空间光调制器(SLM.0002 v1.1) P.gb1$7< `OSN\"\ad 应用示例简述 !47n[Zs
1GzAG;UUo6 1. 系统细节 k:7(D_ 光源 -GxaV #{ — 高斯光束 -'6Dg 组件 2}8v(%s p — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 XI^QF;, 探测器 dAuJXGo — 视觉感知的仿真 $|8!BOx8t — 电磁场分布 l\i)$=d&g 建模/设计 ~3<>
3p — 场追迹: EFz&N\2 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 ]\|VpIg 'inFKy'H 2. 系统说明 5{g?,/( rW$[DdFA5{ @;"|@!l| 3. 模拟 & 设计结果 } }59V&'t A}l3cP;
`# 4. 总结 kGl~GOB
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>7 ="8 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 4t=G
vam;4vyu 第1步 r]6C 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 RCpR3iC2 vX.VfY 第2步 mHRiugb! 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 }~L.qG :>5@cvc 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 -qGa]a
P5UL4uyl 应用示例详细内容 uLV#SQ=bZN
*}*FX+px) 系统参数 .6Pw|xu`Pw
U>Slc08N 1. 该应用实例的内容 F1yqxWHeo ,>%}B3O:Y= Vh4X%b$TV 2. 设计&仿真任务 ~nay" g:
'd9INz. 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 8]9%*2"! $|@
( 3. 参数:输入近乎平行的激光束 HMNLa*CL' "]}
bFO7C Iy&!<r7:]0 4. 参数:SLM像素阵列 fumm<:<CLO
fb e[@#: J| w>a 5. 参数:SLM像素阵列 Tw-;7Ae GBPo8L"9 |Y,b?*UF 应用示例详细内容 asppRL||
Li4zTR|U 仿真&结果 b0Ps5G\ u
,?^ p(w 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM k5'Vy8q 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 sYI-5D] 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 V2wb%;q iP7(tnlW$ 2. VirtualLab的SLM模块 zBzZxK>$
"ut39si
)"7iJb<E
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 \!.B+7t=I
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 *nkoPVpC
i9,geQ7d 3. SLM的光学功能 <Zmg#
-(;26\lE 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 gCB |DY 为此,将区域填充因子设置为60%。 ) vE~'W 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 Rl?_^dPx c(xrP/yOwi 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd ;U+3w~ 12b(A+M
此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 LTQ"8 4V)kx[j 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd "R;U/+ 8e1UmM[ 4. 对比:光栅的光学功能 =O5pY9UO 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 &5B'nk" 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 3u+T~g0^ 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 y51e%n$ 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 /
*#r`A 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 z]_wjYn Z
^ @s1Z7
Y!w`YYKP 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd "jKY1*?
KQ!8ks] 5. 有间隔SLM的光学功能 84& $^lNV 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 "^})zf~_ On9A U:\ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd PUMXOTu] k8&;lgO' 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 F rfM3x6UM P64PPbP ]8_NZHld 6. 减少计算工作量 *K8$eDNZ \kL3.W_
l*(8i ^ 采样要求: 8mvy\l
EEH 至少1个点的间隔(每边)。 aFX=C>M 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 P^~yzI _^Ubs>d=* 采样要求: itt3.:y 同样,至少1个点的间隔。 ;#W2|'HD 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 }c,}V 随填充因子的增大,采样迅速增加。 C!<Ou6}!b t6"%3#s 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 %HhnSi1K 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 l` lk-nb 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 [6Izlh+D 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 v!~fs)cdE| 3) <yod= i
&nSh ]KK
f643#1 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
y&$A+peJ1 7. 指定区域填充因子的仿真 :1QI8%L'$i
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G 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 DN>[\hg 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 EH J.T~X 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 :%=Xm 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 Ko<:Z)PS ,f%S'(>w UERLtSQ
8. 总结 z#wkiCRYm 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 8b&/k8i: 5{X<y#vAC0 第1步 lfow1WRF 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 y'.p&QH'` Woym/[i 第2步 PO:{t 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 A:%`wX} 扩展阅读 Q->sV$^=T 扩展阅读 -$ls(oot 开始视频 F0TB<1 - 光路图介绍 W:2( .? 该应用示例相关文件: +5*95-;0 - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 `Y$4 H,8L
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