空间光调制器(SLM.0002 v1.1) f,'gQ5\ X3 ^Gc#D:zU 应用示例简述 pDlU*&
xU4,R cgo 1. 系统细节 "w#jC~J<W 光源 bi y1!r — 高斯光束 nwOT%@nw 组件 A.@S>H'P
— 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 {=5Wi| 探测器 L{py\4z'_ — 视觉感知的仿真 +=v6*%y"V — 电磁场分布 HB}!Lf#*P 建模/设计 :`~;~gW< — 场追迹: 0=3Av8 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 |;XkU`G dWhki|c 2. 系统说明 nU{}R"| o(=\FNe 8CR b6 3. 模拟 & 设计结果 TC7Rw}jF -RisZ-n* 4. 总结 .DzFtc
R/&Ev$: 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 9A@/5Z:v5W E;Akm': 第1步 +j*h bG= 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 T}%8Vlt] \yIan<q 第2步 $e
bx 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 e}
=tUdDf v{/z`J!JR 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 S?ypka"L
@WmEcX| 应用示例详细内容 f-lM[\ma_
'<}N`PS#N 系统参数 &!|' EW
qhFWQ1W 1. 该应用实例的内容 381a(F[$e R^DZ@[\iV 7+!4pf 2. 设计&仿真任务 ;'E1yzX^
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由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 S}@J4}*u[" q%g!TFMg 3. 参数:输入近乎平行的激光束 cPFs K*w }XJA#@ 5G
>{*K/ 4. 参数:SLM像素阵列 g4Y1*`}2f
nY]5pOF: ~F gxhK2+ 5. 参数:SLM像素阵列 ;\[n{<
>S<`ri'5_ #(i9G^K 应用示例详细内容 S.u1[Yz^
V7+fNr]I 仿真&结果 Zb p+b;
Aoi) 11> 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM } D'pyTf[ 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 T?4pV# 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 ^Z
dDs8j XfYMv38( 2. VirtualLab的SLM模块 =tk O^
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G+?Z=A:T8
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 y\?T%g
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 T[M:%vjYF
Fv| )[>z0 3. SLM的光学功能 tsYBZaH
Gx&o3^ t 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 VxgP^* 为此,将区域填充因子设置为60%。 i[IOR0 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 hDn?R}^l{ \LN!k-c 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd jDWmI%Y. "!g}Q* 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 bfE4.YF !R`E+G@ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd Em<B9S ?:sk [f6 4. 对比:光栅的光学功能 SS)9+0$ 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 6Z}8"VJr { 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 PLb[U(~ 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 k_o$ Ci 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 8q}955Nl 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 ij=_h_nA
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A$7j B4 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd sB~ |V
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e+TSjm 5. 有间隔SLM的光学功能 9I|D"zXn 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 {V7W!0;! GJ9'i-\*\ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd *!m\%*y{ ~Y_5q)t( 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 es6]c%o:t^ {%&!x;% q*^m8 6. 减少计算工作量 wni^qs.i@3 1(diG&
4#Bzq3,| 采样要求: >d9b"T 至少1个点的间隔(每边)。 5qL;@Y 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 )8JfBzR ]YciLc( 采样要求: "XB6k0.# 同样,至少1个点的间隔。 Fy#7<Hp 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 SR$?pJh D% 随填充因子的增大,采样迅速增加。 d(_;@%p1X W[G5+*i 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 nw 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 8=-/0y9, 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 &-c{ 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 (R|_ 6[zy d1>L&3HKx X
2Zp@q(
|I2~@RfpO: 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
cl{kCSZo.z 7. 指定区域填充因子的仿真 k++"
f5`q9w_c 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 T!2gOe 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 !<UdG+iV 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 ;[q> 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 NcyE_T [NU@A >H sHPK8Wsg
8. 总结 5?34<B 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 mcb|N_#n/ A5IW[Gu! 第1步 \^3cNw 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 n48%Uwa, ] ]lN[J 第2步 bNG7A[|B 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 E G J/r 扩展阅读 u):Nq<X 扩展阅读 xxZO{_q 开始视频 LJwy,- - 光路图介绍 BMH?BRi 该应用示例相关文件: !a7YM4D - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 ?hOvY)
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