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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 /kqa|=-`q  
    j HEt   
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 D0X!j,Kc  
     设计包括两个步骤: 6&"GTK  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 I(qFIV+H R  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 N@I=X-7nh|  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 V17!~  
    ]9}^}U1."  
    $OaxetPH  
    照明光束参数 $AdBX}{  
    H ;)B5C  
    ]}9[ys  
    波长:632.8nm O&@CT])8  
    激光光束直径(1/e2):700um
    m(^nG_eX  
    AK&=/[U>  
    理想输出场参数 UYhxgPGsj  
    FlT5R*m  
    )< p ~  
    直径:1° C/q!!  
    分辨率:≤0.03° tcJN`N  
    效率:>70% m-<m[49  
    杂散光:<20% pzeCdHF  
    ULzrJbP'7  
    A(+%DZ  
    2.设计相位函数 vywpX^KPv  
    cT nC  
    ,hE989x<iI  
    "-Wb[*U;  
     相位的设计请参考会话编辑器 C40o_1g  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 pz]! T'  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 x !n8Wx  
    A5Lzd  
    3.计算GRIN扩散器 YRU95K [  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 aAgQ^LY  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 _P*QX  
     最大层厚度如下: yV*4|EkvW  
    KY\=D 2m  
    4.计算折射率调制 tN z(s)  
    Y;k iU  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 $4BvDZDk`B  
    ]D,\(|  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 LX#gc.c  
    }ldpudU  
    o_03Io ~Bf  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 }l Gui>/D  
    /dHIm`. Z  
    )T^xDx  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 -\2hSIXj  
    ?/8V%PL~$  
    J|`.d46  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 Z}.ZTEB  
    #\\|:`YV  
    DKF '*  
    %^[D+1ULb  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 HEw&'  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 !@ {sM6U  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 X!m lC51  
    L+}<gQJ(  
    5.X/Y采样介质 Zn[ppsz|  
    >T-4!ZvS\j  
    nkf7Fq}  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 ',/2J0_  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 cZ#%tT#  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 W6B"QbHYz  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    nu(7Y YCM$  
    rR 86D  
    _<=h#lH  
    I5 qrHBJ >  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 Y=5P=wE  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 ,e$6%R  
     应该选择像素化折射率调制。 Xt +9z  
    (e0(GOqf4  
    6[S IDOp*^  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 opMnLor  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。  :>U+HQll  
    dFy GI?  
    6.通过GRIN介质传播 p}<60O"r$  
    4u+0 )<  
    :Qh rh(i  
    X0REC%  
     通过折射率调制层传播的传播模型: XK})?LTD  
    - 薄元近似 B{*{9!(l9  
    - 分步光束传播方法。 *"OUwEl a  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 n2EPx(~  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 !-%XrU8o3  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 e['<.Yf+  
    jFUpf.v2  
    7.模拟结果 h9/fD5  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    w ?*eBLJ(G  
    w)`XM  
    8.结论 9bspf {  
    : ]+6l  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 RB|i<`Z  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 9\c]I0)3p  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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