空间光调制器(SLM.0002 v1.1) .)[E`a ,;}
应用示例简述 IW!x!~e
uSR%6=$ 1. 系统细节 ,nYa+e 光源 T+Re1sPr? — 高斯光束 .zZfP+Q]8 组件 6Sd:5eTEQ — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 M}o.= Iqa 探测器 s?}qia\~m — 视觉感知的仿真 ^5]9B<i[Y — 电磁场分布 [Ix6ArY 建模/设计 HDKF>S_S — 场追迹: Jn{)CZ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 9ia&/BT7"z -Ct+W;2 2. 系统说明 t RU/[?! dY}5Kmt A x8 > 3. 模拟 & 设计结果 u W,J5! ?<t?G 4. 总结 pP.`+vPi
]~]TZb 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 mh"PA p ;g?PK5rB( 第1步 .)tQ&2
将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 @xdtl{5G
dHx4yFS 第2步 x} =,'Ko}3 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 @Dsw.@/ O:GP uVb\ 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 Ag0
6M U
eg*a Vb 应用示例详细内容 OSO MFt
h$`m0-' 系统参数
bMc[0
#L!`n)J" 1. 该应用实例的内容 &w^9#L Os[z>H? l7T?Yx j 2. 设计&仿真任务 ;V~x[J|x
&V
axv$v} 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 !)oQ9,N rEp\ld 3. 参数:输入近乎平行的激光束 [H\0
' a :*N0 /D9#v1b 4. 参数:SLM像素阵列 *Jcd_D\-(1
1^]IuPxq "\Dqtr w 5. 参数:SLM像素阵列 1:<n(?5JI pvsY
0a@4 pFd{Tdh 应用示例详细内容 j9c:SP5
Y*9vR~#H 仿真&结果 Fp?M@
E2}X[EoBF 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM yD\Kn{ 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 !lg_zAV 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。
M3UC9t9] ?r|iZKa 2. VirtualLab的SLM模块 .I|b9$V
8)iI=,T*
._p2"<
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 Z/ml,4e
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 B7qi|Fw
hB<(~L?A] 3. SLM的光学功能 jXmY8||w
8[@Y`j8 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 |#t^D.j 为此,将区域填充因子设置为60%。 ]Rf$&7`g{ 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 )/!HI0TU 3`D*AFQc 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd {TJ"O ;XNC+mPK 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 C+!=C{@7di B:i$ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd |4BD ShtV2}s| 4. 对比:光栅的光学功能 ZX-A} 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 \COoU(" 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 f[NxqNn 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 "<egm^Yq 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 >G?*rg4 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 3r^||(_u
c<q33dZ!*
,,j> 2Ts 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd $5ea[nc
V?T&>s 5. 有间隔SLM的光学功能 3`3my= 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 ]n1#8T&<*z ae3 Gn}tf 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd XpKeN2=p V@z/%=PJ 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 6e,IjocsB YJz06E1 -9 7/]Ra 6. 减少计算工作量 oKkDG|IE ~.e~YI80
\qW^AD(it< 采样要求: ,Cm1~ExJ 至少1个点的间隔(每边)。 X6!KFc 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 B|^=2 >8s C@XnV=J 采样要求: d@ZXCiA}, 同样,至少1个点的间隔。 R SWw4} 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 k'"R;^~xg 随填充因子的增大,采样迅速增加。 Y2uy@j*N hG<W*g 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 J8@bPS27q 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 ~}D"8[ABj 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 qpf|.m 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 K.? S,qg Wb^g{F!W j=Q ?d]
D_z&G) 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
S[/D._5QD% 7. 指定区域填充因子的仿真 44B9JA7u
LmR OG-9 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 maQDD* 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 U6nC
<3f
F 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 }&Xf<6 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 V22Br#+ /T&+vzCF )q{e L$
8. 总结 \rbvlO?} 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 )Y1+F,C cR6#$-a 第1步 bHs},i6 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 'A/{7*, m0Uk*~Gz 第2步 XPi5E" 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 51s 3hX$ 扩展阅读 kkT=g^D9j 扩展阅读 RL"hAUs_1 开始视频 G>2: WQ/ - 光路图介绍 OOz;/kay 该应用示例相关文件: ;ejtP #$ - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 ^S(["6OJ(
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 2+\@0j[q