空间光调制器(SLM.0002 v1.1) 6-I'>\U~ :
'c&,oLY 应用示例简述 >bxS3FCX
yZRzIb_ 1. 系统细节 q@&6#B 光源 H. c7Nle — 高斯光束 u"8yK5! 组件 1,~D4lD| — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 OPi0~s 探测器 `gJ(0#ac — 视觉感知的仿真 S:Hl/:iV — 电磁场分布 \8
":]EU 建模/设计 nEfK53i_ — 场追迹: (ZGbhMK 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 U(Zq= M ]yu:i-SfP 2. 系统说明 y2v^-q3 XkqCZHYkS ;*N5Y}?j' 3. 模拟 & 设计结果 :Al!1BJQ 2|,VqVb 4. 总结 cR{#V1Z
~dSr5LUD 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ~@!bsLSMU %)|s1B'd 第1步 yX5\gO6G 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 B[}6-2<>?C N;R^h? ' 第2步 =v\.h=~~ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 n|hNM?v O2+ 6st 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 lFkR=!?=
~>G^=0LT 应用示例详细内容 FsPw1A$y
<$YlH@;)`a 系统参数 u?"Vm
. me;.,$# 1. 该应用实例的内容 "&] -2( Kq!3wb; t:S+%u U 2. 设计&仿真任务 #G3<7PK
gIfh3 D=yX 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 IgzQr > YR70BOxK 3. 参数:输入近乎平行的激光束 [ )F<V! 5(2;|I,T h;Qk@F 4. 参数:SLM像素阵列 7=uj2.J6
N mG# [Pp'Ye~K@c 5. 参数:SLM像素阵列 8|^7ai[am MA\V[32H LD?sh"?b 应用示例详细内容 "4Nt\WQ
Q59suL 仿真&结果 #Y!a6h+
YUb_y^B^ 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM @WhHUd4s 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 Mt$
*a 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 TC('H[
] Sdo-nt 2. VirtualLab的SLM模块 s"|Pdc4
z}<^jgJ
x;S @bY
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 :s,Z<^5a)g
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 =|=(l)8
~o( 3. SLM的光学功能 kM6
Qp
m 5.Zu. 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 GdwVtqbX 为此,将区域填充因子设置为60%。 9?$i? 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 =l6mL+C }k0_5S 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd gi8FHSU|G M:8R-c#![ 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 !if c$,P ~Ws' 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd oDR%\VY6T W!X@ 4. 对比:光栅的光学功能 9x8fhAy}4 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 8}[).d160 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 s%S 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 Y73C5.dNcE 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 do%&m]#; 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 yevPHN"M
pRqx`5 }
j.Hf/vi`z 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd hM{bavd
PsYpxNr 5. 有间隔SLM的光学功能 eavV?\uV% 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 zda 3
,U2o 3mgD(,(^ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd F847pyOJnf &&+H+{_Q 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 s*[bFJwN 53D]3 E.TAbD&5( 6. 减少计算工作量 :]KAkhFkbb |N2#ItBbW
+R &gqja 采样要求: s#11FfF` 至少1个点的间隔(每边)。 l;Wj] 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 2 nCA<& vQCy\Gi 采样要求: \85i+q:LuA 同样,至少1个点的间隔。 "[J^YKoF 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 WE?5ehEme 随填充因子的增大,采样迅速增加。 tA;}h7/Lc~ WJ#[LF!e 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 Tbq;h?D 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 XTyxr 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 KPF1cJ2N 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 QV!up^Zso ,F|f. 7; 5+'<R8{:,
RP"kC4~1 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
ueudRb 7. 指定区域填充因子的仿真 ;TYBx24vD'
l**X^+=$ 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 _XBd3JN@ 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 /xhKd]Q 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 CTb%(<r 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 5O%{{J qm}@!z^ A"]YM'.
8. 总结 ^W^OfY 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 >6T8^Nt >7|VR:U?B 第1步 eFgA 8kY) 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 occ7zcA 4dlGxat 第2步 Tk}]Gev 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 A^g(k5M* 扩展阅读 TOt dUO 扩展阅读 ;l+Leex
开始视频 gdc<ZYcM - 光路图介绍 2G7Wi!J 该应用示例相关文件: aN?zmkPpov - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 [JiH\+XLPs
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 qGo.WZ$