空间光调制器(SLM.0002 v1.1) jw{B8<@s (xVx|:R[<H 应用示例简述 wvxz:~M
3o/f, }_ 1. 系统细节 VNIl%9:-l 光源 Ql l{;A — 高斯光束 F ]Zg 组件 >A6W^J|[ — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 -PGxG 8S 探测器 !6RDq` — 视觉感知的仿真 NCG;`B`i — 电磁场分布 ^B}m~qT 建模/设计 %O" Whe — 场追迹: 4;CI<&S 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 t8h*SHD9 C58o="L3S 2. 系统说明 nXoDI1<[ Zl3e=sg= CM++:Y vJ 3. 模拟 & 设计结果 X9]} UX ryh"/lu[B 4. 总结 9X;*GC;d
N#"l82^H* 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 C~@m6K ,*d8T7T 第1步 L3xN#W;m7 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 EA8plQ~GtE 0zSz[;A 第2步 Dv/7w[F 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 <,n:w[+!`P #G F.M,O/h 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 &?H$-r1/?V
jaKW[@< 应用示例详细内容 Xo~q}(ze^
6Q]c} 系统参数 yF.Gz`yi
]YFjz/f 1. 该应用实例的内容 _0'X!1" 6fo"k+S 'b}RFzEn 2. 设计&仿真任务 2 (l0Lq*
\ f+;X 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 qmFbq<& 0NZ'(qf~9 3. 参数:输入近乎平行的激光束 o ^UOkxs. _",(!( :dULsl$Nz 4. 参数:SLM像素阵列 9S}rTZkEq
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)x&uM! sfn^R+x4,9 5. 参数:SLM像素阵列 tNzO1BK ui#nN .-tR <{
g 应用示例详细内容 FP=-
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xlwf @XW 仿真&结果 ZZo<0kDk
"D_:`@V( 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM PLs`Ci|` 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 SF-"3M 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 Q> y! ez[x8M> 2. VirtualLab的SLM模块 w[gt9]}N
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 wW\@^5
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 54>0Dv??H
} (-9d 3. SLM的光学功能 9]IZ3
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a"U3h[;$y 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 QA0uT{x90 为此,将区域填充因子设置为60%。 7A(4`D J 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 8o%Vn'^t rY^uOrR>j* 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd MT>(d*0s 1[Yl8W%pj 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 vMou`[\WlJ =oL:|$Pj 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd E#(e2Z= Q2m[XcnX 4. 对比:光栅的光学功能 TA*}p=?6?! 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 b=MW;]F 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 ^\O*e)#* 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 >VIFQ\ 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 (b#M4ho*f 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 _yN5sLLyb
W1"NKg~4
.p e3L7g 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd wQy~5+LE
MSM8wYcD 5. 有间隔SLM的光学功能 V9"R8*@- 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 ^z)De+,!4 `
wEX; 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd "0;WYw? #?S"y: 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 lF/
Xs 5O]tkHYR t.;._' 6. 减少计算工作量 M]{~T7n- F6yFKNK!n
7_s+7x = 采样要求: &&C70+_po 至少1个点的间隔(每边)。 Q}B]b-c+E 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 8h=m()Eu hizM}d-"C 采样要求: )GG9[%H! 同样,至少1个点的间隔。 56s%Qlgx 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 RA<ky*^dr 随填充因子的增大,采样迅速增加。 =L#&`s@)_ PV~D; 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 l]zQSXip 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 d38o*+JCf 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 *> nOL 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 bv]SR_Tiq TX$dxHSPK #b428-
\w1XOm [) 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
?eX$Wc{ 7. 指定区域填充因子的仿真 c;q=$MO`
}gXhN" 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 sHBTB6)lx 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 Iv 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 #p*uk 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 o[Qb/ 7 _p: n\9k Q+Q"J U
8. 总结 *\'t$se+ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 Wu{_QuAB B$2GEg]Ri 第1步 .E^w, o 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 ;[
Dxk$" J'ce?_\?PY 第2步 ].J;8} 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 %Jh(5 扩展阅读 M.y!J
扩展阅读 "TaLvworb4 开始视频 l+2NA4s - 光路图介绍 xP>cQEL ot 该应用示例相关文件: %+Nng<_U\T - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 @R`6jS_gK
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 z0+JMZ/