空间光调制器(SLM.0002 v1.1) <rmvcim{* PzR[KUK 应用示例简述 /OJ`c`>Q:
[=_jYzD,j| 1. 系统细节 (3&?w y_l 光源 -S+zmo8 — 高斯光束 -
CWywuD 组件 }#E[vRf — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 GDy9qUV 探测器 \B
7tX — 视觉感知的仿真 Y)a^(!<H< — 电磁场分布 {91nL'-' 建模/设计 (%:c#;# — 场追迹: +&"zU GTIc 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 y#$CMf
-q^ eNu7~3k} 2. 系统说明 |B2+{@R 7`hP?a= ~| 6[j<ziL 3. 模拟 & 设计结果 lUiL\~Gq SC])?h-Fw 4. 总结 <1COZ)
.K<Q& 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 "v4B5:bmqW wsVV$I[2 第1步 mo#04;VF 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 Dl8;$~ E\2%E@0# 第2步 @k/NY*+ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 K:Q<CQ2 b,%C{mC 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 yEj^=pw
AjgF6[B 应用示例详细内容 L`EBfz\n
\K<QmK 系统参数 R n*L
78%~N`x7 1. 该应用实例的内容 yqiq,=OvP *GN#
r11d =+?7''{> 2. 设计&仿真任务 CoAvSw
;?g6QIN9 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 w~?~g<q ?_"ik[w} 3. 参数:输入近乎平行的激光束 bB;5s`- 3J438M.ka h@]XBv 4. 参数:SLM像素阵列 L4|`;WP
Sw^u3 ,tJ"
5O3- 5. 参数:SLM像素阵列
}sO&. ME W#C*5@ 8 Y~E`9 应用示例详细内容 fG w9!
%zw1}|s#z 仿真&结果 ["e3Ez
1!T1Y,w 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM 0f>5(ek 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 )$bS}. 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 f/Bp.YwL 6,9>g0y'NG 2. VirtualLab的SLM模块 T+k{W6
X~,aNRy
h"lv7;B$
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 y(pks$
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 jc f #6
#!KE\OI;@5 3. SLM的光学功能 E5lBdM>2
!*. -`$x 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 r|PB*` 为此,将区域填充因子设置为60%。 -rli(RR)| 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 zY!j:FT1HY Gc; {\VU 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd $.rhRKs
oVfLnI; 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 Q &K )i^<r ;_z 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd }\:NuTf qd)/9*|Jl 4. 对比:光栅的光学功能 dl@%`E48w 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 [>%xd)8.c 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 :'l^kSP_*C 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 *8_wYYH 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 Uu(SR/R} 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 $LFYoovX
g($DdKc|g
<drODjB 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd ;^%4Q"
PFne+T!2F 5. 有间隔SLM的光学功能 (/j/>9iro 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 4 k _vdz 91g2A| 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd &wCg\j_c |O9O )o 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 q$tUH)0 '*w00 7 Vo$(kj 6. 减少计算工作量 OAkZKG| \2"I; d0Qd$ .%A 采样要求: <Fc;_GG 至少1个点的间隔(每边)。 9Ujo/3,Ak 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 fNt`?pWH #32"=MfQn 采样要求: t@N=kV 同样,至少1个点的间隔。 7KL v6]b 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 kZZh"#W: L 随填充因子的增大,采样迅速增加。 E5xzy/ZQ 2Yn <2U/^R 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 p@5`&Em, 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 SB|Qa}62 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 Yc
`)R 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 khrb-IY@ W$OG(m!W> =L:4i\4
fM63+9I)\ 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
G) 7;; 7. 指定区域填充因子的仿真 ()+<)hg}2
vUU9$x 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 Q/_f
zg 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 EzV96+ 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 "C19b:4H 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 \cUNsB5 ?$^2Umt0 9qz6]-K
8. 总结 D+z?wuXk 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 7Kal"Ew \r,Q1n?7
第1步 S=nzw-(I 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 4V==7p
x( sq[iY 第2步 Jjv=u 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 "a1n_>#Fb 扩展阅读 ul2")HL]; 扩展阅读 (?{MEwHG 开始视频 @$c\dvO - 光路图介绍 V<@ o<R 该应用示例相关文件: ^[XYFQ TL - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 mkF"
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 vIwCJN1C