空间光调制器(SLM.0002 v1.1) jkrx]`A{~ s0LA^2U 应用示例简述 YwT-T,oD
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~ 1. 系统细节 )+O r 光源 9 |:^k. — 高斯光束 FY;+PY@I{ 组件 fJ80tt?r — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 GaNq2 G 探测器 +S { — 视觉感知的仿真 f5dR 5G — 电磁场分布 =LH}YUmd 建模/设计 ddpl Pzm# — 场追迹: Ns~&sE: 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 +/'<z KHj6Tg;) 2. 系统说明 ML!9:vz :
1)}Epo, j64 4V|z 3. 模拟 & 设计结果 X}JWf<=q KjR4=9MD 4. 总结 }N3`gCy9eN
0'ZYO.y 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 m3
IP7h' =&NOHT> 第1步 2)LX^?7R 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 bejGfc hH4o;0rqJ 第2步 CI^|k/ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 c;V D}UD' [ #]jC[ 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 LDX*<(
O2#S: ~h 应用示例详细内容 ~Yl$I,
W8/(;K`/ 系统参数 APHPN:v
<?|6*2_= 1. 该应用实例的内容 %-^}45](q p?Sl}A@` 0$Ff#8 2. 设计&仿真任务 wu^q`!ml
@InJ_9E 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 bXl8v PNmF}" 3. 参数:输入近乎平行的激光束 [
-12]3 >(tO
QeN xyV]?~7 4. 参数:SLM像素阵列 {})y^L
XtW_ wznn #j 5. 参数:SLM像素阵列 ,P{HE8. V4?Oc2mS )k%M.{&bji 应用示例详细内容 Q&wYc{TUbm
7|~:P$M 仿真&结果 N9*UMVU
%c0z)R~ 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM {y/-:=S)A 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 @W)/\AZ3 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 ~^7 sX~45u \ 2. VirtualLab的SLM模块 QZ0R :TY
K{FhT9R'
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 >nNl^ yqW
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 ylim/`u}6
`t9.xB#Z 3. SLM的光学功能 {e6KJ@H6
+/Z0 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 UC#"=Xd4 为此,将区域填充因子设置为60%。 KDaN-r^{% 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。
3se$,QmN ~bFdJj 1* 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd ,Z4^'1{D r$?Vx_f`Q 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 N4+g(" *s36OF! 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd yjR)Z9t @:IL/o* 4. 对比:光栅的光学功能 u!u5g.Q 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 L
B<UC?e 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 @|]G0&gn&? 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 w?/f Z x 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 $%;jk 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 mCG;[4gM
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8iOO1I?+ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd (6o:4|xl0
}2mI*"%)\u 5. 有间隔SLM的光学功能 t@r#b67WJe 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 Jbkt'Z(&J )ZeLaa P 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd ac3_L$X[ PMsC*U,oe 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 YjL
t&D:IZ `+Xe'ey M.t@@wq 6. 减少计算工作量
Bjtj{B h\2}875
wU.'_SBfB 采样要求: q:W q8 至少1个点的间隔(每边)。 "s>
>V, 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 M-vC>u3Y <(Tiazg 采样要求: G6<HO7\ 同样,至少1个点的间隔。 ,Z?m`cx 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 2>ys2:z 随填充因子的增大,采样迅速增加。 HmFNE$k ;i/"$K 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 u9 %;{:]h 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 +fkP+RVY 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 _J` |<}?t; 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 +fPNen4E y>%W;r) 3L*+ 8a
x}_rnf_ 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
>2nF"?"= 7. 指定区域填充因子的仿真 :82?'aR
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% 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 /%-o.hT 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 ;r%<2( 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 x
Ridc^ 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 l<s :%%CX ]}_p3W "Y9 w<btv]X1
8. 总结 LPb]mC6# 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 RFhU# *m iONc 第1步 +yt 6.L 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 /j$$0F>s7 pb~Ps#"Zg 第2步
o.p+j 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 #)Ep(2 扩展阅读 hT\p)w 扩展阅读 ZDW,7b%U 开始视频 @wg&6uQ - 光路图介绍 GOUY_&}tL 该应用示例相关文件: [SKP|`I>I - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 o]dK^[/*
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 (MZ A