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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务  ggfCfn  
    W!=ur,F+  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 mOyNl -f  
     设计包括两个步骤: *`Ge8?qC  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 q8R,#\T*  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 #W_-S0>&  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 q"f7$  
    jsKKg^ g  
    l6MBnvi   
    照明光束参数 C&EA@U5X^  
    n#4T o;CS  
    ye}86{l  
    波长:632.8nm 4Y G\<Zf  
    激光光束直径(1/e2):700um
     7(o:J  
    *N6sxFs  
    理想输出场参数 (Bpn9}F-V.  
    DwTVoCC  
    Gsm.a  
    直径:1° -y$<fu9 e  
    分辨率:≤0.03° 4T){z^"  
    效率:>70% +lf`Dd3  
    杂散光:<20% {9Q**U`w  
    j~9![s!  
    HA&hu /mw_  
    2.设计相位函数 jG#e% `'  
    ,WoV)L'?  
    H>-{.E1bG  
    E429<LQI/  
     相位的设计请参考会话编辑器 qR%as0;  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 7Fzr\&  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 mMCd   
    {t]8#[lo  
    3.计算GRIN扩散器 ?+{_x^  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 dtV7YPz4+  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 _vAc/_ N  
     最大层厚度如下: A9GSeW<  
    '@^mesMG  
    4.计算折射率调制 j5~~%  
    4#B 56f8  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 D|vck1C5,  
    e%=SgXl2t  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 LGYg@DR  
    G//hZwf0  
    \@{TF((Y  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 _+Pz~_+kS  
    hw B9N  
    1V,DcolRY  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 Nr*o RYY  
    9!dG Xq  
    rWN%j)#+  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 h5v=h>c  
    m,rkKhXP  
    E$v!Z;A  
    d-H03F@N  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 dvAz}3p0]  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 5'|W(yR}  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 8rLhOA  
    u!FF{~5cs  
    5.X/Y采样介质 JI&.d:  
    8/"C0I (G  
    DX/oHkLD'  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 :=:m4UJb  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 wEU=R>j.  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 c? Mbyay  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    7GJcg7s*T  
    @oD2_D2  
    :8A@4vMS)?  
    sy(.p^Z  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 E!=Iz5  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 Wo5%@C#M  
     应该选择像素化折射率调制。 \9R=fA18  
    onIZ&wrk  
    1c*;Lr.K  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 4)p ID`  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 R}D[ z7  
    BxaGBK<k  
    6.通过GRIN介质传播 /^WOrMR  
    oE,TA2  
    tF.N  
    _Ec"[xW  
     通过折射率调制层传播的传播模型: nZEew .T:6  
    - 薄元近似 @qB>qD~WsD  
    - 分步光束传播方法。 blkPsp)m"  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 +DE;aGQ.z?  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 $dsLU5]1o  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 00yWk_w  
    Qve5qJ  
    7.模拟结果 ~G.MaSm  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    (g1Op~EM  
    `w)yR>lqh  
    8.结论 *Xh#W7,<  
    :G &:v  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 S.pXo'}  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 `r0lu_.$]4  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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