空间光调制器(SLM.0002 v1.1) zx$1.IM"4 CLmo%"\s 应用示例简述 (_@]-
.`_iWfK 1. 系统细节 6jBi?>[I 光源 1anh@T. — 高斯光束 EqtL&UHe 组件 ia_@fQ — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 .hG*mXw> 探测器 ?M|1'`!c8 — 视觉感知的仿真 uxDM
# — 电磁场分布 EFx>Hu/[G 建模/设计 _()1"5{ — 场追迹: 'oY#a9~Z{ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 >W >Ei(f 'Nt)7U>oC9 2. 系统说明 O9>$(`@I }
)Lz%Z Wq+GlB* 3. 模拟 & 设计结果 `)cH(Rj Nc4;2~XwRp 4. 总结 zdU46|!u
Z|x|8 !D 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ^vT!24sK RjvW*'2G 第1步 -@_v@]: 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 !Tv3WQ@ 3+uL@LXd 第2步 x$o^;2Z 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 ?$)5NQB% \$.{*f 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 7p]Izx8][
w$9LcN 应用示例详细内容 of_y<dd[G
*@PM,tS; 系统参数 \B84
YK6'/2! 1. 该应用实例的内容 yj_> G m#8[")a$" *n EkbI/ 2. 设计&仿真任务 ]7K2S{/o{
9-{=m+|b 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 I-r+1gty lTq"j?#E]m 3. 参数:输入近乎平行的激光束 Q*%}w_D6f G'G8`1Nj :yD>Tn;1 4. 参数:SLM像素阵列 V+lF|CZb5
7LrmI~P 37jxl+ 5. 参数:SLM像素阵列 0] fM"*;LN!N ]r|oNGD)G 应用示例详细内容 \298SH(!7
dV'EiNpf 仿真&结果 }}tbOD)t
U3V5Jor# 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM / 'qoKof 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 -%yrs6 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 -g2l-N{& ]n|Jc_Y 2. VirtualLab的SLM模块 i}DS+~8v
2NMs-Zs
eyyME c!
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 'v V7@@
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 b@;Wh-{d
={ms@/e/T 3. SLM的光学功能 \$wkr
`nl n@ ; 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 [rT.k5_ 为此,将区域填充因子设置为60%。 OA[e}Vn 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 DpgTm&}- nlNk 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd 2Ckx.m & R);Hd1G 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 Fa )QDBz) 3@gsKtA&H4 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd (*9.GyK dg24h7|] 4. 对比:光栅的光学功能 !o /=,ZIx 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 9KXL6#h 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 Q-
| Y 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 '*b]$5*p 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 VIT|# 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 Tf86CH=)5
*i]?J
Mu?|<#s 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd X@\W*
nq
g|>LT_ 5. 有间隔SLM的光学功能 Ur(R[*2bx 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 C1k< P !5o j~H 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd }xk(aM_ __g
k:a>oQ 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 }uZs)UQ|$ .$18%jH# ef7{D
P 6. 减少计算工作量 SeD}H=,@ T-en|.
N,Eap KG 采样要求: K($l>PB,y@ 至少1个点的间隔(每边)。 \wK&wRn) 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 t*gZcw5 r t}YcB`q) 采样要求: @Vre)OrN# 同样,至少1个点的间隔。 e73=*~kfR 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 %f;dn<m=c 随填充因子的增大,采样迅速增加。 }5;4'l8 6:ettdj 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 K92j BR 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 I=y7$+7% 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。
d y HC8 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 1xB}Ed*k ?b;2PH" ~3F'X
yQK{ +w 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
1M]=Nv 7. 指定区域填充因子的仿真 SYCL\b
y [8;mCh 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 4S<M9A} 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 W[ l 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 >JyS@j} 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 PI9,*rOy vMT f^V 5=pE*ETJ
8. 总结 $UR:j8C{p$ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 q/#e6;x !dLu($P 第1步 n
i#jAwkN5 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 ldA_mj{ 0!hr9Y]Lx 第2步 V8^la'_j 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 ABWn49c. 扩展阅读 M/N8bIC! Q 扩展阅读 }[AaI # 开始视频 *uc/| c - 光路图介绍 |P
>"a` 该应用示例相关文件: OQ-)
4Uk} - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 u8Ys2KLpL
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 (` *BZ_