空间光调制器(SLM.0002 v1.1) _i+7O^=d6X 5X"WgR; 应用示例简述 QF`o%mI
B< BS>(Nr> 1. 系统细节 rpO>l 光源 #sp8 !8|y — 高斯光束 9\D 0mjn=l 组件 {oc7Chv=/H — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 |F^h>^
x 探测器 AIa#t#8${ — 视觉感知的仿真 n"c3C) — 电磁场分布 ~`Xu6+1o 建模/设计 2k3yf_N — 场追迹: TdH~sz 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 4 Z< O/2Jz 2. 系统说明 sOLR *=F{ PFnq:G^L ^L;k 3. 模拟 & 设计结果 v"a.%"oN8 gR:21*&cz 4. 总结 oc3}L^aD
3teanU` 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 =C.WM*= ' a2N4Jg@ 第1步 P",E/beV 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 !~~j&+hK\ 6$^dOJ_" 第2步 lKF<]25 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 <<[hZ$. <"XDIvpc%L 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 /i)1BaF
uuMHD{}?} 应用示例详细内容 jB-)/8.qk
X}gnO83 系统参数 y3vm+tJc{
K'zG[[P 1. 该应用实例的内容 jL[
hB Yi+~}YP.E( !p~K;p, 2. 设计&仿真任务 H;OPA8\n
cWA$O*A 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 \7Fkeo+ op%?V: 3. 参数:输入近乎平行的激光束 [d_sd *jF VYg g6. =(je 4. 参数:SLM像素阵列 C8 b%r|^#
=_L `1[GY){?) 5. 参数:SLM像素阵列 S3k>34_%9 'Na/AcRdg !B3lsXLSY 应用示例详细内容 tyLR_@i%%
9#;UQ.qA 仿真&结果 rGe^$!QB
42m}c1R 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM >5jHgs# 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 (Q$]X5L 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 .ZxH#l _ H?=D, 2. VirtualLab的SLM模块 D?w-uR%Y
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(Rc0 l;
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 CKTD27})
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 H5N(MihT
-e{H 8ro 3. SLM的光学功能 -^(NIl'
IrRn@15, 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 }fo?K|Xx 为此,将区域填充因子设置为60%。 y{eZrX| 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 W&>+~A !!c.cv' 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd [\ JZpF YJ5;a\QxN 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 o^Y'e+T" T_}\ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd Xm`K@hJ@ 6wWA(![w" 4. 对比:光栅的光学功能 .~5cNu'#m 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 e;=G|E 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 >oc7=F<8lS 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 (WW,]#^
级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 t3/!esay 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 ^yRCR] oT
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``kKi3TWJ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd r,6~?hG]
KG#|Cq 5. 有间隔SLM的光学功能 @ %z5]w 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 p;n )YY$ 'ce9v@(0 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd -}UCdaQ3 Iw"?%k\U 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 eT+MN` \Mlj
7.u] t:M({|m Y 6. 减少计算工作量 e_ 6
i896 gWS49*O
Smk]G))o{ 采样要求: O)5-6lm 至少1个点的间隔(每边)。 B>47Ic 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 cf@#a@7m9 UsQv!Cwu^ 采样要求: $)@zlnU 同样,至少1个点的间隔。 /KKX;L[D( 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 ]?)zH:2) 随填充因子的增大,采样迅速增加。 S0=BfkHi. t9pPG {1 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 )KRO=~Y 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 y i@61XI 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 8}\"LXRbo 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 udc9$uO .
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g1J]z<& 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
YgWnPp 7. 指定区域填充因子的仿真 '`o+#\,b^%
5. l&nt' 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 &2\.6rb. 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 nMc-kyl{ 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 h V8A<VT 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 R1q04Zj{2 nj9hRiLn \W@?revK
8. 总结 hcaH 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 orU4{.e hG;u8|uT^i 第1步 ac&tpvij 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 L:^'cl}
G `aI%laj&M 第2步 3S5QqAm 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 W4YC5ZH{l 扩展阅读 OQsH,' 扩展阅读 ,vhR99g{ 开始视频 H+0 * - 光路图介绍 nEn2!)$ 该应用示例相关文件: IaF79}^ - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 QnGJ4F
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