空间光调制器(SLM.0002 v1.1) kB41{Y - xx^7 应用示例简述 0FL PZaRP
^SdorPOq& 1. 系统细节 lO?dI=}] 光源 r!DUsE — 高斯光束 2(5HPRQ 组件 ;xp^FKP — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 xp+Z%0D 探测器 Tnw0S8M — 视觉感知的仿真
Iu<RwB[#Q — 电磁场分布 %<4ZU!2L 建模/设计 )vO?d~x| — 场追迹: _*(n2'2B 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 >5,nB< :i;iSrKy 2. 系统说明 q-3,p. 6gUcoDD hrLPyV: 3. 模拟 & 设计结果 :BIgrz"Jz f$\gm+&hXE 4. 总结 dd $}FlT
xPuuG{Sm 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 =D 1%-ym Z?IwR 第1步 hj~nLgpN 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 a!n |/9
6 S"*M9*8 第2步 JYE[
1M 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 3B{B6w}t&
2aROY2 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 3_AVJv
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+:JyXFu 应用示例详细内容 h[%t7qo=
;@I4[4ph} 系统参数 I2U/\
9DAk|K 1. 该应用实例的内容 Y|NL #F @'
V=Vr $)V_oQSqn 2. 设计&仿真任务 G)vq+L5%
h x_,>\@ 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 ?3X(`:KB .Xq4QR . 3. 参数:输入近乎平行的激光束 Bu:h_sV D s]D&): ncF|wz 4. 参数:SLM像素阵列 {6V;$KqH6
DU@ZLk3 "r:i 5. 参数:SLM像素阵列 {
S]"-x 7Nw}
} YPq4VX, 应用示例详细内容 mJj
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BCrX>Pp}r 仿真&结果 F4Jc7k2
2s+ITPr 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM "s:eH"_s 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 ZmJ!ZKKch 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 Nb[zm|. aGl*h"& 2. VirtualLab的SLM模块 2}NWFM3C
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 s>pOfXIx
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 CG`s@5y>5
BA1|%:. 3. SLM的光学功能
PT`];C(he
uQ} 0hs 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 3 &aBU[ 为此,将区域填充因子设置为60%。 K GVAP 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 ~v
/N G /b44;U`v5- 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd xK8n~.T(' PYOU=R%o`8 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 *{ =5AW}o 0n'~wz"wB 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd TA
x9<' NXJyRAJ*% 4. 对比:光栅的光学功能 3!+N}[$iy 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 x_C#ALq9 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 u{H'evv0O 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 m|7lDfpb 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 !I7bxDzK$ 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 aMUy^>
/Ir|& <yB
't3@dz_dG 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd =nq9)4o
Oq7R^t`b 5. 有间隔SLM的光学功能 n@hf{hA[a 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 _fVC\18T #P)7b,3pe 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd shjq4#9 ZPM,ZGlu: 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 /~4wM#Yi8 r_5k$u( -w0U}Te^ 6. 减少计算工作量 3?}W0dZ$d {3jV ,S
#Cwzk{p( 采样要求: RR%[]M#_T 至少1个点的间隔(每边)。 &TpzJcd" 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 h-^7cHI} B\/"$" 采样要求: d%"?^e 同样,至少1个点的间隔。 8-A *Jc 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 af:wg]g 随填充因子的增大,采样迅速增加。 f;Iaf#V_ FUq>+U!Qu 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 v,\2$q/ 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 DeMF<)# 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 g _2m["6* 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 _?5$ST@5 L$ nFRl& V4('}Q!
;w^-3 U7: 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
Kn#3^>D 7. 指定区域填充因子的仿真 7c:5Ey
L5"|RI} 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。
=<_ei|ME 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 Ik9 2='Z 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 ~-"<)XPe 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 F$Cf\#{3 @Ju!|G9z/p c{iF
8. 总结 64#6L.Q-c 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 *@M7J if
S)
< t 第1步 ZQd\!K8y^Q 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 91Cg
0@ -3U{Q 第2步 /K#t$O4 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 F-^#EkEGe 扩展阅读 7[V6@K!Al[ 扩展阅读 .kBZ(`K 开始视频 &DqeO8?Q - 光路图介绍 "hwG"3n1 该应用示例相关文件: nUAs:Q - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 ]t69a4&,#9
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 >3S^9{d