空间光调制器(SLM.0002 v1.1) , +J)`+pJx 0$c(<+D 应用示例简述 b way+lh
X>yDj]*4P 1. 系统细节 w^
z ftm 光源 d]E={}qo& — 高斯光束 ]?H12xz 组件 tt2
S.j — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 \ui'~n_t] 探测器 |yO%w # — 视觉感知的仿真 M0xhcU_ — 电磁场分布 1!G}*38; 建模/设计 qQ^CSn98J — 场追迹: yOQae m^O 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 n@ba>m4{ "*D9.LyM 2. 系统说明 u8KQV7E CF','gPnc e,p*R?Y{[ 3. 模拟 & 设计结果 aY?VP?BL Miw=2F 4. 总结 A|1xK90^XT
A32Sdr'D 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 yp$jLBA (nq""kO6' 第1步 %i3[x.M 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 = FV12(U mxF+Fp~ 第2步 r2+ZxMo| 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 ysK J= Ewr2popK 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 b3[[ Ah-
1aS:bFi` 应用示例详细内容 n:wAxU
2HBey 系统参数 z(Uz<*h8
7Ko*`-p 1. 该应用实例的内容 h%u!UHA IFew3!{\ 5EQ)pH+ 2. 设计&仿真任务 .hxFFk%5
VT4>6u} 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 ]!^wB 3j qS! Lt3+ 3. 参数:输入近乎平行的激光束 7K.],eo0 t^K Qv~ C4ktCN 4. 参数:SLM像素阵列 kG5+kwV=:
\F`>zY2$% |pBFmm* 5. 参数:SLM像素阵列 3]9wfT%d w=!xTA "O9n|B 应用示例详细内容 %pOxt<
RAu(FJ 仿真&结果 cy!P!t,@
9]ZfSn) 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM wAW{{ p 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 q9{ h@y 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 `u_MdB}<x; .YvIVQ 2. VirtualLab的SLM模块 I>l^lv&[+
9eHqOmz
.p=J_%K}0x
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 DeW{#c6
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。
Ws2?sn#x
XSN=0N!GB 3. SLM的光学功能 |ITCw$T
h {J io> 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 cy?#LS 为此,将区域填充因子设置为60%。 zBq&/? 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 n05GM.|*s 'lpCwH 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd `_1fa7,z o-&0_Zq_ 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 i9qIaG/ bM?29cs 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd _}JMBIq$ /DHV-L 4. 对比:光栅的光学功能 Tr}XG 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。
<6;@@ 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 EQpF:@_ 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 ;<T,W[3J 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 }.8yKj^p 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 BUsxgs"),
F/LMk8RgR
Vh=U/{Rp1 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd :|ahu
xj8z*fC; 5. 有间隔SLM的光学功能 n!SHExBp 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 j$lf>.[I 4bw4!z9G 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd #ucb .)WEg|D0Ku 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 9(!AKKrr; aqK+ u.H !"RRw&0M 6. 减少计算工作量 ;-"q;&1e 9I<~t@q5e@
<ty]z!B 采样要求: +`1~zcu 至少1个点的间隔(每边)。 l.
cp[ 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 0,@^<G8? 2T?Y 采样要求: ^\`a-l^ 同样,至少1个点的间隔。 a%kvC#B 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 !J@!2S9 随填充因子的增大,采样迅速增加。 ]=i('|YG S!gzmkGcj 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 [S~Bt78d%r 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 [\h?mlG? 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 `s
UY$Q 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 7mXXMm IqepR
>5t 7hPwa3D^
]i0=3H2 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
eYlI }; 7. 指定区域填充因子的仿真 t18j2P>`
n=$ne2/ 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 4]p#9`j 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 kkb+qo 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 &!WRa@x0I 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 H-u
SdT ;;Z'd@ jgPUR#)
8. 总结 i_r708ep6 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ]63!
Wc Rcw[`q3/ 第1步 HRM-r~2:-] 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 -Hw3rv3o m0h,! 第2步 A:Gd F-;[ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 :WQlpLn 扩展阅读 #l:
1R&F 扩展阅读 8>x'. 8 开始视频 Kj3Gm>B<y - 光路图介绍 srO>l ;Vf/ 该应用示例相关文件: puWMgvv - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 ~Sm6{L
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 :KXI@)M