1.模拟任务 H3\4&q Wi7!J[ B 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
VBnD:w"z 设计包括两个步骤:
p}H:t24Cr5 - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
WzG]9$v & - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
a,mG5bQ! 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
;e
Iqxe> Q+@/.qJ hWc`4xdl 照明光束参数 .)=T1^[hI NZT2ni4 >=Bl/0YH 波长:632.8nm
[bM$n
m 激光光束直径(1/e2):700um
eb1WTK@ X!H[/b:1O 理想输出场参数 Q1f)uwh %G6Q+LMwm s/Ne,v 直径:1°
TwPpZ@ 分辨率:≤0.03°
7`eg;s^ 效率:>70%
,~8&0p 杂散光:<20%
6sceymq W5i{W' ~dc
o 2.设计相位函数 pQ~Y7 +vf~s^ 7x>\/l( Q9T/@FX 相位的设计请参考会话编辑器
U$,-F** Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
&<nj~BL 设计没有离散相位级的phase-only传输。
PmjN!/ ycD.X" 3.计算GRIN扩散器 ^*?mb) GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
lZ,w#sqbY 最大折射率调制为△n=+0.05。
<Wrn/%tL 最大层厚度如下:
=Jyi9VN=& IKo,P$
PE 4.计算折射率调制 ]?p 9)d=%< uuaoBf 从IFTA优化文档中显示优化的传输
,I|3.4z ]mzghH:E 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
6(pa2 t[e`wj+qz m!Y4+KTwD` 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
C>NLZMT x*'2%3C~
Mi^/`1 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
wXR7Ifrv uKA-<nM._c
M4H~]Ftn 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
S =5br 7&`Yl[G E\5Cf2Ox _^ZBSx09) 数据阵列可用于存储折射率调制。
,gO(zI-1 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
TI5<'
U) 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
F[q)ME+`) YMG~k3Yb 5.X/Y采样介质 e6`g[Ap
MSqW {
E!EENg GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
S^Mx=KJG 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
f]4j7K!e] 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
V=d~}PJ> 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
`RlMfd aG&t gD{ rtxG-a56Q 'w"hG$". 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
@1vpkB~ w 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
4k_y;$4WN 应该选择像素化折射率调制。
he!Uq%e ooA%/ P.
Kfoos 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
yedEI[_4 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
A.+Qa WSxE/C|[ 6.通过GRIN介质传播 dy.U; _aP2gH 45 B
|U eWGaGRem 通过折射率调制层传播的传播模型:
3D-VePM=` - 薄元近似
XXg~eu? - 分步光束传播方法。
fB=j51Lw 对于这个案例,薄元近似足够准确。
M@]@1Q.p 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
bLsN?_jy 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
cGM?r}zJ ">FuCvQ 7.模拟结果 nN%Zed2O@6 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
/?%1;s:' exxH0^ 8.结论 =))VxuoN je;|zfe] VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
G'T:l("l 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
Z,I0<ecaD 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。