空间光调制器(SLM.0002 v1.1) %2V-~.Ro6 4Yl; 应用示例简述 " ZX3sfkh
21(p|`X 1. 系统细节 o:6@Kw^ 光源 !!o8N<NU — 高斯光束 v<fnB 组件 g&n )fF — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 p^iRPI 探测器 3 R&lqxhg — 视觉感知的仿真 wd/<
8>2X — 电磁场分布 . <tq61 建模/设计 b}Zd)2G — 场追迹: q:<{% U$ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 ujJI
1I fQP {|+4 2. 系统说明 B&N/$=5m eznypY= S(mF%WJ 3. 模拟 & 设计结果 `EtS!zD~b @zgdq 4. 总结 0cT*z(
B(F,h+ajy 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 KzQ3.)/q *|_"W+JC 第1步 9h0X &1u 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 .SWt3|Pi5 ,j 5&6X=1M 第2步 kg`.[{k 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 @x/T&67k we#wH- 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 (Y^X0yA/
IL_d:HF|1 应用示例详细内容 jLJ1u/l>;
3v")J*t 系统参数 Ys!>+nL|
%AN/>\#p 1. 该应用实例的内容 u`(-
- L}m8AAkP[ MC&\bf 2. 设计&仿真任务 Uje|`<X
Zatf9yGD 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 >q7BVF6V| :pRpvhm 3. 参数:输入近乎平行的激光束 dCu'>G\bP I!wX[4p eg =H<0o?8?c 4. 参数:SLM像素阵列 "KJ%|pg_C
}Yv\0\~'W| VxFOYC>p 5. 参数:SLM像素阵列 MV=9!{` ESoAzo,u Kq.:G% 应用示例详细内容 rfw-^`&{
Db"DG( 仿真&结果 kbPE "urR
U=8@@yE 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM 1.q_f<U 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 ,^8 MB. 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 Rte+(- iL 3gQPKBpc 2. VirtualLab的SLM模块 b6E<r>q
D=TL>T.bf
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 |Oag,o"
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 Dr;iQkGP
xmGk*W)P 3. SLM的光学功能 :D7|%KK
!jqWwi 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 V\K<$?oUb 为此,将区域填充因子设置为60%。 Gs2p5nL< 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 dd|W@Xp - S-+M;@'Rl 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd }`yiT<z Y\v-,xPm 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 ;W:6{9m ze ^Y{D^\}, 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd X bkb5EkA zhB ">j8j 4. 对比:光栅的光学功能 <:8,niKtw 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 z<]bv7V 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 BGzI 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 0@Kkl$O>mb 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 A"Q@W<. 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 =l<iI*J.
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=8=!Yc(> 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd l2hG$idC
BpLEPuu30 5. 有间隔SLM的光学功能 kcB+ _ 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 SK$Vk[c] 2>em0{e 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd T}7uew\v0< e~v(eK_ 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 P%X-@0) p$;I' #~qAHJ< 6. 减少计算工作量 A\te*G0:S O7aLlZdg~
6g>)6ux>aV 采样要求: q;AT>" = ) 至少1个点的间隔(每边)。 *Dr5O 9Y 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 "Mmf6hu cjULX+h 采样要求: d`Q7"}uZ 同样,至少1个点的间隔。 |dadH7 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 L4f7s7rJ 随填充因子的增大,采样迅速增加。 /&ygi H{^ U/qE4u1J6M 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 g dj^df+2F 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 #p
yim_ 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 [6(Iwz? 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 \|Dei);k u@FsLHn 6xgv:,
+~2rW8 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
+C7T]&5s 7. 指定区域填充因子的仿真 -+U/Lrt>8
(*l2('e#@ 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 <8(?7QI 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 u}H$-$jE 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 ,=[*Lo>O 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 i~qfGl p6) #-u [$TA dGgP_S
8. 总结 zXc}W*ymj 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 Qs+ k)e, evl-V> 第1步 E1>/R 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 F!KV\?eM$ w.kCBDL 第2步 OKwOugi0 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 T% CxvZ 扩展阅读 7S2C /f 扩展阅读 nx4P^PC 开始视频 WO%h"'iJ - 光路图介绍 +p/1x'J 该应用示例相关文件: ,9/5T: 2 - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 Q2~5"
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 ?=|kC*$/G