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    [技术]空间光调制器像素处光衍射的仿真 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-11-11
    空间光调制器(SLM.0002 v1.1) Em~7D ]Y  
    KjFZ  
    应用示例简述 MekT?KPQ{L  
    :"M9*XeHO  
    1. 系统细节 ,] ~u:Y}  
    光源 l-<3{!  
    — 高斯光束 v%H"_T  
     组件 r/mA2  
    — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 <X:Ud&\  
     探测器  OLk9A  
    — 视觉感知的仿真 ruZYehu1W  
    — 电磁场分布 t{/:(Nu  
     建模/设计 Zz"I.$$[M  
    — 场追迹: l;XU#6{  
     一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 zyaW3th  
    Z B~l2  
    2. 系统说明 u:_sTfKm&  
    GXT]K>LA  
    ZhhI@_sz  
    3. 模拟 & 设计结果 8g<Q5(  
    X|X4L(i  
    4. 总结  EX[B/YH  
    ~hS3*\^~M  
    考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 Ho|o,XvLv  
    XMt u"K  
    第1步 !OPSSP]-  
    将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 NFB *1_m  
    w+t#Yb\7  
    第2步 lbQ6 a  
    分析不同区域填充因子的对性能的影响。 lemVP'cn  
    GxYW4b  
    产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 dv"as4~%  
    gO+\O  
    应用示例详细内容 }czsa_  
    5JS ZLC  
    系统参数 8{R&EijC  
    S4L-/<s[*  
    1. 该应用实例的内容 ;c1relR2  
    F(d:t!  
    TG1P=g5h  
    2. 设计&仿真任务 yt. f!"  
    8$\Za,)g  
    由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 t(}/g  
    A/!<kp{S  
    3. 参数:输入近乎平行的激光 inYM+o!Ub  
    2Oyy`k  
    lwVk(l Z  
    4. 参数:SLM像素阵列 8jRs =I  
    :%N*{uy  
    tC^ 1}  
    5. 参数:SLM像素阵列 },rav]  
    zm3-C%:Bw  
    YnSbw3U.I  
    应用示例详细内容 OFL|RLiD  
    >L^xlm%7o  
    仿真&结果 gdl| ^*tc  
    S"zk!2@C  
    1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM xZX`%f-  
     由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 `3J' :Vh  
     内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 RL6Vkd?  
    xPt*CB  
    2. VirtualLab的SLM模块 }7.#Dj/r6  
    "l TZ|k^  
    cg,Ua!c  
     为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 jO=*:{#x  
     必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 _mXs4  
    Zb."*zL  
    3. SLM的光学功能 YJd8l>mz  
    <|a=hHPi:  
     在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 'f*O#&?  
     为此,将区域填充因子设置为60%。 t)} \9^Uo  
     首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 #EJP(wXa  
    6a*83G,k  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd '99@=3AB:`  
    \QGa 4_#  
     此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 wZ jlHe  
    #1[z;Mk0  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd B52yaG8C  
    1fY>>*oP  
    4. 对比:光栅的光学功能 gXt O*Rfqk  
     上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 +Qs!Nhsq  
     所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 _42Z={pZZq  
     通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 vG~+r<:  
     级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 } ~F~hf>s  
     这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 9*\g`fWc}{  
    =2%VZE7Vm  
    +"8}R~`!  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 9OyNi  
    ]v\^&7pW  
    5. 有间隔SLM的光学功能 X FQNr`  
    现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 Jt]&;0zn2  
    -w]/7cH  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd @r<b:?u  
    $3k "WlRG  
    下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 :3^dF}>  
    d; =u  
    Efx=T$%^&  
    6. 减少计算工作量 `*aBRwvK~  
    t`YWwI.  
    ,[X_]e;  
    采样要求: z]=8eV\  
     至少1个点的间隔(每边)。 .x-J44i@/  
     如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 _R^y\1Qu  
    ^"x<)@X  
    采样要求:  qSTWb%  
     同样,至少1个点的间隔。 zTY;8r+  
     假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 SE)nD@:  
     随填充因子的增大,采样迅速增加。 d>|;f  
    Uw)=WImz[  
     为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 YJ,*(A18  
     如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 s8vKKvs`9  
     如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 l5k?De_(x  
     通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 NiA4JgM]v  
    fx)KNm8Lx  
    =7 w>wW-  
    R0wf#%97  
    减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
    ()\jCNLT  
    7. 指定区域填充因子的仿真 "3}<8 c  
    9S>g6}[E#0  
     由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 >zngJ$  
     全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 [T^?Q%h  
     因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 g_aCHEFBv  
     在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 hw=GR_,  
    1nI^-aQ3  
    {^mKvc  
    8. 总结
    ?djQZ *  
    考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 r N5tI.iC  
    ashar&'  
    第1步 zN!j%T.e  
    将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 V%NeZ1{ e  
    H}ZQ?uK;  
    第2步 |PP.<ce\-  
    分析不同区域填充因子的对性能的影响。 a#[-*ou`  
    扩展阅读 YGk9b+`  
    扩展阅读 cb$-6ZE/  
     开始视频 #;Tz[0  
    -    光路图介绍 O{]9hm(tN  
     该应用示例相关文件: I=Ij dwbH  
    -     SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 <9eu1^g  
    -     SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究
    41V e}%  
     
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