空间光调制器(SLM.0002 v1.1) x^Zm:Jrw~ zeD=-3 应用示例简述 ?-'GbOr!
nG%<n 1. 系统细节 SB`xr!~A] 光源 K7t_Q8 — 高斯光束 7AF6aog 组件 KMx
'( — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 32Wa{LG;2 探测器 kP1cwmZ7F — 视觉感知的仿真
i (`Q{l — 电磁场分布 C@g/{?\ 建模/设计 ,n`S
, — 场追迹: x *a_43` 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 M5P3; ?:6w6GwAA 2. 系统说明 >DAi-`e U,8mYv2| /m4Y87 3. 模拟 & 设计结果 "jf_xZ$H- MkWbPm) 4. 总结 NU"L1dK
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[OS&eK 8 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 t]T't=' }}l jVUpC% 第1步 |xT'+~u 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 `O!yt ,BR W= 第2步 2Z ?l,M~ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 -XnOj2 nUK;M[ 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 pLM?m
{{AZW 应用示例详细内容 q3`~uTzk
q{+}0!o 系统参数 pb G5y7
Tfx-h)oP3 1. 该应用实例的内容 53?Ati\Y) LYiIJAZ. Zy|u5J 2. 设计&仿真任务 ND/oKM+?
cqT%6Si 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 ]]y4$[|L {Es1bO 3. 参数:输入近乎平行的激光束 1kD1$5 _:FD#5BZ1 ge1U1o 4. 参数:SLM像素阵列 6R*eJICN
+:W? :\ Wz#ZkNO 5. 参数:SLM像素阵列 ,!X:wY}dW P76gJ@#m D&pp
< 应用示例详细内容 pD }b $
g?K? Fn.} 仿真&结果 m}]QP\
h,6> ^A 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM F"QJ)F 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 VV sE]7P ] 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 7PwH&rI BqM[{Kv 2. VirtualLab的SLM模块 W@i|=xS?
'v=BAY=Ef
r?dkE=B
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 KFy|,@NI
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 c`N_MP
N34bB>_ 3. SLM的光学功能 4G hg~0
w2jB6NQX 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 C
=B a|Z 为此,将区域填充因子设置为60%。 M:L-j{?y_ 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 ,b?G]WQrHs AS0mMHJk 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd SR`A]EC(V =LEzcq>XO 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 s.XxYXR\ 6j!a*u:}" 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 7[i&EPN {hm-0Q 4. 对比:光栅的光学功能 NRk^Z) 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 88 ca 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 +;Gvp=hk 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 i8DYC=r 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 Q5u3~Q'e 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 1_StgFu u
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5HTY ~&C 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd Z=<D`
G^SDB!/@J 5. 有间隔SLM的光学功能 (a~V<v" 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 ;&kZ7% <y"lL>JR 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd =/ \l=* ?,C'\8' 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 " LhXR ^K
9jJS9K ]iZ-MG)J 6. 减少计算工作量 =/4}!B/ xsrdHP1
rP/W,!
7:K 采样要求: = N:5#A 至少1个点的间隔(每边)。 E/D@;Ym18 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 q^~w:$^U P(3$XMx 采样要求: r4iT
9D 同样,至少1个点的间隔。 %6Y}0>gY 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 Z'm( M[2K 随填充因子的增大,采样迅速增加。 O<XNI(@ L:jv%;DM 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 @v.?z2h 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 -Byl~n3*D 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 qSaCl6[Do 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 /)rv Ndn XHY,;4 s&DAO r!i
jtqU`|FSQ 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
En0hjXa 7. 指定区域填充因子的仿真 u:,B&}j
9A}y^=!` 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 P%<MQg|k` 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 t3!~=U 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 ("=24R=a 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 18y'#<X! lvUWs yzX S{#\
8. 总结 2 ,.8oa( 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 j"&Oa&SH !T}R=;)eh 第1步 e C&!yY2g 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 AQc9@3T~Bi 2}5@:cwR+ 第2步 K{ FBrh 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 |;YDRI 扩展阅读 s]xn&rd_ 扩展阅读 ,@Elw>^ 开始视频 n5*m x7 - 光路图介绍 F_V/&OV 该应用示例相关文件: f6#1sO4" - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 cn'rBY
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