空间光调制器(SLM.0002 v1.1) Zj]jE%AT 1U(P0$C 应用示例简述 )J<VDO:_YA
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T@\E 1. 系统细节 zs<2Ozv 光源 @W+m;4 HH — 高斯光束 `: R7jf 组件 8'}D/4MUr — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 aIXN wnq 探测器 MJDW-KL- — 视觉感知的仿真 .Fe_Z)i>h — 电磁场分布 f0d*% 建模/设计 8,DY0PGP — 场追迹: \J0fr'(S 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 ;[,r./XmH Pv#>j\OR& 2. 系统说明 aR0'$*3E kl0|22"Gz @cC@(M~Ru 3. 模拟 & 设计结果 '1r<g\l jMV9r-{*+ 4. 总结 lCAD $Ia~
]b6g Z< 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 yy( .| ^0fe:ac; 第1步 (- QvlpZ 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 &4R-5i2a ]?3-;D.eG 第2步 LeTOVgjA| 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 @?!&M c2 WPpS? 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 7q;wj~
L63B# H" 应用示例详细内容 lv=rL
w$1B|7tX;2 系统参数 XK=-$2n
#x|IEjoa 1. 该应用实例的内容 &s>E~M0+J G%#M17 HV}*}Ty 2. 设计&仿真任务 ]qPrXuS/
+{dJGPoY]p 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 __OH
gp 1 W0qn$H 3. 参数:输入近乎平行的激光束 Hph$Z1{ 'irHpN6n >)6d~ 4. 参数:SLM像素阵列 |J:kL3g
*ud/'HR8] yZyB.wT 5. 参数:SLM像素阵列 3:ELYn L_{gM`UFc dc=~EG-_rM 应用示例详细内容 3U!#rz"
tYST&5Kh~ 仿真&结果 (D~NW*,9
E~K5n2CI 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM z5q( 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 <C{uodFll 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 l`(pV ;{W >uy(N 2. VirtualLab的SLM模块 >'g>CD!
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 =OR"Bd:O
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 ToE^%J4
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c-L$bD 3. SLM的光学功能 A=bBI>GEYP
2'T uS? 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 W)p?cK` 为此,将区域填充因子设置为60%。 kB3@;z: 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 >yr1wVS ;{:bq`56f 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd R
Y ";SfYb ^6i,PRScS 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 #.W^7}H 9~ rYLR(v 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd k?VH4yA %z"${ zw 4. 对比:光栅的光学功能 7AuzGA0y 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 O;H|nW} 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 ("txj[v-/ 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 j&w4yY 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 Ro:)N:C 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 6H'W]T&
'd |*n#Dqc
=QJI_veUG` 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd fA" VLQE
07#e{ 5. 有间隔SLM的光学功能 cZl/8?dj} 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 :V
ZXI#([ ~Sc{\ZJl 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd #2*6esP H%G|8,4 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 Dg'BlrwbR 0$:jZ/._ wNQhg 6. 减少计算工作量 t~kh?u].j W+`T:Mgh
~d"9?K^# 采样要求: L,_Z:\^ 至少1个点的间隔(每边)。 eYD -8* 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 \SyG#.$ Dt glPo_( 采样要求: [I2vg<my 同样,至少1个点的间隔。 X6G2$| 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 wHE1Jqpo 随填充因子的增大,采样迅速增加。 {jOV8SVL =BroH\ 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 kJk6lPSqi7 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 9six]T 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 #iVr @|, 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 cg).b?g $b`~K MO qLa6c2o,
M&J$9X 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
'@G=xYR 7. 指定区域填充因子的仿真 (Q F-=o
u5rHQA0% 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 z2IKd'Wy 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 ++Fv )KY@ 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 kj/v$m 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 =cWg39$(I h42dk(B nl+8C}=u
8. 总结 mIah[~G 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 f(E[jwy 5KC
Zg'h 第1步 /j"aOLL| 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 sM6o(=> 4`'V%)M 第2步 H{I,m- 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 nXAGwU8a 扩展阅读 wuKr9W9Xa 扩展阅读 \%Lj !\ 开始视频
PaZd^0'!Z - 光路图介绍 bBgyLyg 该应用示例相关文件: `9mc+ - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 T07 AH
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