空间光调制器(SLM.0002 v1.1) l9KLP ~qt)r_jW 应用示例简述 I=o[\?u*_
Z>gxECi 1. 系统细节 +KgoL a 光源 7[h_"@_A7 — 高斯光束 T6m#sVq 组件 KY34Sc — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 XI:8_F;Q 探测器 2_ M+akqy^ — 视觉感知的仿真 HM57b>6 — 电磁场分布 :f%FM&b 建模/设计 wgfA\7Z — 场追迹: 5v <>%= 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 ZycV?ob8} xFxl9oM." 2. 系统说明 28FC@&'H VeiJ1=hc mkgGX|k; 3. 模拟 & 设计结果 gw~%jD-2 )OQhtxK 4. 总结 ALvj)I`Al
,K9\;{C 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 KilgeN: QK _1!t3 第1步 L[l?}\ 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 L#sw@UCK 7pMl:\ 第2步 r@N 0%JZZ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 {Hncm 06DT2 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 Y<|!)JLB2
=B4,H=7Spf 应用示例详细内容 !`5[(lm
lOIBX@K E 系统参数 <!b~7sZkTc
+Qy*s1fit 1. 该应用实例的内容 ",/3PT 5`qt82Qm dmh6o * 2. 设计&仿真任务 ' >(])Oq,
GT\,
@$r 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 RC7|@a 0dS}pd">k 3. 参数:输入近乎平行的激光束 9$,x^Qx 7sP;+G LhM{LUi 4. 参数:SLM像素阵列 v|5:;,I
/ hUuQDJ f[,9WkC 5. 参数:SLM像素阵列 2|'v[ !iKR~&UpAL JQ{g'cT 应用示例详细内容 Y.I-hl1<r
6o@}k9AN 仿真&结果 whb|N2
6OYXcPW' 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM ,#3}TDC 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 %bI( 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 '\%c"? @$FE}j_ 2. VirtualLab的SLM模块 (IXiwu
qW]gp7jK4
n^|;J*rD
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 t~pA2?9@
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 +EJwWDJ!%
<>aBmJs4 3. SLM的光学功能 Z09FW>"u
?wE@9g A 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 /CpUq;^ 为此,将区域填充因子设置为60%。 "8K>Yu17 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 :V2"<] ?]%JQ]Gf* 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd .0]4@' Hj
]$ 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 ps0wN%tA _3$@s{k-TI 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 8+vZ9!7 yu"Ii-9z 4. 对比:光栅的光学功能 lhg3
}dW 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 tB.;T0n 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 1@IRx{v$ 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 }aYm86C] 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 R`=3lY; 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 K%LDOVE8e
HE&,?vioy
{ZFa
+ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd >Bp%~8f
L/(e/Jalg 5. 有间隔SLM的光学功能 ];Whvdnv 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 A9PXu\%y PK1j$&F 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd m%V+px 5A 1oZ+C# 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 O$x-&pW`g iHjo3_g)n Pg[zRRf< 6. 减少计算工作量 hTI8hh ~Wu Elns
S-Va_t$ 采样要求: kF'^!Hp 至少1个点的间隔(每边)。 OXDlwbwL 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 ,4j$kR K-wjQ|*1 采样要求: ~J2-B2S! 同样,至少1个点的间隔。 Z_' %'&Y 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 $m/-E#I#Z 随填充因子的增大,采样迅速增加。 X[k-J\ YN] w_= 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 h7Jo_L7 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 Ary$,3X2 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 'R_U,9y` 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 AX**q$'R d_J?i]AP|' cNC\w%
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T| 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
wI>JOV7 7. 指定区域填充因子的仿真 XBhWj\`(T
&ukNzV}VW 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 ZJ"*A+IJx[ 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 V.WfP*~NJ 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 p@i U}SUaE 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 \$;\,p p jbIWdHZ/US +lJuF/sS8m
8. 总结 ZC"6B(d 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 Qm`f5-d };9dd3X 第1步 '5ky< 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 6(9Ta'ywZ ^S ,E "Q 第2步 SNvK8,"g 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 t{~"vD9Am 扩展阅读 !P@u4FCs 扩展阅读 "EEE09~l\ 开始视频 V EY !0PIj - 光路图介绍 5[l3]HOO 该应用示例相关文件: #*S/Sh?Q - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计
(i *1M
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