空间光调制器(SLM.0002 v1.1) W;2y.2* vAX %i( 4 应用示例简述 od!TwGX
RE*;nSVFt 1. 系统细节 LFtnSB8 光源 (Ys0|I3 — 高斯光束 [(]uin+9Q 组件 w<>B4m\ — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 y/E%W/3 探测器 (.Sj"6+ — 视觉感知的仿真 I/t2c=f — 电磁场分布 s(-$|f+s 建模/设计 iielAj*b — 场追迹: -GQ`n01 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 lRn>/7sg$ 2wikk]Z 2. 系统说明 G$WMW@fy %-> X$,Q
: FK>8(M/ 3. 模拟 & 设计结果 7N 7W0Ky
5@+4>[tw 4. 总结 p%8y!^g
[WuN?H 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 g\GuH?| Z+JPxe#7 第1步 5Q
=o.wf 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 'jqkDPn wm_xH_{F 第2步 rdSkGb 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 sZA7)Z`7 vT)FLhH6* 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 WQK ~;GV-
g=Rl4F] 应用示例详细内容 AfB,`l`k
LS
<\%A} 系统参数 XC%u`UG
Gu-6~^Km9 1. 该应用实例的内容 "]B:QeMeF! &( aw !UDTNF?1 2. 设计&仿真任务 8k vG<&D
D.su^m_1 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 oP!oU2eqK !E#FzY!}Pl 3. 参数:输入近乎平行的激光束 \2#7B8 ~nDbWv" #-W
a3P 4. 参数:SLM像素阵列 rvouE:
NU"Ld+gw usc"m huQ 5. 参数:SLM像素阵列 P-U9FKrt Cj'XL} ;auT!a~a# 应用示例详细内容 {_C2c{
.Yg7V'R1 仿真&结果
)&Af[mS
\I"n~h^_ 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM @kBy|5 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 -Ph"#R& 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 m?GBvL$ 3e,"B
S)+ 2. VirtualLab的SLM模块 ld
K-<<s
dT?mMTKn+
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 3'2>3Y/7Bb
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 +@G#Z3;l!
M5c$ 3. SLM的光学功能 [+;>u|
djmd
@{Djt 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 E/OfkL*\ 为此,将区域填充因子设置为60%。 W<Ri(g- 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 r?7tI0 _O#R,Y2# 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd uidoz
f2} wjy<{I 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 vb.}SG> f0M5^ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd :yxP3e%rp !KC4[;Y 4. 对比:光栅的光学功能 Y+)qb); 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 T\v~"pMu*0 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 (! a;}V<7 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 F,}7rhY(U^ 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 ~`yO@f;D 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 XmJ ?oPr7
'/2)I8
^i[bo3 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd T|k_$LH
Mh"iyDGA 5. 有间隔SLM的光学功能 P1_6:USBM 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 s.$:.*k }y>/#]X 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd #KUNZW Lrjp 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 a! gj_ ROi_k4Fj &iO53I^r/ 6. 减少计算工作量 7<0oK|~c# AB+HyZ*//
+OaBA>Jh9 采样要求: c8h71Cr 至少1个点的间隔(每边)。 lk4U/: 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 fA)4'7UT TUN6`/" 采样要求: ^6@6BYf) 同样,至少1个点的间隔。 !ZS5}/ZU 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 v8U&{pD, 随填充因子的增大,采样迅速增加。 L_5o7~`0 XyYP!<].C 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 8}aSSL] 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 M~U>"kX 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 4Q(w
D 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 II]-mb Bo4iX,zu Ow0( q^H<
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F+Bt` 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
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7. 指定区域填充因子的仿真 R^6]v`j;
xf3;:soC 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 %Vb~}sT: 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 E?h'OR@_ L 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 awgS5We| 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 a;f A0_ uCjbb | MXRNA~
8. 总结 PNpH)'C| 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ~p { fl? !JQ'~#jKN 第1步 'XI-x[w 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 <z QUa _|>bOI 第2步 4oPr|OKj{* 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 b6^#{))" 扩展阅读 :0% $u>;O: 扩展阅读 DI\^&F)3T2 开始视频 Bgs,6: - 光路图介绍 DfZ)gqp/Av 该应用示例相关文件: k&= iye( - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 E9Hyd #A
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 `L
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