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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 )CgH|z:=b  
    O{Z${TC[  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 eo.B0NZsF  
     设计包括两个步骤: 9`M7 -{  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 sk AF6n  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 b/ h#{'  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 z<.?8bd  
    g}L>k}I?!W  
    ~qK/w0=j  
    照明光束参数 aK 3'u   
    ;mPX8bT  
    3Vak C  
    波长:632.8nm 0Q)YZ2  
    激光光束直径(1/e2):700um
    c%1{l]   
    )ybF@emc  
    理想输出场参数 :T<5Tq*+x  
    <y&&{*KW8m  
    &y(%d 7@/  
    直径:1° 9Hd_sNUu\  
    分辨率:≤0.03° ?nq%'<^^  
    效率:>70% H8 xhE~'t  
    杂散光:<20% Z[eWey_  
    Xg* ](>/\,  
    jx2{kK  
    2.设计相位函数 cv7:5P  
    I0!]J{  
    gYe6(l7m  
    sRqecG(n  
     相位的设计请参考会话编辑器 vTTXeS-b  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 (NN;1{DB8  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 IDL0!cF  
    n 8 K6m(  
    3.计算GRIN扩散器 DJAKF  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 M>}_2G]#F  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 0=K8 nxdx  
     最大层厚度如下: dC|6z/  
    q'TIN{\.{  
    4.计算折射率调制 6CSoQ|c{  
    |q z%6w=  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 DuIXv7"[  
    Rd|8=`)  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 ZY@ntV?  
    /bPs0>5  
    \ Ce*5h  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 `uH7~ r^  
    9C0#K\  
    +.OdrvN4)  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 $L?KNXHAF!  
    w~ON861  
    m^=El7+  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 '4Fwh]Ee  
    ,>8w|951'  
    n?;rWq"  
    6U.|0mG[  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 QR_h#N2h  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 u05Yy&(f  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 /,UnT(/k(  
     ?r@^9  
    5.X/Y采样介质 =I@I  
    aB?usVoS  
    j<k6z   
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟。 D W^Zuu/)  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 S(?A3 H  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 -a&<Un/  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    ZfK[o{9>  
    A.dbb'^  
    j@ D,2B;  
    /zoy,t-i  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 /-G_0 A2wF  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 aWJj@',_  
     应该选择像素化折射率调制。 V)N{Fr)&  
    U+@U/s%8  
    y&-QLX L  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 "WUS?Q  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 zsJermF,O  
    _B&Lyg !J  
    6.通过GRIN介质传播 ]JV'z<  
    nSC2wTH!1  
    @NqwJ.%g  
    xLDD;Qm,  
     通过折射率调制层传播的传播模型: Y)+q[MZ R  
    - 薄元近似 ?Rx(@  
    - 分步光束传播方法。 upL3M`  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 'A3skznX{  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 VqpC@C$  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 v{fcQb  
    . R/y`:1:W  
    7.模拟结果 -!:5jfT"  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    RZ xwr  
    5<R m{  
    8.结论 s&(;  
    6CIzT.  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 ,<r&] eC  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 ;'= cNj  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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