空间光调制器(SLM.0002 v1.1) z]@6fM[ g0&\l}&%U 应用示例简述 ~ ?^/u8
]l;*$2w) 1. 系统细节 )jDJMi_[ 光源 j-b* C2l — 高斯光束 Im?LIgt$ 组件 :dnJY%/q — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 ,wj"! o# 探测器 DuF"*R~et — 视觉感知的仿真 /aqEJGG> — 电磁场分布 JL^2l$up 建模/设计 m%r/O&g — 场追迹: ,6"l (]0 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 D4u%6R|F zT9JBMNE: 2. 系统说明 wkb$^mU jvwwJ<K iK;opA" 3. 模拟 & 设计结果 I'!/[\_ nJFg^s1 4. 总结 h<l1U'Bn7
mUP. rb6 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 T.:+3:8|F @N.jB#nEb 第1步 Acm<-de 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 01@t~v3!Z rf
K8q'@ 第2步 U1R4x!ym4 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 -:Rp'SJ g@ith&*=h 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 +j/~Af p5f
F-gE<< 应用示例详细内容 *_-'/i
rofNZ;nu 系统参数 aX6}6zubr
8|g<X1H{M 1. 该应用实例的内容 1DJekiWf I PCGt{B~ LHYLC>J 2. 设计&仿真任务 c-4STPNQi
,<Kx{+ [h 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 t?eH'*> Xyx"A(v^l 3. 参数:输入近乎平行的激光束 l.=p8-/$'7 N_gD>6I | A)\
: 4. 参数:SLM像素阵列 ^TdZ*($5
e":G*2a D-p.kA3MJ 5. 参数:SLM像素阵列 Ctu?o+^;z 7<\C?`q" (P|pRVO 应用示例详细内容 nHXX\i
+0$/y]k 仿真&结果 FY3IUG
['qnn| 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM J$ut_N):N 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 TLa]O1=Bf. 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 evuZY X@ @mQ:7-,~ 2. VirtualLab的SLM模块 OjE`1h\
_=XX~^I,
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 %
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必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 IVxWxM*N<
.?W5{U 3. SLM的光学功能 )6X.Nfkb^k
olux6RP[B 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 v
$({C 为此,将区域填充因子设置为60%。 9WG{p[ 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 9)dfL?x8V{ {p<Zbm. 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd ?\=/$Gt u{H?4|'( 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 |AZW9 d9^E.8p$ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd Q4]4@96Aj u'~;Y.@i' 4. 对比:光栅的光学功能 2\D8.nQr 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 W&Y"K)` 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 uzr\oj+> 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 ?9+@+q 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 I27,mS+] 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 32)tJ|m
IZ,oM!Y
coE&24,0 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd j{++6<tr
+~zXDBS9 5. 有间隔SLM的光学功能 sN=6 gCau 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 <U Zd;e@ L:nXW z 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd hf6f.Z z,SYw &S 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 <i\A_qqc/ g2cVZ!GIj W~n.Xeu{C 6. 减少计算工作量 6=_~0PcY [IZM.r`Z
~"x5U{K48S 采样要求: I,@r5tKo 至少1个点的间隔(每边)。 4<,|*hAT 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 E$s/]wnr[ KxGX\
采样要求: . RVVWqW 同样,至少1个点的间隔。 SuBeNA[& 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 +xv!$gJEj 随填充因子的增大,采样迅速增加。 w&h2y4 ;Y9=!.Ak0y 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 Pn.bVV: 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 ~`8hwR1&z 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 ,$*IzL~ 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 jR ~DToQ imB# Eo4eY ^?"\?M1
RrrK*Fk8= 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
|H}sYp 7. 指定区域填充因子的仿真 ,Dmc2D
q-$`k 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 Oft arD 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 ,*id'=S 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 #EO1`9f48x 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 <Cpp?DW_ 6SM:x]`##, jF ^5}5U
8. 总结 R@Y=o].2 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 _cH@I?B I`RBj `IF 第1步 3k$[r$+" 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 P\m7 - U'( sn 第2步 _;9! 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 OWjJxORB 扩展阅读 *O$CaAr\s 扩展阅读 0>Z ;Ni 开始视频 8^^[XbH - 光路图介绍 t G.(flW, 该应用示例相关文件: &-yGVx - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 $o?@0
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 []W;t\h