空间光调制器(SLM.0002 v1.1) Olq`mlsK w8-L2)Q}I 应用示例简述 z`|E0~{-
/oU$TaB>( 1. 系统细节 tkhEjTZ 光源 )B Xl|V, — 高斯光束 V8z*mnD 组件 zXeBUbVi — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 Dzw>[
探测器 IpsV4nmnz- — 视觉感知的仿真 d#HN'(2t — 电磁场分布 /_/Z/D! 建模/设计 <Ow+LJWQK — 场追迹: NJ!}(=1|K 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 +PHuQ toC|vn&P 2. 系统说明 g_MxG!+(V ev(E H~ =;yy 3. 模拟 & 设计结果 SQf.R%cg$ N_y#Y{c{( 4. 总结 sQa9M
ltmD=-]G_ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 Z4PAdT D?9EO= 第1步 @S Quc 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 ~RnBs`&! lK y4Nry9 第2步 m\J"P'= 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 U,^jN|v Z+! 96LR 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 T04&Tl'CT
FGRG?d4?h 应用示例详细内容 Yk#$-"c/a
<p8>"~R 系统参数 hHqsI`7c
SCD;(I~4 1. 该应用实例的内容 \!'K#%]9 4fdO Ow &Zm1(k6&K 2. 设计&仿真任务 %Z#[{yuFs
,koG*sn 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 Hbz,3{o5 M9sB2Ips< 3. 参数:输入近乎平行的激光束 ~Uaz;<"j0 F5f1j]c }zV#?;} 4. 参数:SLM像素阵列 kX]p;C
J~rjI24 U7Pn
$l2! 5. 参数:SLM像素阵列 |:d:uj/ `v$Bib) dZjh@yGP. 应用示例详细内容 sh8(+hg
qt#4i.Iu+ 仿真&结果 bR?
$a+a)
%c,CfhEV%& 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM m3iB` 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 qy~@cPT 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 JQWW's} H3"D$Nv 2. VirtualLab的SLM模块 h}(GOYS)
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 I~I$/j]e`
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 ^,;8ra*h
$;%dQ!7* 3. SLM的光学功能 t>>\U X
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oR 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 2T#>66^@q 为此,将区域填充因子设置为60%。 $8,/[V
A 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 4 '-GcH qfzT8-Y 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd |MXv
w6P 2VNfnk 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 eFeWjB'<7 z@S39Xp== 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd z;EnAy {9 0NWtu]9QC 4. 对比:光栅的光学功能 9d!}]+"d42 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 /!Kl 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 d[.JEgU 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 6M758K6v 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 PNMf5'@m 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 -"e$ VB
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)z#M_[zC> 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd F
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5. 有间隔SLM的光学功能 Q-GnNT7MB3 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 (e;9,~u) :+>:>$ao 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd `FM^)(wT Wd_cNR\ 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 r?= 7#/] Soa5TM [oQ&}3\XJ 6. 减少计算工作量 |cBpX+D !*gTC1bvB
3yAzt*dZ 采样要求: O$=) 至少1个点的间隔(每边)。 6uijxia 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 z!I(B^)BkT x@]pUA1 采样要求: JDzkv%E^ 同样,至少1个点的间隔。 9GZKT{* 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 q(yw,]h]{ 随填充因子的增大,采样迅速增加。 K>`7f]?H*e #?z1cgCg 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 &n:F])`2 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 7^J-5lY3S 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 zAxwM-` 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 !Fz9\| t'EH_U E5M*Gs
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^%=G# 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
9J?G"JV? 7. 指定区域填充因子的仿真 {Z_Pry$6
~qiSkG 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 P~0d'Oi 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 khb
Gyg% 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 *s6MF{Ds 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 96Tc:#9i <oSk!6* PaEsz$mgy
8. 总结 B*owV% 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 e6f!6a+% %Ya-;&;` 第1步 {A(=phN 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 0=8.8LnN( OX?9 3AlG 第2步 -NVk>ENL4 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 5|-(Ic 扩展阅读 -9U'yL90B 扩展阅读 O329Bkg 开始视频 Y1
i! - 光路图介绍 V&_5q`L 该应用示例相关文件: C<6IiF[>% - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 =ot`V; Q>
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