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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 (@>X!]{$  
    tUH#%  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 eo4;?z  
     设计包括两个步骤: Op A  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 d\+smED  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 wz<YflF  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 s `U.h^V  
    }mzM'9JH  
    ggIz) </  
    照明光束参数 I MpEp}7  
    |W<wPmW_{+  
    ^W{+?q'  
    波长:632.8nm K FvNsqd  
    激光光束直径(1/e2):700um
    M S)(\&N  
    a 39Kl_\  
    理想输出场参数 UB|f{7~&  
    ppP7jiGo  
    <p;cR` %uE  
    直径:1° `9SuDuw;s  
    分辨率:≤0.03° -L}crQl.'c  
    效率:>70% T1.`*,t)=  
    杂散光:<20% nJ<h}*[  
    LxC*{t/>8  
    |f# ~#Y2v  
    2.设计相位函数 g-q~0  
    QK)"-y}"g  
    <nOK#;O)  
    O'a Srjl  
     相位的设计请参考会话编辑器 6&5p3G{%0  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 BrcT`MM[(=  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 /~Zxx}<;  
    zc%#7"FM  
    3.计算GRIN扩散器 { AdPC?R`  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 ) ,1MR=  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 c4E=qgP  
     最大层厚度如下: j?K]0j;  
    ()i8 Qepo}  
    4.计算折射率调制 OsAH!e  
    YtI 2Vr/9  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 Ke@zS9  
    {B8W>>E  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 u|t<f`ze  
    A6v<+`?  
    $\h\, N$y  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 r PWn  
    {L^b['h@  
    8T6.Zhv  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 Op%}.9ed  
    k\rzvo=U  
    rw/WD(  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 ('BFy>@  
    H.cN(7LXm  
    UT!gAU  
    0 UdAF  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 N'[bA  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 ". #=_/op  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 X;25G  
    mv_N ns  
    5.X/Y采样介质 t4>%<'>e  
    %5.aC|^}  
    }#va#Nb(,  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟。 f6@fi`U ,  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 Qvo(2(  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 szW_cjS  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    Jv(9w[  
    *;b.x"  
    IO3`/R-  
    =8FV&|fP  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 g$+u;ER5  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 t:y} 7un  
     应该选择像素化折射率调制。 ,Yx"3i,  
    $h"Ht2/ J  
    v|r\kr k  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 U,Py+c6  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 {hYH4a&Hb  
    AfAg#75q  
    6.通过GRIN介质传播 pd2Lc $O@  
    -XNjyXm2  
    .PjJ g^^  
    c|?0iN  
     通过折射率调制层传播的传播模型:  "";[U  
    - 薄元近似 Q(Q .(  
    - 分步光束传播方法。 6b& <5,=d:  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 \z'A6@  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 44;ZX$HL  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 N0A PX4j  
    zzmZ`Ya  
    7.模拟结果 'wh2787  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    hF`e>?bN  
    3u]#Ra~5  
    8.结论 bMWL^*I  
    " p]bsJG  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 L%4[,Rsw  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 Fh  t$7V  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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