1.模拟任务 g|+G(~=e| N{q'wep 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
P'
J_:\ 设计包括两个步骤:
V) a6H^l - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
71A{" - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
a)TNVm^ 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
2i>xJMW C$(t`G F)%; gzs 照明光束参数
#!hpe^t _c(=> 92VAQU6 波长:632.8nm
? {l2 激光光束直径(1/e2):700um
kfVG@ o?o 8:A<PV!+ 理想输出场参数 vj_oMmjKw NMj`wQ`M+ 6F(yH4 直径:1°
&U,f~KJ 分辨率:≤0.03°
&FZe LIt 效率:>70%
(Dn-vY' 杂散光:<20%
wG|3
iFK tL).f:? siG?Sd_2 2.设计相位函数 NrU-%!Aw _cJ{fYwYU 7<tqT
@c BsRas 相位的设计请参考会话编辑器
%-*vlNC ) Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
XWvs~Xw@ 设计没有离散相位级的phase-only传输。
SP*5 W)6 a-}%R 3.计算GRIN扩散器 >3kR~:; GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
2+P3Sii 最大折射率调制为△n=+0.05。
iwVra"y 最大层厚度如下:
y,r`8 ef.lM]cO 4.计算折射率调制 QP;b\11m 0F3>kp4u 从IFTA优化文档中显示优化的传输
I{AU, 'LOqGpmVc 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
?I0 i%nH !'gz&3B~h ^&<*$Ai~ 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
czb%%:EJs| TZP{=v<
@uE=)mP@ 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
IMR|a*=`c X
or ,}. w I L=v[)en4 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
ZB2'm3'bh NY;UI(<] e-')SB 0>;#vEF*1 数据阵列可用于存储折射率调制。
~ghz%${` 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
ICTtubjV" 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
9j2I6lGQ {UmCn>c 5.X/Y采样介质 =c.q]/M
]dK]a:S aK&+p#4t GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
h.9Lh ;j 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
_]S6> 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
0oJ^a^| 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
Fp6Y Y
X@:fW @
ke#;1 ,SM- Z`' 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
)ra66E 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
(rG1_lUDu 应该选择像素化折射率调制。
j'i42-Lt/p {e%abr_B 3uw7 J5x 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
@NNLzqqY 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
:.Qe=}9 xI:
'Hk1 6.通过GRIN介质传播 \zI&n &T QP[a^5;Tt h3lDDyu V0 F30rK 通过折射率调制层传播的传播模型:
KYu(H[a - 薄元近似
!~N4}!X3du - 分步光束传播方法。
]k:m2$le 对于这个案例,薄元近似足够准确。
W#L"5pRg 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
8-"5|pNc 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
bXH^Bm $uw+^(ut 7.模拟结果 i+[3o@ 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
<gdgcvd V0Z7o\-J 8.结论 gc@#O#K~h^ G\+nWvV7 VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
~J-|,ZMd 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
P"x-7>c>Y
可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。