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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 Q1T@oxV  
    7xT[<?,  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 n|C|&  
     设计包括两个步骤: a:}E& ,&M  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 j 3P$@<  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 9^\hmpP@D  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 ,C:o`fQ\  
    ]EN&SWh  
    O] ZC+]}/  
    照明光束参数 Ue!Q."  
    $"fzBM?5  
    FW Y[=S  
    波长:632.8nm 8t[t{"  
    激光光束直径(1/e2):700um
    Noz&noq  
    L[]BzsIv  
    理想输出场参数 |^ iA6)Q  
    _l T0H u  
    O^NP0E  
    直径:1° )E-E0Hl>7  
    分辨率:≤0.03° ;($1Z7j+  
    效率:>70% I4~^TrznRa  
    杂散光:<20% (}"S) #C  
    4swKjN &  
    W>$BF[x!{  
    2.设计相位函数 sOQcx\dK  
    RH~sbnZ)F  
    [%~^kq=|  
    <4f,G]UH_  
     相位的设计请参考会话编辑器 h>W@U9  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 2-s7cXs  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 TvM24Orct  
    4E'|.tt(  
    3.计算GRIN扩散器 ,LZ(^ u  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 0x71%=4H^x  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 ev"M;"y  
     最大层厚度如下: blp=Hk  
    J7n5Ps\M  
    4.计算折射率调制 Pi){h~B>  
    ?K<Z kYw?  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 BSDk9Oc  
    zX~}]?|9  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 [Xh\m DU.  
    qHJ'1~?q  
    V{GXc:=  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 [-58Ezyr  
    HlRAD|]\  
    ; 8E;  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 : I)Gv  
    ZqP7@fO_%  
    <m1sSghg  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 w+Vk3c5uI)  
    "Z~`e]>  
    a2X h>{  
    Mr.JLW  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 {XHk6w *-  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 GA ik;R  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 pyF5S,c  
    _>i|s|aW  
    5.X/Y采样介质 &-4 ?!  
    8Z!*[c>K-?  
     0Ve%.k  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 df ?eL2v  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 C fSl 54  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 -5xCQJ[  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    <A{y($  
    "& Mou  
    6Hn)pD#U  
    B-dlm8gX  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 Yw[{beo  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 ^9'$Oa,*  
     应该选择像素化折射率调制。 >-zkB)5<,#  
    xKb"p4k9d  
    gY%&IHQ'  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 4Cd#sQ  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 |!xpYT:  
    8T7f[?  
    6.通过GRIN介质传播 oXbI5XY)wb  
    RJ*F>2  
    ^Xa*lR 3  
    OM{Dq|  
     通过折射率调制层传播的传播模型: O4N-_Kfp/  
    - 薄元近似 0 {,h.:  
    - 分步光束传播方法。 ~?-qZ<9/  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 Pxk0(oBX  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 x5PPu/  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 %wtXo BJ  
    #]X2^ND4 7  
    7.模拟结果 wI>h%y-%!  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    Q)T+r~#2B  
    >|(%2Zl  
    8.结论 zv@bI~3~  
    F"v:}Vy|   
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 y<v|X2  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 fa yKM  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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