空间光调制器(SLM.0002 v1.1) ZlO@PlZ) g"T~)SQP 应用示例简述 ke3=s
~]"}s(J; 1. 系统细节 / _}v|E0 光源 m7M*)N8 — 高斯光束 8l='H l 组件 (5yg\3Jvp — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 "r"Y9KODm 探测器 hJd#Gc~*M — 视觉感知的仿真 sXhtn'<v — 电磁场分布 }Bc6:a 建模/设计 >Y2Rr9 — 场追迹: .7)A8R7Wt 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 *f4KmiQ~% /@wm?ft6Gk 2. 系统说明 ahV_4;yF JWn9&WK ,Y`C7Px 3. 模拟 & 设计结果 {Or|] 0 dvL '>'g 4. 总结 *:&fw'vd,
`E|IMUB~ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ?L'k2J {Ua5bSbh 第1步 :_e.ch:4 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 7PisX!c,h JGO>X|T
第2步 +- .BF"} 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 rBny*! n ho(Y?'^t3 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 mR0@R;,p
+m+HC(Z 应用示例详细内容 [{ zekF~)@
<=7p~
i5 系统参数 #);
6+v
&pmJ:WO,h 1. 该应用实例的内容 8wy"m=>=b} xeHu-J!P ar^`r!ABEh 2. 设计&仿真任务 }F3Z~
z?gJHN< 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 N9*$' F_21`Hj 3. 参数:输入近乎平行的激光束 }>OE"#si >)5vsqGZaK 4o=G) KO{ 4. 参数:SLM像素阵列 |j!D _j#U
6XG+YIG6w keWgbj 5. 参数:SLM像素阵列 *Zc-&Dk:Ir /0\pPc*kA{ 1U9iNki 应用示例详细内容 Mr1pRIYMd
6@$[x* V 仿真&结果 9rid98~d
WkO . 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM |/(5GX,X 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 Zn^E 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 rcbixOT vIG,!^*3 2. VirtualLab的SLM模块 gTq-\k(
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^Uf`w7"iY
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 E?zp?t:a
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。
Kr#=u~~M
"E8!{ 3. SLM的光学功能 [6Wr
t8"
>2|#b 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 F?dTCa 为此,将区域填充因子设置为60%。 kQb0pfYs 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 s R~&S)) 8%NX)hZyq} 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd zZRqb/20 pQ/:*cd+M 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 Z5U~g? ~\/ J& 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd K1hw'AaQ A1@-;/H3 4. 对比:光栅的光学功能 ^w HMKC 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 }+B7C2_\ 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 d}G?iX;c} 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 lt*k(JD 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 <
d]|5 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 jTqba:q@
l:ED_env:
0g+@WK6y 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd Brl6r8LGi
d.+vjMI 5. 有间隔SLM的光学功能 Zu$f[U)X 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 a_ P[J8j Q(sbClp" 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd 4/jY;YN,2 dbLX}> 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 (kHR$8GFM .
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NS cC[n~OV 6. 减少计算工作量 -r2cK{Hhp& D6vn3*,&
Wf?sJ`.%b 采样要求: ArEpH"}@ 至少1个点的间隔(每边)。 !vB%Q$!x 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 gB"Tc[l1 gv,T<A?Z2 采样要求: yI%>
w4Z 同样,至少1个点的间隔。 HB}gn2.1& 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 PYUY bRn 随填充因子的增大,采样迅速增加。 9JtvHUkO mx[^LaR>v 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 So^`L s;S 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 e.+)0)A- 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 @Otc$hj 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 IX(yajc[~M I5A^/=bf& nsp K.*?
:2My|3H\ 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
e^GW[lT 7. 指定区域填充因子的仿真 C{Ug ?hVP
>2:S v1T 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 ]aRD6F:L 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 C]H <L#)ZU 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 ]*@$%iCPE 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 $.1'Ym Zz-;jkX) =QfKDA
8. 总结 de6dLT>m 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 {t:ND #[W[|m 第1步 &-:yn&f7 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 AL7O -D @,&m`qzd+ 第2步 -],?kP 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Q75^7Ga_ 扩展阅读 aTm.10{^ 扩展阅读 j*u9+. 开始视频 g)A0PvEu - 光路图介绍 =.oWg uzu 该应用示例相关文件: I0vnd7 - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 X@&uu0JJ
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 )JQQ4D