空间光调制器(SLM.0002 v1.1) n`hSn41A 48DsRy 应用示例简述 *be+x RY
]_Qc}pMF& 1. 系统细节 ^TjFR*S'E 光源 V *]!N — 高斯光束 hImCy9i} 组件 /x-t-} — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 =SdWU}xn2 探测器 4$J/e?i — 视觉感知的仿真 #K[
@$BY: — 电磁场分布 NubD2 建模/设计 Vg3&:g5 / — 场追迹: !6KEW, 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 NUU}8a(K yTEuf@ 2. 系统说明 Uag1vW,c cD>o(#x] 9xz`V1mIL 3. 模拟 & 设计结果 u-W=~EO5# 25TEbp[dy 4. 总结 spI{d!c
UWnH2 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 aT0 y qkEy$[D9 第1步 `bm-ONK 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 E|TzrH J0oR]eT} 第2步 9+/|sU\.% 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 N.<hZ\].= #=tWCxf= 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 r
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+!<`$+W 应用示例详细内容 0eLK9u3<
_PaOw%Y9 系统参数 UvI!e4_
-1o1k-8d 1. 该应用实例的内容 HT]ubw]rJ o#Y1Uamkf jQDxbkIuzE 2. 设计&仿真任务 pg<>Ow5,~l
0(kp>%mbB 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 E%e-R6gl bcYz?o6 3. 参数:输入近乎平行的激光束 cBA[D~s D%A-& = H~@h
#6 4. 参数:SLM像素阵列 }u&JX
8a h]D W1s|7 5. 参数:SLM像素阵列 t0q@]
0B5 RoTT%c P_ 1K`A.J:Uy 应用示例详细内容 lO
*Hv9#
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c],H 仿真&结果 v\Hyu1;8
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1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM (nzt}i0 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 \
C^D2Z6 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 ke0W? [>0r'-kI 2. VirtualLab的SLM模块 q
mB@kbt
j7d;1 zB+G
uv5@Alm
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 fCfY.vd5
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 Ua]zTMI
#q- _ 3. SLM的光学功能 K"1J1>CHQ
4Q>F4v` 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 &<V~s/n=6? 为此,将区域填充因子设置为60%。 J0 P 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 7d)aDc*TjW b\2"1m0H 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd [OcD#~drO {aSq3C<r 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 #t
O!3= 0 >U)O@W) 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd ,3j7Y5v 3(%,2 4. 对比:光栅的光学功能 <Va>5R_d< 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 <c#[.{A}s 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 w(D9' 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 K="+2]{I 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 c'2ra/?k 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 v,0D GR~
#7=LI\
je-s%kNlJ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd >=H8>X
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5. 有间隔SLM的光学功能 bRp[N 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 m!_ghD{5h Xhi?b| 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd v knFtpx UZra'+Wb 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 qE}YVKV* 4lCm(#T{, .Q@"];wH 6. 减少计算工作量 _u$K Lqt/, R{vPn8X6g
w C"%b#(} 采样要求: c29Z1Zs2) 至少1个点的间隔(每边)。 /3]|B%W9 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 pZxL?N! @:B1 采样要求: Fev3CV$ 同样,至少1个点的间隔。 $P3nP=mf 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 [2V/v 随填充因子的增大,采样迅速增加。 yxbTcZ U@nwSfp:G 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 ?miM15XI 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 `'WLGQG 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 5g5NTm`=< 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 !$Z"\v'b 9DX3]Z\7X n bk(FD6
#1@~w}Dh 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
6^;!9$G|D* 7. 指定区域填充因子的仿真
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mNoqs&UB 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 "M^W:4_ 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 VsEAo 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 Hw&M2a 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 }3w b*,Sbz Z;D3lbqE (B<AK4G
8. 总结 @~3c"q;i7 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 y>|XpImZ :g[x;Q[@ 第1步 "|`9{/] 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 g/p9"eBpq 0z7mre^Q 第2步 /g'-*:a 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 ^1=|(Z/ 扩展阅读 ZGhoV#T@ 扩展阅读 4&hqeY3 开始视频 ^]&{"! - 光路图介绍 E^a`IA 该应用示例相关文件: Ba|}C(Ws? - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 9t.yP;j\Y
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