空间光调制器(SLM.0002 v1.1) m2(}$z3e
g fAWN 应用示例简述 mGDc,C=5:
v:74iB$i/C 1. 系统细节 6
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{2s 光源 _I'k&R — 高斯光束 mpwh= 组件 ,Q Ge=Exn — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 4NaT@68p 探测器 u|$HA>F[ — 视觉感知的仿真 CfrO1i F — 电磁场分布 =m (u=|N3 建模/设计 rf+}J_ — 场追迹: E,?IIRg& 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 `:r-&QdU o PEjd 2. 系统说明 gk8v{'0Er s@%>
[=cbzmX[ 3. 模拟 & 设计结果 7W4m&+ dly -mPmP 4. 总结 u"hr4+/
2,I]H'}^ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 0VJHE~Bgi o\it]B 第1步 6A>bm{`c: 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 'cS| BT 17l?li 第2步 ESIJ QM-[+ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 qPDRB.K|} CcV@YST? 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 751Qi
~qL/P 5*+ 应用示例详细内容 -3d`e2^&}
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/#`#. 系统参数 G;/>
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HtE^7i*_ 1. 该应用实例的内容 a ge8I$*`@ zJ1M$U 9$[MM*r 2. 设计&仿真任务 ,:-^O#
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由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 gV:0&g\v IJPyCi) 3. 参数:输入近乎平行的激光束 /s(PFN8#Y 5?(dI9A"K #
E8?2] 4. 参数:SLM像素阵列 q:jv9eL.O
!](Mt?e zh?B-"O=5 5. 参数:SLM像素阵列 qnd] UUA^ l)DcwkIG I~"l9Jc!" 应用示例详细内容 Ym
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Q>w)b]d~c 仿真&结果 p ~+sk1[.
Ft :_6T% 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM dKchQsgCg 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 ~<Wa$~oY 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 #t# S(A9) wc}x
[cS 2. VirtualLab的SLM模块 T
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 <X1[j9Qtv0
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 kY4h-oZ
#=m:>Q?%z 3. SLM的光学功能 ^ 6t"A
Ia^/^> 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 `C6,**`R$k 为此,将区域填充因子设置为60%。 cZWW[i 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 [c=![*}/ yM-%x1r~ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd 5':j=KQE_ q7rX4-G$ 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 >Bm>/%2 `"iPJw14 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd dftX$TS 1o 4. 对比:光栅的光学功能
"JYWsE 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 p1z^i( 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 lrMkp@f. 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 GsqO^SV 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 *9r 32]i; 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 _B}QS"A
~~ty9;KYL
ydzvjp= 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd fjQIuM
L#_QrR6Sny 5. 有间隔SLM的光学功能 w;Pe_m7\EO 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 _xP@kN~ MF::At[4 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd I=K<%. kw1Lm1C 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 z-S8s2.Fd ,#.^2O9-^ v[m1R' 6. 减少计算工作量 23zR0z (L :\1vy5 _
DsiyN:o'+ 采样要求: J \I`# 至少1个点的间隔(每边)。 wmX * n'l 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 JCITIjD7= k0DX|O8mXV 采样要求: fhQ N;7 同样,至少1个点的间隔。 Lb2/ Te* 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 hN1{?PQ 随填充因子的增大,采样迅速增加。 7q^a@5f BG T!5g:;~y > 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 w6k^|." 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 8GT{vW9 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 (Z>vbi% 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 Sj4 @pMh4 W4AFa>h 'p'nAB''!
P-\T BS_O 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
A Rjox` 7. 指定区域填充因子的仿真 54&&=NVs|
[-Mfgw]i 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 &R}2/Mt 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 fAeq(tI= 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 DzvGR)>/ 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 eN
I6V/\` %|?PG i@5 X57\sggK
8. 总结 J,wpY$93 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 If. hA} ]3yaIlpD1 第1步 fTA%HsvU: 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 N6S}u@{J~N +p)kemJ~ 第2步 km!jxs 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 R&s\h"=* 扩展阅读 s$OnQc2/ 扩展阅读 KZTT2KsYl 开始视频 >PiEu->P, - 光路图介绍 ;(9q, ) 该应用示例相关文件: QW}N,j$ - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 cH\.-5NQ
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 t[ ^68]