空间光调制器(SLM.0002 v1.1) WUi7~Ei} .~8IW,[ 应用示例简述 Y!s/uvRI
d}415 XA 1. 系统细节 %nc+VL4 光源 (C QgT3V — 高斯光束 z#*GPA8Em: 组件
ae1fCw3k — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 kp;MNRc 探测器 oq<# — 视觉感知的仿真 q+G1#5 — 电磁场分布 +~/zCJ;F 建模/设计 &q` =xF — 场追迹: !8s:3] 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 Ap> n4~ AAl`bhx'n 2. 系统说明 gf@'d.W} sQH.}W$C T@HozZ 3. 模拟 & 设计结果 %I=J8$B]f 4Y/!V[ 4. 总结 Em.?
pcl_$2_ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 O 1X
! p9sxA|O=y
第1步 <*5D0q#~" 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 |m EJJg`"7 \)"qN^we 第2步 1!NaOfP;@ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 BR%: `uiQ< ]V]o%onW 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 G`W+m*[U+M
1-[{4{R 应用示例详细内容 &]c9}Ic
?3, * 系统参数 4'8.f5
Y\x
Xo? 1. 该应用实例的内容 e
O}mZN Fu><lN7 ~5#7i_%@E} 2. 设计&仿真任务 V)Xcn'h
.lnD]Q 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 y|mR'{$I %?$"oWmenS 3. 参数:输入近乎平行的激光束 ,J#5Y. 1|89-Ii] %~[F^ 4. 参数:SLM像素阵列 cK } Qu
\dMsv1\ jHZ<Gc 5. 参数:SLM像素阵列 8YJ({ Ou_ i
xyjl[G ;Os3
! 应用示例详细内容 m
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J{ Vl2P?@ 仿真&结果 _8>"&1n
1WKDG~ 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM *dl@)~i 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 'huLv(Uu 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 w?C\YKF7 M/qiA.C@W 2. VirtualLab的SLM模块 >j?uI6Uw
dd+).*
s'^#[%EgB
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 |g{AD`
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 5*r6#[S\
1,J. 3. SLM的光学功能 $b$D[4
Kna'5L5" 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 5W48z%MN
为此,将区域填充因子设置为60%。 |+bG~~~%j 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 G!IQ<FuY #Grm-W9E 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd B+LNDnjO] A0ToX) |C 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 GwULtRa/ 4Ojw&ys@V 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd bW]+Og *GhRU5 4. 对比:光栅的光学功能 [8w2U%}] 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 *Y ZLQT 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 \zUsHK?L"t 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 =!X4j3Cv 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 NsHveOK1. 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 ;=OH=+Rl
68*{Lo?U
qg/5m;U 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd d8#j@='a*
Q/9b'^UJ 5. 有间隔SLM的光学功能 M)7enp) F. 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 I1~g?jpH 4o3GS8 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd %-Z~f~<? \t@`]QzG: 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 (% P=#vZ d#Ajb /(aX>_7jg 6. 减少计算工作量 }TW=eu~ o{p_s0IX;S
B(LV22# 采样要求: |Y11sDa9h 至少1个点的间隔(每边)。 \tx/!tA 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 v"+EBfx $@)d9u
cd 采样要求: : 4WbDeR 同样,至少1个点的间隔。 G
m! ]
假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 ltR^IiA} 随填充因子的增大,采样迅速增加。 }i:'f2/ *lAdS]I 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。
/GUuu 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 wlM
?gQXU[ 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 ~x:]ch| 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 tqCg<NH.!m Fr3t[:D $lA,{Q
I:<R@V<~# 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
;7k7/f: 7. 指定区域填充因子的仿真 4
G[hU4L
[Gy'0P(EQ 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 >iN%Uz 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 sEyl\GL 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 -d'|X`^nE 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 I >Q,]S1h h+D=/:B I;H9<o5
8. 总结 a HL '(< 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 @98SC}}u J94YMyOo 第1步 ?
M_SNv 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 yW?%c#9D LB7I`W 第2步 oH0F9*+W 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 98'XSL| 扩展阅读 W%K8HAP " 扩展阅读 L$Ar]O) 开始视频 Ilb
|:x"L - 光路图介绍 bGc|SF<V 该应用示例相关文件: $#3<rcOq - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 s,H(m8#>
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 >[4|6k|\x