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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 INOw0E[  
    ?~$0;5)QC  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 ;t{Ew+s  
     设计包括两个步骤: ^6bU4bA  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 Q"n*`#Yt'  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 @tWyc%t  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 OW- [#r  
    X}Bo[YoY$  
    :3M2zV cf  
    照明光束参数 <RS@,  
    m!3b.2/h  
    z 0]K:YV_  
    波长:632.8nm  AC@WhL  
    激光光束直径(1/e2):700um
    3zo]*6p0  
    8Eyi`~cAiH  
    理想输出场参数 U:ggZ`.  
    %Sr/'7 K  
    `[p*qsp_  
    直径:1° zV_U/]y  
    分辨率:≤0.03° T&c0j(  
    效率:>70% {L5!_] 6  
    杂散光:<20% s!esk%h{K  
    ^AkVmsv;;  
    `mXbF  
    2.设计相位函数 `,gGmh  
    -B-?z?+(O  
    REUWK#>  
    ifTMoC%  
     相位的设计请参考会话编辑器 i_Dv+^&zV  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 bwR_ uF  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 eR P mN  
    23 j{bK  
    3.计算GRIN扩散器 7p%W)=v  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 ^-?5=\`5  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 C` ?6`$Y  
     最大层厚度如下: dznHR6x  
    47>IT  
    4.计算折射率调制 L1A0->t  
    ,S 5tkTa  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 H=Rqr  
    ,3l=44*  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 ~SgW+sDF u  
    $zS0]@Dj  
    7?a@i; E<  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 yQ5&S]Xk$$  
    _i{$5JJ+K2  
    /nEt%YYh;x  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 NBHS   
    wQbN5*82  
     lc9aDt  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 0vOt. LC/S  
    5[l9`Cn&A  
    /+2;".  
    u=NpL^6s<  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 RzCC>-  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 fq(r,h=|  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 CBw/a0Uck  
    i(P/=B  
    5.X/Y采样介质 g&9E>wT  
    ~>u]ow=  
    ?w6zq|  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 7|4hs:4mD  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 c@9jc^CJ  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 V ;Kzh$^rk  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    vJ5`:4n"  
    7L~LpB  
    <Wc98m  
    w{uq y]  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 bl@0+NiM  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 /N6sH!w  
     应该选择像素化折射率调制。 ~XAtt\WS  
    Y@x }b{3  
    /MFy%=0l  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 Vj?{T(K1[  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 #?%akQ+w  
    [DrG;k?  
    6.通过GRIN介质传播 "q@OM f  
    o=i)s2   
    3C'`c=  
    G8xM]'y  
     通过折射率调制层传播的传播模型: -L e:%q2  
    - 薄元近似 *:t]|$;E\  
    - 分步光束传播方法。 hnWo.5;$  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 *zoAD|0N  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 wn*<.s  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 B.wihJVDg  
    ;#c|ZnX  
    7.模拟结果 R^zTgyr  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    MQ;c'?!5[!  
    `L<f15][  
    8.结论 L~e\uP  
    xK4b(KJj  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 g-^Cf   
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 A*l(0`aWq  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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