空间光调制器(SLM.0002 v1.1) @F5Af/ tfU*U>j 应用示例简述 '|4+<#
}AS/^E 1. 系统细节 ."+lij=56 光源 ^+76^*0 — 高斯光束 g[G/If 组件 rk8pL[| — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 r""rJzFz' 探测器 F_*']:p — 视觉感知的仿真 [@Ac# — 电磁场分布 nW)+-Wxq 建模/设计 uHI(-!O — 场追迹: G[mqLI{q 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 $/M-@3wro V#oz~GMB 2. 系统说明 c;kU|_ |H
t5a. &DMC\R* j 3. 模拟 & 设计结果 ==[(Mn,%d itzUq,T 4. 总结 (%fQhQ
~Y/A]N86, 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 OV]xo8a; #tR:W?! 第1步 W p)!G 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 ipn-HUrE@ `9r{z;UQ 第2步 WRD
z*Zf 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 t,9+G<)>H
=c@hE'{ 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。
Lw\u{E@
YcA. Bn|as 应用示例详细内容 ^i8,9T'=
G0 EXgq8 系统参数 "\@J0|ppb
y8$3kXh 1. 该应用实例的内容 {P6Bfh7CZ dT0W8oL r^
Dm|^f# 2. 设计&仿真任务 QDn_`c
^# $IoW 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 1x_EAHZ>7 4;L|Ua 3. 参数:输入近乎平行的激光束 !kSemDC
aA4RC0' vNw(hT5750 4. 参数:SLM像素阵列 9Vm
aB
~Fb@E0 }! <Z-Pc?F&(k 5. 参数:SLM像素阵列 /
<(|4e 0G8@UJv6 'f{13-#X@ 应用示例详细内容 IIAp-Y~B
t#.}0Te7 仿真&结果 }p?,J8=-
M1eh4IVE? 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM ) 'xyK 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 ?>+uO0*S 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 >IS4 -dovk?'Gj
2. VirtualLab的SLM模块 LhAN( [
FC+-|1?C
fcdXj_u
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 D N!V".m`J
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 RP2$(%
M<Bo<,!ua 3. SLM的光学功能 "=Z=SJ1D
l0G{{R0Y 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 6H0kY/quL| 为此,将区域填充因子设置为60%。 F2zo
!a8 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 oL~1M=r }$<v 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd M;XU"8 N_
ODr]L 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 yreH/$Ou8 (^~a1@f,J 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd #!_4ZX f=91
Z_M 4. 对比:光栅的光学功能 aO$0[-A 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。
)F hbN@3 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 $zOV*O2 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 pzRVX8 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 d1#lC*.Sg 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 Wg %]
Pm P&Qje7
z@UH[>^gj 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd r2f%E:-0G
"
:e
<a? 5. 有间隔SLM的光学功能 yE
N3/-S+ 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 Fdl0V:< \0lQ1FrY 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd gGNo!'o <>KQ8: 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 J_+2]X7n GF@`~im e lM<S3 6. 减少计算工作量 ?ZTA3mV?+ 4NRj>y
!gyW15z' 采样要求: 6a9:P@tY 至少1个点的间隔(每边)。 `!X8Cn
如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 @ebY_* >G1]#'6; 采样要求: VSO(DCr"L 同样,至少1个点的间隔。 CNV^,`FX 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 ~9YEb 随填充因子的增大,采样迅速增加。 "w 4^i!\ DIYR8l}x 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 OtAAzc!dQ 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 T
g(\7Kq 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 a"}ndrc* 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 ,W'P8C +bso4 }rS j7Zv"Vq@
BQ,749^S 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
~"bBwPI 7. 指定区域填充因子的仿真 Cw!tB1D
uQ
]ZMc 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 Yx66Xy 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 k g(}%Ih 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 ;fQIaE&H 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 K{Nj-Rqd lwG)&qyVd "Qc4v@~)
8. 总结 3:w_49~:~ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 Ii3F|Vb G giIPK& 第1步 ~md06"AYJ 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 f6(1jx" <}xgp[O 第2步 _/ 5 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 ;xFB
/, 扩展阅读 M`iE'x 扩展阅读 {a2Gb 开始视频 ^VnnYtCRz - 光路图介绍 00-2u~D& 该应用示例相关文件: pL*aU=FjQ - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 }YiFiGf,
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 qm9=Ga5