空间光调制器(SLM.0002 v1.1) :pP l|" nC9xN 应用示例简述 h>|IA@;|f
R}OjSiS\ 1. 系统细节 6ZGw 3p) 光源 eGbjk~,f' — 高斯光束 (xBWxeL~ 组件 "j}fcrlG9 — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 BUla2p 探测器 F
@Wb<+0 — 视觉感知的仿真 Novn#0a — 电磁场分布 z}P1+Pm 建模/设计 ~ \7peH% — 场追迹: 'd< 1;Ayw 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 Gii1|pLZ1 2wYY0=k2 2. 系统说明 M/8EaQs} 82=>I*0Q - I j 3. 模拟 & 设计结果 {gS7pY%_W vnv:YQV/ir 4. 总结 io4/M<6<
hKQg:30< 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 !O/(._YB` 9Jf.Ls 第1步 |-vn,zpe 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 EwOi` g 9%bqY9NFd 第2步 uhr&P4EW 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 h%%dRi Z E},xU% 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 |z.Z='`
ZG-[Gz 应用示例详细内容 sfEy
jb!15Vlt" 系统参数 {
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>l0D,-O]m 1. 该应用实例的内容 w 8oIq* 3*[YM7y xw83dQ]}^ 2. 设计&仿真任务 +Zi@+|"BCN
G\o*j| 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 w!/se;_H+w PQ`~qM:3st 3. 参数:输入近乎平行的激光束 v.e~m2u_F 8j&LU, xrCb29{ 4. 参数:SLM像素阵列 D7(kkr:r
dfA4OZ& sRf?JyB 5. 参数:SLM像素阵列 pe7R1{2Q_s ~;B@ {kFY) M}b[;/~ 应用示例详细内容 d"hW45L
m}>#s3KPA 仿真&结果 r4FGz!U
H+2m 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM 58.b@@T 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 Nh/B8:035 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 wT+b|K Q GQ}I 2. VirtualLab的SLM模块 K\vyfYi
DAt Zp%
C%\.
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 9 54O=9PQ
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 lQnqPQY
r1QLSD]i6 3. SLM的光学功能 kc&MO`2 W\
1 n<7YO7} 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 HOrD20 为此,将区域填充因子设置为60%。 0h",. 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 C
Nt tHV81F1J 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd ('7qJkV GH!Lu\y\ 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 MehMhHY [#Y7iN& 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd XrD@q xsIuPL#_ 4. 对比:光栅的光学功能 o?l9$"\sqb 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 BVk&TGa;[$ 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 S>s{t=AY~ 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 %uWq)D4r 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 U4hFPK< 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 !E+. (
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#.kDin~! 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd G`1FD
Sx", Zb 5. 有间隔SLM的光学功能 eURj'8o), 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 "<y0D!&
*[^[!'kT& 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd >
R5<D'cEN _:0 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 `78:TU~5S #nOS7Q#uW {BA1C
( 6. 减少计算工作量 ev_4!+ko bdUe,2Yi n
z|:3,$~sN 采样要求: vdLBf+Zi 至少1个点的间隔(每边)。 CtO `t5 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 hH|moj] #M5R>&?Jqz 采样要求: @!UuK; 同样,至少1个点的间隔。 );zLy?n 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 a*4l!-7 随填充因子的增大,采样迅速增加。 ~jDG&L [h
GS* 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 U)n+j}vi 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 :QV-! 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 Z+*t=?L,,G 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 C;C= g1I} T3W?-, Bi'qy]%
~rWys= 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
`(rnD 7. 指定区域填充因子的仿真 @6N$!Q?
pW>?%ft. 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 _4]GP3` 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 5#|f:M]Bo| 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 eiJ13`T 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 $ MN1:ih
hZ ve8J l*`2EJ
8. 总结 sr+Y"R 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 dF?:&oP] YF]W<ZpY 第1步 I}&`IUP 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 f`dQ $Kh ve [*t ` 第2步 cM= ?{W7~ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 aOj(=s 扩展阅读
c%N8|!e 扩展阅读 y$f{P:!"{3 开始视频 3j]P\T - 光路图介绍 l20fA-T
_I 该应用示例相关文件: eiNF?](3O - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 \,b@^W6e>
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 COF_a%