1.模拟任务 )CgH|z:=b O{Z${TC[ 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
eo.B0NZsF 设计包括两个步骤:
9`M7 -{ - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
sk
AF6n - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
b/
h#{' 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
z<.?8bd g}L>k}I?!W ~qK/w0=j 照明光束参数 aK
3'u ;mPX8bT 3Vak
C 波长:632.8nm
0Q)YZ2 激光光束直径(1/e2):700um
c%1{l] )ybF@emc 理想输出场参数 :T<5Tq*+x <y&&{*KW8m &y(%d 7@/ 直径:1°
9Hd_sNUu\ 分辨率:≤0.03°
? nq%'<^^ 效率:>70%
H8 xhE~'t 杂散光:<20%
Z[eWey_ Xg*](>/\, jx2{kK 2.设计相位函数 cv7:5P I0!]J{ gYe6(l7m sRqecG(n 相位的设计请参考会话编辑器
vTTXeS-b Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
(NN;1{DB8 设计没有离散相位级的phase-only传输。
IDL0!cF n 8
K6m( 3.计算GRIN扩散器 DJAKF GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
M>}_2G]#F 最大折射率调制为△n=+0.05。
0=K8 nxdx 最大层厚度如下:
dC|6z/ q'TIN{\.{ 4.计算折射率调制 6CSoQ|c{ |qz%6w= 从IFTA优化文档中显示优化的传输
DuIXv7"[ Rd|8=`) 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
ZY@ntV? /bPs0>5 \ Ce*5h 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
`uH7~ r^ 9C0#K\
+.OdrvN4) 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
$L?KNXHAF! w~ON861 m^=El7+ 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
'4Fwh]Ee ,>8w|951' n?;rWq" 6U.|0mG[ 数据阵列可用于存储折射率调制。
QR _h#N2h 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
u05Yy&(f 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
/,UnT(/k(
?r@^9 5.X/Y采样介质 =I@I
aB?usVoS j<k6z GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
D W^Zuu/) 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
S(?A3 H 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
-a &<Un/ 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
ZfK[o{9> A.dbb'^ j@D,2B; /zoy,t-i 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
/-G_0A2wF 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
aWJj@',_ 应该选择像素化折射率调制。
V)N{Fr)& U+@U/s%8 y&-QLX L 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
"WUS?Q 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
zsJermF,O _B&Lyg!J 6.通过GRIN介质传播 ]JV'z< nSC2wTH!1 @NqwJ.%g xLDD;Qm, 通过折射率调制层传播的传播模型:
Y)+q[MZ R - 薄元近似
?Rx(@ - 分步光束传播方法。
upL3M` 对于这个案例,薄元近似足够准确。
'A3skznX{ 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
VqpC@C$ 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
v{fcQb . R/y`:1:W 7.模拟结果 -!:5jfT" 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
RZ xwr 5<R m{ 8.结论 s&(; 6CIzT. VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
,<r&]
eC 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
;'= cNj 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。