空间光调制器(SLM.0002 v1.1) ()rx>?x5 z;Gbqr?{{ 应用示例简述 }(hYG"5
(urfaZ;@+ 1. 系统细节 8P'En+uE1| 光源 b{ubp — 高斯光束 Cq~ah 组件 :@z5& h — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 xX=IMM3 探测器 _|Kv~\G! — 视觉感知的仿真 %V" +}Dr — 电磁场分布 #uDBF 建模/设计 Aj)<8 — 场追迹: D;#Yn M3 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 0e5-\a \Lh<E5@] 2. 系统说明 C">=2OO \gk3w,B?E wx?{| 3. 模拟 & 设计结果 ~IN$hKg^ e|+;j}^C 4. 总结 *#{.\R-D
VRN9 yn2 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 /;(%Xd&: NB yN}e 第1步 jU9zCMyNF 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 -gX2{dW N55=&-p 第2步 So]FDd 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 'C?f"P:X{ rp[oH=& 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 m$UT4,Ol
a0j.\g 应用示例详细内容 "aO,
t 6IaRD 系统参数 m_U6"\n 5
pvdZ>D-IU 1. 该应用实例的内容 <!nWiwv ImY*cW=M :XY3TI 2. 设计&仿真任务 =gv/9ce)3
xla^A}{ 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 M&T/vByTn_ Fmle| 3. 参数:输入近乎平行的激光束 ?4?jG3p nMvIL2:3 <ORz`^27o 4. 参数:SLM像素阵列 5BO!K$6
2EcYO$R! $i]
M6<Vxn 5. 参数:SLM像素阵列 rBPxGBd4 C$;s+ALy[ ojqX#>0K 应用示例详细内容 ,#;ahwU~s
3VBV_/i; 仿真&结果 zO]dQ$r\Z
;mxT>|z 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM @Od u.F1e 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 li
XD2N 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 M8Lj*JN bu5)~|?{t 2. VirtualLab的SLM模块 *Yjs$'_2
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 b4PK
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 5X-{|r3q
0evZg@JP` 3. SLM的光学功能 4Lb<#e13R?
1S#bV} ! 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 qT%E[qDS 为此,将区域填充因子设置为60%。 3=I Q 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 j*
?MFvwE v1rGq 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd <#`L&w. A
76yz`D 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 GMI>$$< XA%?35v~ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd .YbD.{]D 9r}}m0 4. 对比:光栅的光学功能 A":x<9 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 #+=afJ 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 $^F2
通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 i^Q^F 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 _uacpN/<| 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 WX9BS$}0
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nMqU6X>P! 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd xNU}uW>>T
oizoKwp% 5. 有间隔SLM的光学功能 lC{m;V2 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 bcg)K`'N $@X,J2& 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd pK%' S 8cl!8gfv 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 A2 rRYzN; e%#f9i 9i@*\Ada 6. 减少计算工作量 $U1'n@/J l1msXBC ,wjL3c 采样要求: !G37K8&&* 至少1个点的间隔(每边)。 l"64w>, 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 e3.TGv7= |?8wyP 采样要求: uPpP") 同样,至少1个点的间隔。 .(krB%N 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 Hmz[pTQ|87 随填充因子的增大,采样迅速增加。 =0A{z#6 gDH x+"? 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 tSjK=1"} 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 mcvTz, ;= 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 g`6S*&8I 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 QH;aJ(>$ d-4u*> d7@ N~<n
M30_b8[Y_ 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
0kDT:3 7. 指定区域填充因子的仿真 zx^)Qb/EL6
.Xr_BJ _ 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 kG{(Qi 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 l{k 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 i''dY!2 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 m<j ^cU#J BR|dW4\ F"LT\7yjyG
8. 总结 nC z[#t 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 n_5g:`Y bf3)^ 49} 第1步 >$}nKPC,Y 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 !0cfz5t P0W%30Dh 第2步 p@P[pzxI 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 `toSU>: 扩展阅读 L%fWa2P' 扩展阅读 ^ K/B[8 开始视频 ;DGp7f#9 - 光路图介绍 &%^[2^H8" 该应用示例相关文件: l.C{Ar - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 1W5YS +pf
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 |GIT{_JE