空间光调制器(SLM.0002 v1.1) )/pPY DtN6.9H2` 应用示例简述 mT9\%5d3
#3$|PM7,_ 1. 系统细节 1&As:kv5I 光源 ^KF'/9S — 高斯光束 {p\KB!Y- 组件 t8+93,*B — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 UmuFzw^ 探测器 ,5?MRqCM — 视觉感知的仿真 `j$d(+Gv
— 电磁场分布 syfR5wc 建模/设计 ~S6N'$^ — 场追迹: PWU#`>4 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 H}~^,B2; qprOxP
r 2. 系统说明 &Os Ritj O gnpzN ]rm=F]W/n 3. 模拟 & 设计结果 K\ ]r Z}C%%2Iz 4. 总结 2fk
b#U%aPH 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 fpi6pcof *~L]n4- 第1步 Oe!&Jma*> 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 T}TP.!0E $gTPW,~s[ 第2步 19t*THgq 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 &$Lm95 BSf"'0I& 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 f+Go 8Lg=M
4#9-Z6kOk 应用示例详细内容 2Qj)@&zKe#
c53`E U 系统参数 hdL2`5RFF
t_dg$KB 1. 该应用实例的内容 J|IDnCK ~dLZ[6Z y|se^dn 2. 设计&仿真任务 XEEbmIO*<9
(I.`bR 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 >xKRU5 '7R'fhiO/3 3. 参数:输入近乎平行的激光束 bYc qscW ~B@o?8D] lg+g:o 4. 参数:SLM像素阵列 WV
U9NmvE
'[^2uQc ]Dg0@Y 5. 参数:SLM像素阵列 sQs5z~#51* ?g4|EV-56 I>#ChV)(# 应用示例详细内容 y9hZ2iT
u'1=W5$rK 仿真&结果 {eEWfMKIn
uek3Y[n 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM F w m:c[G 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 pQ{t< > 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 !ei20@ :t^})% 2. VirtualLab的SLM模块 C>dJ:.K%H
4/WCs$
@#c6\$
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 %
cdP*
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 Uc0'XPo3I
qEr[fC@x 3. SLM的光学功能 x^2/jUc#B
v6\2mc. 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 dRa<,@1" 为此,将区域填充因子设置为60%。 q:EQ, 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 J9.p8A^^2 63Yu05' 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd FF~4y>R7u m0\}Cc 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 {~g \#,#_ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd {VG[m@ 2z# @:Q 4. 对比:光栅的光学功能 jgw'MpQm{ 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 *AR<DXEL 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 KocXSh U 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 .@-]A 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 _
D}b 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 no6]{qn=6
M~F2cXW
rxp9B>~ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 'TsZuZW]
WCT W#<izm 5. 有间隔SLM的光学功能 Vzvw/17J 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 < DZ76 =w$"wzc 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd gr{Sh`Cm- l]y%cJ~$'D 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 $!!=fFX*y *js$r+4 bvS\P!m\c 6. 减少计算工作量 ]mo<qWRc>p @SG"t,5s
pbxcsA\ 采样要求: aq/Y}s? 至少1个点的间隔(每边)。 qgsE7 ] 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 V?dK *8s ]J=)pDrk 采样要求: gs8@b5 RSb 同样,至少1个点的间隔。 U]EuDNkO{ 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 `4$Qv'X* 随填充因子的增大,采样迅速增加。 A<CXd t+t <O)X89dFM 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 1\{U<Oli 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 Bp{`%86SE 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 4U;XqUY
/ 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 y{I[}$k yxWMatZ2 UMi`u6#
iA{jKk= 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
@&xaaqQ- 7. 指定区域填充因子的仿真 9AddF*B
*[~o~e/YCb 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 4FE@s0M, 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 t:sq*d 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 =*:_swd 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 bKMR7&e.Ep v;}`?@G ig_<kj;Vd
8. 总结 c[RLYu 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 UK_aqB CC(*zrOd- 第1步 =>ztB w\ 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 >aC\_Mc !a&SB*%^I3 第2步 8u5
'g1M 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 xm,`4WdG 扩展阅读 fDEu%fUYZ 扩展阅读 BS,5W]ervE 开始视频 , 64t - 光路图介绍 ;,vL 该应用示例相关文件: xgT~b9 - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 27 145
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