1.模拟任务 @r=O~x !M\8k$#"n 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
pFhznH{0 设计包括两个步骤:
g\GuH?| - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
Z+JPxe#7 - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
_>0I9.[5 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
=56O-l7T*w ?$%#y u#. x+47CDDu3 照明光束参数 '8PZmS8X9 ~Cm_=[ U%_BgLwy% 波长:632.8nm
F{ v >
激光光束直径(1/e2):700um
ZDMS:w.'T d=yuuS/ 理想输出场参数 yO.q{|kX *7FtEk/l CN+[|Mz*p 直径:1°
M:rE^El 分辨率:≤0.03°
%xPJJ$P 效率:>70%
M*$#j| 杂散光:<20%
V\vt!wBcB &C6Z-bS" nF`_3U8e 2.设计相位函数 ,Y ./9F E.45s? r c>mTd{Abi M8(N9)N 相位的设计请参考会话编辑器
}fU"s" Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
9bwG3jn4? 设计没有离散相位级的phase-only传输。
)G
a5c EIug)S~ 3.计算GRIN扩散器 ,%6!8vX GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
_<}oBh 最大折射率调制为△n=+0.05。
N3"O#C 最大层厚度如下:
]O]6O%.ao Nz1u:D] 4.计算折射率调制 >{R+j4% rrz^LD 从IFTA优化文档中显示优化的传输
N.(wR 'A2^K5`3 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
yzWVUqtXm QN)EPS:y B:oE&Ahh{ 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
Cs9o_Z~ <aSjK#
\3q Z0 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
= Zi'L48 XN|[8+#U<@ =/kwUjC? 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
l_$le 0Sx$6:-~ JIL(\d .:r
l<. 数据阵列可用于存储折射率调制。
zPm|$d 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
wjy<{I 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
vb.}SG> gUGMoXSTI| 5.X/Y采样介质 ,)?!p_*@:
yd|ao\'= <~z@GMQCf GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
*jC Hv 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
N||a0&& 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
jEMnre3/ 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
JIatRc?g me@k~!e"z BK]5g[
aO&!Y\=@ 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
aE(DNeG-H 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
=j^>sg] 应该选择像素化折射率调制。
PjE%_M< =C#22xqQ. 3;?DKRIcX 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
weH;,e*r 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
k5g vo UX24*0`\~ 6.通过GRIN介质传播 4OOI$J$Jh zD@RW<M
y?'Z' 0d/
f4 通过折射率调制层传播的传播模型:
AGhr(\j - 薄元近似
JuDadIrd{ - 分步光束传播方法。
M#}k@
;L3 对于这个案例,薄元近似足够准确。
h^v+d*R
N 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
yYH>~, 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
vyBx|TR m^$KDrkD 7.模拟结果 \=c@ 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
woUt*G@ ZFC&&[%-sG 8.结论 ]|QA`5=$ &SMM<^P. VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
RPw1i* 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
II]-mb 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。