空间光调制器(SLM.0002 v1.1) k
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BJ,&E 应用示例简述 f#ri'&}c
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$ d?.2Kg 1. 系统细节 O25lLNmO 光源 W0I#\b18 — 高斯光束 [qsEUc+Z.' 组件 5zON}"EC — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 ETs>`#`6o 探测器 p~LrPWHSTP — 视觉感知的仿真 8enEA^ — 电磁场分布 NnVnUgx 建模/设计 s+tGFjq — 场追迹: HR}bbsqxVf 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 hy|b6wF& V|\7')Qq 2. 系统说明 CdL< *AH 1}~(Yj@f% 6'xsG?{JY 3. 模拟 & 设计结果 2wF8 P) uwlr9nB 4. 总结
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dH( ('u[ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 <FZ@Q[RP -*.-9B~u 第1步 4@xE8`+bG 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 HaIM#R32T T0]MuIJ). 第2步 -_$$Te 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Uix6GT; P;4w*((} ~ 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 ?7{H|sI
`p+Zz"/ 应用示例详细内容 .bio7c6
Hc`A3SMR 系统参数 8V~vXnkM
2;w*oop,O 1. 该应用实例的内容 dO%W+K mc4i@<_? /hO1QT}xd 2. 设计&仿真任务 GgKEP,O
0wS+++n$5 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 .9.2Be
W%\C_ 3. 参数:输入近乎平行的激光束 av~5l4YL 5xL~`-IA&v }NB}"%2 4. 参数:SLM像素阵列 f5 `g
K$d$m < n0is\ZK 0 5. 参数:SLM像素阵列 X]y)qV)a[c 13Lr}M& Wl}&?v&@ 应用示例详细内容 mkR2i>
Vx-7\NB 仿真&结果 i&n'N8D@
a0Zv p>Ft 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM |ZQ@fmvL/p 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 U,LTVYrO 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 PdvqDa8 7x<i :x3 2. VirtualLab的SLM模块 P~ &$l2
M8u<qj&<O
?R$&Xe!5
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 fDP$ sW
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 C"{k7yT
z<5m
fAm 3. SLM的光学功能 `He,p -
0#MqD[U( 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 zen*PeIrA^ 为此,将区域填充因子设置为60%。 )(@Hd 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 9HX =T% (IPY^>h 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd h?pkE BGfzslK 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 S<J}[I7V ,\@O(;
mF 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd FKmFo^^0 Q1z;/A$Al 4. 对比:光栅的光学功能 8}(]]ayl 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 %$DI^yS 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 9`9R!=NM 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 !3ctB3eJ 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 -!
K-Htb- 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 [VWUqlNt>
kTvd+TP4
LupkrxV 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd RH|XxH*
R,Vd.-5M 5. 有间隔SLM的光学功能 =ha{Ziryo 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 <Z/x,-^*< _H/8_[xk 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd Tq~=TSD zi3\63D3eO 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 H8On<C= O
&-wxJ]S B9J&=6`) 6. 减少计算工作量 T|6a("RL %?Ev|:i`@
H_QsNf 采样要求: U,.![TP 至少1个点的间隔(每边)。 Q0ON9gqqv 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 X<*U.=r) 9U%N@Dq`Z 采样要求: &EnuE0BD 同样,至少1个点的间隔。 (!zy{;g| 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 |*0<M(YXN 随填充因子的增大,采样迅速增加。 "%x<ttLl icgSe:Ci 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 0/oyf]HR 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 bv*,#Qm 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 5hy""i 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 @Rw!'T ,YMp<C eh5gjSqx
*v3]}g[< 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
s]JF0584 7. 指定区域填充因子的仿真 9uQ 4u/F
\R;`zuv 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 = MOj|NR [ 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 ,9o"43D:a| 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 v7`HQvQEz= 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 >lIk9| }7.PH'.8
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8. 总结 |1>*;\o- 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 GHeVp/u G-.^O,% 第1步 _}En/V_ 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 ksN+?E4w $"H{4x`- 第2步 4zo5}L`Y 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 6<ZkJ:= 扩展阅读 5x>}O3Q_ 扩展阅读 K]9"_UnN 开始视频 n0e1k.A - 光路图介绍 jE/AA!DC# 该应用示例相关文件: 9amaL~m - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 \0f{S40
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 <"r#:Wr