空间光调制器(SLM.0002 v1.1) SAK!z!t S\5bmvqP" 应用示例简述 4.h=&jz&
pr#z=vqH 1. 系统细节 OQT;zqup 光源 J(%0z:exs — 高斯光束 R_68-WO 组件 '0uhD.|G — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 +~roU{& o 探测器 C] 9p5Hs — 视觉感知的仿真 n9A7K$ZD@ — 电磁场分布 kc @[9eV 建模/设计 .k9{Yv0 — 场追迹: ?-^m` 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 h0-hT :GW&O /Yo 2. 系统说明 Y&_&s7z (+u39NQV oiyzHx 3. 模拟 & 设计结果 $Y_i4( 92d6U2T4& 4. 总结 :
G`hm{
'+vA\(K 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 80&.JP. ]Xf% ,iu 第1步 t|<NI+H(e 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 ^#1.l=s [],1lRYI9_ 第2步 *
Y7jl#7 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 9D}/\jM DUe&r,(4O 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 Sh,&{z!
E}_[QEY;Y 应用示例详细内容 .E&z$N
}X_;X_\3;' 系统参数 X*Dj[TD]
lGk{LO) 1. 该应用实例的内容 Cc<,z*T 0}FOV`n kbfC|5S 2. 设计&仿真任务 x^y" <
E55t*^` 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 g'u?Rn7*J U_$qi 3. 参数:输入近乎平行的激光束 bb`':3% B Ma)O N!x =eC 4. 参数:SLM像素阵列 L IVU^Os.
zBp{K@U[|M -}4NT{E 5. 参数:SLM像素阵列 7,MS '2nz c8M2 ^{O,` ]I.n\2R]om 应用示例详细内容 6ubL1K
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5{N< 仿真&结果 ;v~-'*0
:BukUket1e 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM
uV hCxUMQ 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 @a>2c$% 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 jWO/
xX #:|+XLL 2. VirtualLab的SLM模块 <uk1?Qg
y}K\%;`[a
[;.`,/
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 Af5D>/
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 0hn-FH-XE
).HDru-2 3. SLM的光学功能 8dOo Q
`L5~mb;7* 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 f8<o8*`7 为此,将区域填充因子设置为60%。 $RwB_F 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 OR Wm
C! $hVYTy~} 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd cZ+7.oDu Tv]<SI<B[ 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 ";w}3+R HXVBb%pP 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd HygY>s+3[
tPyyZ#, 4. 对比:光栅的光学功能 +wk`;0s A 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 !b-bP,q 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 %_aMl 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 Q_"\Q/=?Do 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 zggB$5 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 B 2.q3T
5q<zN
W~B5>;y 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd Lj%{y.Rj
m:O(+Fl 5. 有间隔SLM的光学功能 FM5e+$>@ 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 F{\gc|!i k)FmDX 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd mN5
8r"!J hsG#6?l3 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 SnTDLa .2\0~x"" |__=d+M' 6. 减少计算工作量 '!Kf#@';u [$(R#tZ+
ftavbNR`W 采样要求: /WnE:3G 至少1个点的间隔(每边)。 w,j cm; 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 Px'!; dd7 =)XT+ 采样要求: f|a DTWF 同样,至少1个点的间隔。 gglQU"=g{ 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 7TX,T|>9 随填充因子的增大,采样迅速增加。 fd8#Ng"1 N\1/JW+ 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 M`,XyIn 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 PI?j_8 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 .Nx
W=79t 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 s3lwu :4f {lz G*4? _NdLcpBT?
9 K 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
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# 7. 指定区域填充因子的仿真 bn 4
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HrqF![_ 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 8h?X!2Nq 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 #DP7SO 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 /k7wwZiY@ 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 WY)^1Gb$ux N^elVu4 K ~j,TVY
8. 总结 ]?9[l76O7 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 LEc8NQs 1}`LTPW9 第1步 bv\ A,+ 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 D?+
RJs U?U(;nSR\A 第2步 _Nu`)m 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 j+748QAhh 扩展阅读 n2;9geq+ 扩展阅读 J35l7HH 开始视频 ~Y/z=^ - 光路图介绍 $M]%vG 该应用示例相关文件: 2Yyb#Ow - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 wt7.oKbW
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