空间光调制器(SLM.0002 v1.1) (/KeGgkhv $
D.*r*c6 应用示例简述 TlD^EJG
aRy" _dZ2 1. 系统细节 1|:'jK#gE 光源 =HjC.h — 高斯光束 %#TAz7 组件 DO6
p v — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 rqz48~\lJ 探测器 ^~^=$fz — 视觉感知的仿真 ~rlPS#]o — 电磁场分布 #=N6[:, 建模/设计 rlY n"3% — 场追迹: kK=f@l 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 @cc}[Uw4B 9Y+7o%6e 2. 系统说明 Qt>Bvu Q Hi nJ}MF -?w3j9kk> 3. 模拟 & 设计结果 NZz^* Ela sKC(xO@L;` 4. 总结 }kSP p
80K"u[ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 kgd
dq 3hcWR'| 第1步 {01^xn. 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 #j'7\SV (t5vBUj 第2步 mYbu1542'n 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 VFq7nV/O /9o6R:B 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 kRV]`'u,
mc4|@p* 应用示例详细内容 IZuP{7p$
q);oO\< 系统参数 +wfZFJ:1l
[9yd29pQ] 1. 该应用实例的内容 :-$TD('F .Hg{$SAC(w `4wy
*!] 2. 设计&仿真任务 `yh][gqVE~
n.Y45(@E 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 h{ZK;(u$ 1n[wk'}qf4 3. 参数:输入近乎平行的激光束 OZ/"W)
'p)DJUwt *;T'=u_lR 4. 参数:SLM像素阵列 >7z(?nQYT^
}\1V%c N'0nt]&a 5. 参数:SLM像素阵列 N{<5)L~Y $."Fz
x <)
-]'@*c 应用示例详细内容 AoY!f'Z
<pM6fI6BD 仿真&结果 /Mj|Px%
jQ8
T 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM tMXNi\Bj 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 TN<"X :x9 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 sGE%zCB Ym6v 4k!@O 2. VirtualLab的SLM模块 %S^:5#9
qDgy7kkQ
qcge#S>
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 [E/. r{S
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 Kd\d>&b
PP]7_h^2 3. SLM的光学功能 )1 QOA
PKd'lo 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 V9cj 为此,将区域填充因子设置为60%。 /N,\ st 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 K5z<n0X ~ wUL 5"\ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd 7>F [7_ A)&CI6( 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 &qM8)2Y J&B5Ll
所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd @z:E]O} QB !% 4. 对比:光栅的光学功能 lq a~ZF* 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 5W=Jn?y2 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 NC iBn>=: 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 <9c{Kt.5( 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 xrI9t?QaCb 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 "U$](k.<VA
$LcMG,8%_
X~/-,oV=A 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd $GHi9aj_P
8"p rWAN 5. 有间隔SLM的光学功能 /SyAjZ 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 / %iS\R%ca '8FHn~F 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd aj=-^iGG 50a';!H 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 s'OK])>` jy_4W!4a b5ul|p 6. 减少计算工作量 BqDsf5}jpA Z?WVSJUVf
M#Q"h5l 采样要求: NiQ Y3Nj 至少1个点的间隔(每边)。 <9T,J"y 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 ?b93! Q1 p#3G=FV 采样要求: )*Wz5x 同样,至少1个点的间隔。 #%L_wJB- 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 DghqSL^s 随填充因子的增大,采样迅速增加。 HrMbp \j &&o 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 fwh/#V-i 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 .~TI% 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 P>^$X 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 y=jZ8+M r;E5e]w*- =k;X}/
(+<66
TO 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
MXjN./ 7. 指定区域填充因子的仿真 C5jt(!pi
e@S\7Ks 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 xMa9o 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 J)|I/8!# 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 hS>=pO+y 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 h
cu\c+ A F+j"bhe [fELf(;(
8. 总结 0-57_";%Q 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 8Qj1%Ri:U 06v'!M 第1步 2=%]Ax"R 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 }mI0D>n 9xE_Awlc85 第2步 madbl0[y. 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 q'IMt7} 扩展阅读 ?FEh9l)d\ 扩展阅读 Cv4nl7A' 开始视频 cIK4sOTJ& - 光路图介绍 "?FBbJ
该应用示例相关文件: _lRIS_^;eE - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 M&sQnPFH
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 2 zG;91^