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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 10-30
    1.模拟任务 Q]g4gj  
    A%w]~ chC9  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 ]3y5b9DuW  
     设计包括两个步骤: V?J,ab$X#  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 rn5g+%jX*  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 ~$ qJw?r  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 N[bf.5T  
    -r'seb5  
    KJJb^6P48W  
    照明光束参数 XM@i|AK M0  
    2GKU9cV*`  
    #bZ=R  
    波长:632.8nm 4Hpu EV8Q  
    激光光束直径(1/e2):700um
    95 .'t}  
    pfQZ|*>lkb  
    理想输出场参数 U+r#Y E.  
    sPTUGx'  
    K2MNaB   
    直径:1° ,p`b Wm  
    分辨率:≤0.03° SF7b1jr  
    效率:>70% zUtf&Ih  
    杂散光:<20% Yg,lJ!q  
    ow$l!8  
    9}0Jc(B/x  
    2.设计相位函数 M-K@n$k   
    5a|m}2IX  
    !=:MG#p  
    $,zM99  
     相位的设计请参考会话编辑器 *`pBQZn05O  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 14YV#o:  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 3v>,c>b([  
    [%,=0P}  
    3.计算GRIN扩散器 & O\!!1%  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 `"mK\M  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 }J'w z;t1  
     最大层厚度如下: 4x?u5L 9o  
    UkbQ'P+oS  
    4.计算折射率调制 H1qw1[%0y  
    `[:1!I.}-  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 "_@+/Iy.  
    5qfKV&D  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 E/P53CD  
    :9q^  
    [#6Esy8|  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 xWb?i6)z&  
    UZ3Aq12U}a  
    RW[<e   
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 78~V/L;@S2  
    pz}hh^]t  
    f> [;|r@K  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 J3S+| x h~  
    &:f'{>3z  
    ! e,(Zz5  
    =V]i?31[  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 l"y9XO|  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 pYUkd!K"  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 3Il/3\  
    sZBO_](S  
    5.X/Y采样介质 HwMsP$`q  
    IMrOPwjc  
    2MzFSmhc"  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 ?'m5)Z{  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 vUx$[/<  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 /M `y LI  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    ~0GX~{;r  
    ,,wx197XeD  
    v$/i5kcWx  
    'z!#E!i  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 zR_l ^NK  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 qA/ 3uA!z  
     应该选择像素化折射率调制。 r74w[6(  
    z( [$,e\  
    &n kGdHX/a  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 &-Er n/[  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 u`,R0=<4  
    "dOY_@kg  
    6.通过GRIN介质传播 zb,`K*Z{  
    !O_^Rn+<2  
    ~M1%,]  
    Yx c >+mx  
     通过折射率调制层传播的传播模型: y+R$pzX  
    - 薄元近似 [N+ruc?)  
    - 分步光束传播方法。 vJ}  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 iGNKf|8{  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 vGp@YABM  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 58U[r)/  
    8k'em/M~  
    7.模拟结果 }kefrT  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    98nLj9  
    Q 5TyS8  
    8.结论 Mn;CG'FA  
    _Fy:3,(  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 9 NSYrIQ"  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 }gaKO 5  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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