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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 BT d$n!'$n  
    DKIDLf  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 4CX*  
     设计包括两个步骤: J[LGa:``  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 F\-qXSA  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 *i5&x/ds  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 Z`b,0[rG[  
    '-w G  
    An]*J|nFIY  
    照明光束参数 XFK$p^qu  
    \FVR'A1  
    9Od Kh\F (  
    波长:632.8nm RG*Nw6A  
    激光光束直径(1/e2):700um
    cY\-e?`=4  
    ( Y/ DMQ  
    理想输出场参数 CoJaVLl  
    {j:{wW.  
    zKfb  
    直径:1° *WMcE$w/D  
    分辨率:≤0.03° 4 Iy\   
    效率:>70% H7qda' %>  
    杂散光:<20% Mqw&%dz'_  
    LfgR[!  
    Q.\+ XR_|  
    2.设计相位函数 / d6mlQS  
    IHxX:a/iv  
    Pq7YJ"Z?:  
    k(VA5upCs  
     相位的设计请参考会话编辑器 [FyE{NfiJ%  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 [gv2fqpP  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 OkzfQ hC}  
    zKiKda%)  
    3.计算GRIN扩散器 a |z{B b  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 0JNG\ARC  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 &,)9cV /  
     最大层厚度如下: Atfon&^  
    h+Dg"j<[  
    4.计算折射率调制 AFMAgf{bD  
    GueqpEd2  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 ]4z?sk@  
    ?c>j^}A/N  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 .4KXe"~E  
    u1]5qtg"  
    eKStt|M'  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 N{Is2Ia  
    /6 P()Upe  
    U.wgae].O;  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 CH9#<?l  
    jr!x)yd  
    !Rsx)  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 &NGlkn  
    7J>n;8{%?  
    }GGFJ"  
    AE7>jkHB  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 oz[E>%  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 $,h*xb.  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 Ah)7A|0rT  
    {SROg;vA  
    5.X/Y采样介质 i 3?zYaT  
    H%])>  
    z ^a,7}4  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 >Y{.)QS  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 urog.Q  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 tb@/E  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    $f C=v  
    *AxKV5[H  
    4H1s"mP<  
    WVwNjQ2PM  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 y4shW|>5_  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 %C)U F  
     应该选择像素化折射率调制。 Q) FL|   
    &:{| nDT_2  
    TH6g:YP`7  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 X8*q[@$  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 YTYYb#"Q  
    U'lrdc"Q  
    6.通过GRIN介质传播 y l3iU:+V  
    =2`s Uw}  
    uO BpMAJ  
    GbNVcP.ocP  
     通过折射率调制层传播的传播模型: ulVHsWg  
    - 薄元近似 *(r85lEou)  
    - 分步光束传播方法。 B V Pf8!-  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 \8F$85g  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 qtgj"4,:`  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 :.sK:W("v  
    $wX5`d 1  
    7.模拟结果 zHu:Ec7  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    nC`=quM9  
    u2U@Qrs2  
    8.结论 LXw&d]P  
    ][_:{ N/  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 N 8mK^{  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 AY *  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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