+NkS 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
v3!oY t:l 7. 指定区域填充因子的仿真 _7es_w}R
0nUcUdIf+ 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 \'Oi0qo> 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 ;sd[Q01 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 %+gYZv- 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 S}6Ty2.\ 3)\jUVuj ggQ/_F8u
8. 总结 ZDEz&{3U; 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ?'ID7mL aphfzo 第1步 "ee:Z_Sz 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 y#F`yXUj "(bnr0 第2步 xgoG>~F 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 {8+FxmH 扩展阅读 q"){PRTm/ 扩展阅读 x(oL\I_Z 开始视频 /}+VH_N1 - 光路图介绍 JSz;>
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