空间光调制器(SLM.0002 v1.1) i(iP}:3 ld}$Tsy0 应用示例简述 p30&JJ!~"
,GU/l)os` 1. 系统细节 oK:P@V6! 光源
r;X0B — 高斯光束 _C,@eu"9V 组件 @[lc0_b — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 .r5oN +?e 探测器 /&as) — 视觉感知的仿真 n o+tVm| — 电磁场分布 /8t+d.r;/ 建模/设计 WAXts]= — 场追迹: 3;S`< 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 /
&D$kxz hdJwNmEA> 2. 系统说明 DE\bYxJ q,+kPhHEgy ~!:S p_y 3. 模拟 & 设计结果 ~uR6z//% ]_: TrH 4. 总结 f
H|QAMfOu
&_/%2qs 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 2, "q_d'V J7wQ=!g 第1步 @PoFxv 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 0$L0fhw. F:o# 第2步 tWSvxGCzn% 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 j-`X_8W =ch
Af= 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 o;4e)tK
1m<?Q&|m$ 应用示例详细内容 \btR^;_\A
,mjfZ*N 系统参数 "R2t&X[9
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X%vRf0 1. 该应用实例的内容 jXY;V3l C7 ]DJn f UF;SqT 2. 设计&仿真任务 fHe0W
u@Cf*VPK 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 ]r6BLZ[ % ^/C$L8# 3. 参数:输入近乎平行的激光束 3_\{[_W Awa|rIM :\+{;;a@ 4. 参数:SLM像素阵列 /}nrF4S
r!.+XrYg h-La'}>? 5. 参数:SLM像素阵列 fEj9R@u+h _[TH@fO6: O J35En 应用示例详细内容 sArje(5Eo
C'-zh\a 仿真&结果 ?{"XrQw
XatA8(_,5 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM )pjjW"C+ 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 ,ykPQzO 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 `&u<aLA ,l$NJt 2. VirtualLab的SLM模块 lk[G;=K:.
3'[Rvy{
% QPWw~}:
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 -v;n"Zy1
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 a1g6}ym\
}{&ln 3. SLM的光学功能 llHc=&y#
S9HBr 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 iY
^{wi~? 为此,将区域填充因子设置为60%。 G{NSAaD[ 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 %XJQ0CE<( !Tn0M; 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd *?_qE ptV4s=G2 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 6kt]`H`cfJ &GdL 9!hH 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 1mJbQ#5 mb0n}I_AC 4. 对比:光栅的光学功能 4? m/*VV 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 wv , GBZ-f 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 [8F
\; 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 C9<4~IM
w 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 W\it+/ 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 2#z=zd
ta&Q4v&-
l60ikc4$I 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd ==]Z \jk
'FShNY5 5. 有间隔SLM的光学功能 H<`^w)? 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 |}_gA YF}9k 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd O6yP
qG *j [O^}rUqq 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 9v~1We;{$ ?VwK2w$&={ hzaLx8L 6. 减少计算工作量 UhsO\ 9}qH z*6$&sS\>
L)q`D2|' 采样要求: xME(B@j 至少1个点的间隔(每边)。 |vv]Z(_ 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 eh$G.-2N <u0*" 采样要求: K<c2PFo)Q 同样,至少1个点的间隔。 7egq4gN]2Y 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 D899gGe 随填充因子的增大,采样迅速增加。 z4CJn[m9 r+o_t2_b* 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 z~F37]W3[ 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 _zdNLwE[ 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 dIma{uv 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 s~L`53A ZQ|5W6c a;%I\w;2
;:P7}v fz! 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
C?,*U 7. 指定区域填充因子的仿真 cI5N"U@yN
^D>fis 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 d$}&nV/A) 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。
4bnt=5] 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 U<Vy>gIC 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 }@wVW))6$ h{I`7X mxgqS=`
8. 总结 G(3;;F7" 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 22z1g(;@ :WVSJ,. ! 第1步 IAYACmlN& 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 (i\)|c/a7 w^ 3|(F 第2步 hqL+_|DW 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 avg4K*v v 扩展阅读 \Dfm(R 扩展阅读 DY8(g=TI|1 开始视频 ^+wk - 光路图介绍 "e@n:N! 该应用示例相关文件: teAukE=} - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 mg` j[<wp
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