空间光调制器(SLM.0002 v1.1) , lT8gQ|u h&.9Q{D 应用示例简述 z_r W1?|
67Ge}6*2pd 1. 系统细节 (\#j3Y)r 光源 Hm1C|Qb — 高斯光束 NS<lmWx+ 组件 Q8T4_p[-o — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 90teXxg=| 探测器 h.=YAcR0D — 视觉感知的仿真 o y}( — 电磁场分布 1*G7Uh@K} 建模/设计 SO8Ej)m — 场追迹: UV@<55)K 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 Eq'YtqU N f1) 5 2. 系统说明 vAU^<$D27 H~@aT7 %[;<'s5e~ 3. 模拟 & 设计结果 w{#%&e(q" j@2-^q:` 4. 总结 B<LQ;n+
E=HS'XKu[K 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 Y==# yNwM D)4p8-=t 第1步 _/P"ulNb 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 RhX
2qsva- l.fNkLC# 第2步 <P$b$fh/ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 c-z=(Z 5N`g 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 q{n~s=
e7pN9tXGf 应用示例详细内容 7q$9\RR5
/8J2,8vZ 系统参数 W $H8[G
OlMCF.W#3 1. 该应用实例的内容 ||9f@9 ]-L/Of6F)| 8I NVn'G 2. 设计&仿真任务 JnV$)EYi
$?ke " 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 S7~yRIjB w[:5uo( 3. 参数:输入近乎平行的激光束 ,&z_ 2m -D38>#Y {l\v J#r: 4. 参数:SLM像素阵列 -V_e=Y<J/
r(%#@?& :t^=~xO9 5. 参数:SLM像素阵列 an0@EkZ x/bO;9E%U4 6Q>:g"_ 应用示例详细内容 YPGn8A
LvhF@%(9J 仿真&结果 cg0L(oI~
-}PD0Pzg;= 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM BYNOgB1 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 |44CD3A% 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 ]+d.X] h9g5W'.# 2. VirtualLab的SLM模块 'Kp|\Tr
~A>3k2N/e
Vu;tU.
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 (O/hu3
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 NVJvCs)3f
0y2iS't
3. SLM的光学功能 2$\Du9+
vJmE} 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 <bIAq8 为此,将区域填充因子设置为60%。 X
B65,l 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 EC?!%iO`
tGv4 S\ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd (p^q3\ ;t[<! 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 _U#ue 8%vk"h:u: 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd ]*I&104{ aHwrFkn 4. 对比:光栅的光学功能 Il*wVNrZI 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。
yZdM4` 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 {IqbO>|"O_ 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 i#(T?=VPcy 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 #UI@<0P) 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 rw8db'
0Oe@0L%^3"
]>*Z 1g; 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd :mY(d6#A>
0dXZd2oK@ 5. 有间隔SLM的光学功能 Jw"'ZW#W 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 )CihqsA2 a"#5JcR3 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd eX;"kO z`f1|Ok 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 iMJ jWkk 'OkF.bs wArNWBM 6. 减少计算工作量 TpZ)v.w~l7 d}ue/hdw
pkBmAJb@ 采样要求: ]7c715@ 至少1个点的间隔(每边)。 ECU:3KH>MF 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 70*Y4'u}A Jr\4x7a;`~ 采样要求: H.!M_aJH 同样,至少1个点的间隔。 b[$l{RQ[? 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 FW=oP>f]w 随填充因子的增大,采样迅速增加。 :2K0/@<x pPeS4$Y 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 </qXKEu`_ 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 ks
3<zW( 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 8(5}Jo+ 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 ~hYG% %'k^aqFL VT;$:>!+
om;jXf}A 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
9M<qk si 7. 指定区域填充因子的仿真 #RZW)Br
y$K!g&lGA 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 3QU<vdtr 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 h-Ffs 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 nwHi3ojD: 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 A$[@AY$MI F.^1|+96 ` *h-j/M
8. 总结 1i#M(u_ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ^'6!)y# I tp7X 第1步 l#V"14y 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 lUUeM\ $>]7NT P 第2步 J=|fxR 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 {b=]JPE 扩展阅读 qL
UbRp 扩展阅读 0bS\VUB( 开始视频 UR:cBr - 光路图介绍 GC~Tf rf=r 该应用示例相关文件: jrZM - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 yG2j!D
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