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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 ?0X.Ith^.  
    g(^l>niF:  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 =G :H)i  
     设计包括两个步骤: 'cv/"26#  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 YoA$Gw2  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 -M}iDBJx>#  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 mLO6`]p{H  
    I(SE)%!%S  
    oxZ(qfjS  
    照明光束参数 @ Ia ~9yOY  
    th{h)( +H  
    t~Ax#H  
    波长:632.8nm Z"u/8  
    激光光束直径(1/e2):700um
    so*7LM?ib>  
    B=7L+6  
    理想输出场参数 c-F&4V  
    \kx9V|A'  
    F(9T;F  
    直径:1° +]X^bB[  
    分辨率:≤0.03° _=b[b]Ec$s  
    效率:>70% ' BpRiN  
    杂散光:<20% P%c<0y"O:>  
    ~JJv 2  
    B4C`3@a  
    2.设计相位函数 42M3c&@P  
    ;_!;D#:  
    'Tn$lh  
    Y]PZ| G)  
     相位的设计请参考会话编辑器 }PVB+i M  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 6*E 7}  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 (DU{o\=  
    ofJ@\xS  
    3.计算GRIN扩散器 J{Jxb1:c  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 WG,{:|!E  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 %/7`G-a.B  
     最大层厚度如下: j,Y=GjfGM  
    9ccEF6o0=  
    4.计算折射率调制 SFHa(JOS  
    btOC\bUMfD  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 ?^5x d1>E  
    j<[<qU:  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 <}evOw2  
    BmZd,}{  
    d;z`xy(C  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 @m6E*2Gg  
    :\ S3[(FV  
    |b@-1  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 y(HR1v Q;Z  
    C..O_Zn{g  
    li'#< "R?'  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 F[lHG,g-  
    +ad 2  
    I<$lpU_H  
    p8Pvctc  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 rei<{woX  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 /2c?+04+  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 KF.?b]  
    2axH8ONMu  
    5.X/Y采样介质 3Cpix,Dc  
    (g 8K?Q  
    9%x[z%06  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 fQ<V_loP.@  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 {d) +a$qj  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 x ` $4  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    *@yYqI<1a  
    M/BBNT  
    9s}--_k?F2  
    DpA)Z ??  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 ^OUkFH;dG?  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 |XQ!xFB  
     应该选择像素化折射率调制。 TO QvZ?_  
    aw(P@9]  
    ^ H'|iju  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 GDk/85cv0$  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 lGxG$0`;;  
    s3q65%D  
    6.通过GRIN介质传播 VBOq~>V6(v  
    L%!jj7,9-  
    qh=lF_%uj  
    ZI1[jM{4^F  
     通过折射率调制层传播的传播模型: D.RHvo~6  
    - 薄元近似 JMoWA0f  
    - 分步光束传播方法。 =!7yX ;|  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 Zcc6E2  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 `74A'(u_  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 K2&pTA~OR  
    }lhJt|qc  
    7.模拟结果 *F=w MWa  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    t&ngOF  
    $L?stgU  
    8.结论 &0M^UvO  
    @L`t/OD  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 m~# O ~)  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 ) ~X\W\  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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