空间光调制器(SLM.0002 v1.1) huQ1A0(no 1/{:}9Z@ 应用示例简述 <<`."RY#0
'<Vvv^Er 1. 系统细节 -S|L+">=Z 光源 wWm#[f],? — 高斯光束 sVC5<?OW!p 组件 $Z(zO;k. — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 .CYq+^ 探测器 T[7DJNdG6 — 视觉感知的仿真 3!}#@<j
— 电磁场分布 iA < EJ 建模/设计 'Wi*[ — 场追迹: k\%{1oRA 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 -p)HH@6a k9bU< 2. 系统说明 Mdy H/.Te #uH1!UQb T|}HK]QOX 3. 模拟 & 设计结果 tL3(( W" !sLn;1l 4. 总结 <8y8^m`P9
JRNyvG>j 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 b&e?
6h^G p1&d@PF&& 第1步 F>}).qx 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 oZ=e/\[K p"X\]g^jA> 第2步 ?ph"|LyL 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 ^]v}AEcmW Jsw<,uTD 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 EU\1EBT^
IGp-`%9 应用示例详细内容 Zc"]Cv(
0? l 系统参数 xE9s=}
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> 1. 该应用实例的内容 xqG`
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S;(u[W 5]F9o9]T 2. 设计&仿真任务 Cf+O7Y`^
-&HN h\ 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 Pq`4Y
K l"vT@g| 3. 参数:输入近乎平行的激光束 't>Qj7vh0 Onk~1ks:
L72GF5+!! 4. 参数:SLM像素阵列 5=
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+g X a'A0CQ
5. 参数:SLM像素阵列 q2SkkY$_]y P"~B2__* mg3jm 应用示例详细内容 `|v#x@s
}x8fXdd 仿真&结果 hgh1G7A&
Le}q>>o;q 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM x^;nfqn| 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 5jV]{ZV# 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 {vU '>pp *]EcjK% 2. VirtualLab的SLM模块 G/D{K$=t~
E+>;tLw3j
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 )-sEm`(`I9
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 )/=J=xw2
PJ_|=bn 3. SLM的光学功能 j9qN!.~mM
i?R qv<n 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 1"e=Zqn$) 为此,将区域填充因子设置为60%。 g>Z1ZK0;M 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 y}3V3uqK EXzY4D ^ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd LQS*/s0 E6G^?k~q 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 %:/;R_ FJD*A`a 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd j9,X.?Xvx Zaj<*?\ 4. 对比:光栅的光学功能 DnTM#i: 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 PF+`3 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 |[V(u 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 IEA[]eik> 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 B[*i}k%i 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 ,rN7X<s54
[IYs4Y5
k82'gJ;MC= 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd E^qKkl
+I')>6 5. 有间隔SLM的光学功能 4bKZ@r% 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 O=mJ8W@ 7j]@3D9[:p 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd ~:0h o t2E_y6 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 yWs/~5[F x^
Wgo`v) J|>P,x#G 6. 减少计算工作量 +yTL isN"7y|r:X
fGxa~Unx 采样要求: b1^MX).vH 至少1个点的间隔(每边)。 @tP,l$O& 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 'J\%JAR@ abF_i# 采样要求: qv<VKJTi6] 同样,至少1个点的间隔。 ND`~|6yb 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 p&q&Fr- 随填充因子的增大,采样迅速增加。 ;<* VwXJR U@*z#T#"m 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 "44X'G8N 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 c2i^dNp_ 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 xo*a9H?@ 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 rVO+
vhih I7}[%(~Sf/ 5=$D~>-#
4RK^efnp 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
1,/oS&?E 7. 指定区域填充因子的仿真 p'R}z|d)
^o{O5&i] 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 Axcm~!uf 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 4[(P>`Unx 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 B EY}mR] 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 _LS=O@s^ Kg%_e9nj# 68D.Li
8. 总结 )cvC9gt 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 J4JKAv~3 Aw5yvQ>]e 第1步 @Pa ;h 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 =A,i9Z& hxv/285B 第2步 .NPai4V' 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 jKtbGVZ7r 扩展阅读 !]"T`^5,Y 扩展阅读 9iv!+(ni 开始视频 kmuF*0Bjk - 光路图介绍 %II |;< 该应用示例相关文件: tn}9(Oa) - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 K}*s^*X
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