空间光调制器(SLM.0002 v1.1) gl
"_:atW _Ex|f5+ 应用示例简述 hy!6g n
F.
T@)7 1. 系统细节 agT7=hX]. 光源 j|(:I: ] — 高斯光束 Y&GuDLUF 组件 ve-8*Xa — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 ]nc2/S% 探测器 "i%jQL'. — 视觉感知的仿真 p:tN642 — 电磁场分布 kFwxK"n@C 建模/设计 }"4roJ — 场追迹: iC*U $+JG 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 Mpm#GdT _z]v<,=3M 2. 系统说明 j)";:v n1 v,#GE afUTAP@ 3. 模拟 & 设计结果 [pR)@$"k' M=[th 4. 总结 (yGQa5v
9-93aC.|} 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 *B{-uc3o
i6 L 第1步 `xIh\q 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 >a@>N m^A]+G#/ 第2步 @yKZRwg 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 4>k
I^ 2d~LNy 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 (:OHyeNt
)&z4_l8`= 应用示例详细内容 N7pt:G2~%
"mtp0 系统参数 D$hQyhz'
~6sE an3p 1. 该应用实例的内容 :~33U)?{T ^#w{/C/n PkJcd-> 2. 设计&仿真任务 +6376$dC
50,Y 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 ZpWu,1 5p
)IV>G 3. 参数:输入近乎平行的激光束 <m1sSghg R,b59,&3/ Rf:<-C0T 4. 参数:SLM像素阵列 !7c'<[+Hm
n1?}Xq| Z(UD9wY5m 5. 参数:SLM像素阵列 P&\X`ZUA I%i:)6Un-y G4m4k 应用示例详细内容 HEpM4xe$
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pFb{ 仿真&结果 @>:i-5
XNlhu^jh 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM CO'ar, 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 J[r^T&o 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 ?`aTu:1#Z N]u2ql& 2. VirtualLab的SLM模块 T`Ro)ORC#
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 DM'qNgB7
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 5 H *>
BkV(81"C 3. SLM的光学功能 ^]7,1dH}M
xx0k$Dqt2I 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 jE*Ff&]%m 为此,将区域填充因子设置为60%。 EZ{/]gCK 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 HT&p{7kFm WvbEh|y 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd UM`nq;> ]hKgA~; 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 > [8#hSk Gql`>~ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd zHqhl} sbA2W~: 4. 对比:光栅的光学功能 "qgu$N4/> 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 /yp/9r@T0 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 z{' 6f@] 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 U3N(cFXn 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 EIPnm%{1 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 Ph
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%Gu][_.L 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd x,f>X;04
7$#rNYa,z 5. 有间隔SLM的光学功能 s,kU*kHn 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 q-H&5K Zd+> 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd 7O9n!aJ dEG ]riO 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 }>,CUz `1q|F9D M=6G:HHY 6. 减少计算工作量 *7_@7=W, @sdS0pC
%}ixgs7*c0 采样要求: ^6#-yDZC@ 至少1个点的间隔(每边)。 `$M
etQ 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 {?y<%@ %!yxC 采样要求: Mn{XVXY@qm 同样,至少1个点的间隔。 IW mHp] 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 >HX)MwAP 随填充因子的增大,采样迅速增加。 La]4/=a %:%MUdl6 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 x*J|i4 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 BJ2Q 2WW 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 pW7kj&a_. 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 mQL8QW[c ;&q]X]bJ Z7oaQ\fR
&<@%{h@= 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
^^eV4Y5`+ 7. 指定区域填充因子的仿真 u
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UC(9Dz 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 ,uO?;!t 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 YMK>+y[+4 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 I X?@~' 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 l)H9J]
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8. 总结 Nv{eE<<6 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 4[Z1r~t\L xp(mB7;: 第1步 %~G0[fG 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 p#z;cjfSt }pt-q[s> 第2步 y6\ [1nZ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 \3M1.Q4$Gr 扩展阅读 O8iu+}]/6 扩展阅读 6z PV'~q 开始视频 GgT=t)}wu - 光路图介绍 <jg8y'm@0 该应用示例相关文件: @|Z*f\ - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计
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