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    [技术]空间光调制器像素处光衍射的仿真 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-11-11
    空间光调制器(SLM.0002 v1.1) yi7-[W}  
    Us YH#?|O  
    应用示例简述 xGqe )M>8?  
    ''wWw(2O  
    1. 系统细节 ?}B9=R$Pi  
    光源 A"C%.InZ  
    — 高斯光束 v^[Ny0cM  
     组件 -^;G^Uq6=  
    — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 W?'!}g(~  
     探测器 FQ?H%UcW  
    — 视觉感知的仿真 d<qbUk3;  
    — 电磁场分布 i<1w*yu  
     建模/设计 \x x<\8Qr_  
    — 场追迹: c?eV8h1G  
     一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 ;oULtQ  
    m5zP|s1`['  
    2. 系统说明 mb?DnP,z  
    :H\6wJ  
    &.o}(e:]  
    3. 模拟 & 设计结果 t_,iV9NrZ  
    G+'MTC_  
    4. 总结 w])bQ7)  
    !hF b <  
    考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 XT= #+  
    4\2p8__  
    第1步 oRy?Dx+H  
    将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 _ZD)#?  
    r em&F'x0V  
    第2步 $}OU~d1q  
    分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Q_6./.GQ  
    Iu(T@",Q#  
    产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 `U!eh1*b  
    cPI #XPM=  
    应用示例详细内容 @OFl^U0/  
    <W/-[ M  
    系统参数 g=b[V   
    %nOBsln  
    1. 该应用实例的内容 ?$;_a%v6  
    ,Xk8{ =  
    jfqWcX.X=  
    2. 设计&仿真任务 %MbjKw  
    2{XQDOyA  
    由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 F.PD5%/$q  
    k%:]PQjYT  
    3. 参数:输入近乎平行的激光 YcRjbF,|6  
    zi[bpa17W  
    tI{ n!  
    4. 参数:SLM像素阵列 A~nq4@uj  
    V[+ Pb]  
    L\_8}\  
    5. 参数:SLM像素阵列 pR 1v^m|  
    YV{^S6M  
    @/anJrt  
    应用示例详细内容 IOTHk+w  
    fBD5K3  
    仿真&结果 "@GopD  
    gA2\c5F<  
    1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM A+Y>1-=JO  
     由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 v]U[7 j  
     内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 <LZvG IMl  
    ?)4|WN|c_  
    2. VirtualLab的SLM模块 1xM&"p:  
    $L:g7?)k  
    g6QkF41nG  
     为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 N1P [&lR  
     必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 &}:Hp9n  
    xC<OFpI\  
    3. SLM的光学功能 '9<Mk-Aj  
    4(u+YW GX  
     在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 =kZPd>&L  
     为此,将区域填充因子设置为60%。 .__X[Mzth3  
     首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 1/gY]ghL  
    j*W]^uT,  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd Rc?wIL)  
    y7d)[d*Mz  
     此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 /o8`I m   
    jh\q2E~,`  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 8EbYk2j  
    ,D ;`t  
    4. 对比:光栅的光学功能 2lAuO!%  
     上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 Eto0>YyZ  
     所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 _Mq@58q'  
     通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 2c8,H29  
     级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 e *;"$7o9  
     这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 ^x 4,}'(  
    m'aw`?  
    m>zUwGYEu  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd /,E%)K;  
    (X>r_4W$  
    5. 有间隔SLM的光学功能 oPzt1Y  
    现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 ]#S1 AvT  
    @f*/V e0.  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd kz,Nz09}W  
    uO7Ti]H  
    下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 /MQd[03]  
    Am  kHVg  
    En5I  
    6. 减少计算工作量 2R2Z6}  
    `Ph4!-6#  
    8.Y6r  
    采样要求: >L&>B5)9  
     至少1个点的间隔(每边)。 nfrC@Av  
     如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 l<7 b  
    VCbnS191*  
    采样要求: .O1g'%  
     同样,至少1个点的间隔。 AU-/-h=Mr  
     假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 z%*ZmF^K  
     随填充因子的增大,采样迅速增加。 5f}63as  
    2&$A x  
     为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 O$$s]R6  
     如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 r<&d1fM;X  
     如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 z${B|  
     通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 %\r4c*O1q  
    l Fzb$k}_{  
    +Icg;m{  
    U6.$F#n  
    减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
    <bGSr23*  
    7. 指定区域填充因子的仿真 3b#KrN'  
    I"T_<  
     由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 #<v3G)|aS  
     全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 =UTv  
     因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 lQ! 6n  
     在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 x]y~KbdeB  
    !Otyu6&  
    $[FO(w@f  
    8. 总结
    lXv{+ic  
    考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 gR~XkU  
    !30Dice  
    第1步 5<ery~q  
    将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 s\>$ K%!H?  
    D}\% Q #  
    第2步 s)ZL`S?</  
    分析不同区域填充因子的对性能的影响。 4\Q ?4ZX  
    扩展阅读 O]^E%;(]}i  
    扩展阅读 c(YNv4*X  
     开始视频 T-|z18|!  
    -    光路图介绍 #\t?`\L3  
     该应用示例相关文件: &:'Uh W-t  
    -     SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 ;znIY&Z  
    -     SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究
    ->K*r\T  
     
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