1.模拟任务 ggfCfn W!=ur,F+ 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
mOyNl
-f 设计包括两个步骤:
*`Ge8?qC - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
q8R,#\T* - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
#W_-S0>& 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
q"f7$ jsKKg^g l6MBnvi 照明光束参数 C&EA@U5X^ n#4T o;CS ye}86{l 波长:632.8nm
4Y
G\<Zf 激光光束直径(1/e2):700um
7(o:J *N6sxFs 理想输出场参数 (Bpn9}F-V. DwTVoCC Gsm.a 直径:1°
-y$<fu9
e 分辨率:≤0.03°
4T){z^"
效率:>70%
+lf`Dd3 杂散光:<20%
{9Q**U`w j~9![s! HA&hu/mw_ 2.设计相位函数 jG#e%`' ,WoV)L'? H>-{.E1bG E 429<LQI/ 相位的设计请参考会话编辑器
qR%as0; Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
7Fzr\& 设计没有离散相位级的phase-only传输。
mMCd {t]8#[lo 3.计算GRIN扩散器 ?+{_x^ GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
dtV7YPz4+ 最大折射率调制为△n=+0.05。
_ vAc/_N 最大层厚度如下:
A9GSeW< '@^mesMG 4.计算折射率调制 j5~~% 4#B56f8 从IFTA优化文档中显示优化的传输
D|vck1C5, e%=SgXl2t 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
LGYg@DR G//hZwf0 \@{TF((Y 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
_+Pz~_+kS hw B9N
1V,DcolRY 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
Nr*o
RYY 9!dG Xq rWN%j)#+ 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
h5v=h>c m,rkKhXP E$v!Z; A d-H03F@N 数据阵列可用于存储折射率调制。
dvAz}3p0] 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
5'|W(yR} 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
8rLhOA u!FF{~5cs 5.X/Y采样介质 JI&.d:
8/"C0I (G DX/oHkLD' GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
:=:m4UJb 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
wEU=R>j. 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
c?Mbyay 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
7GJcg7s*T @oD2_D2 :8A@4vMS)? sy(.p^Z 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
E!=Iz5 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
Wo5%@C#M 应该选择像素化折射率调制。
\9R=fA1 8 onIZ&wrk 1c*;Lr.K 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
4)p ID` 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
R}D[ z7 BxaGBK<k 6.通过GRIN介质传播 /^WOrMR oE,TA2 tF.N _Ec"[xW 通过折射率调制层传播的传播模型:
nZEew.T:6 - 薄元近似
@qB>qD~WsD - 分步光束传播方法。
blkPsp)m" 对于这个案例,薄元近似足够准确。
+DE;aGQ.z? 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
$dsLU5]1o 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
00yWk_w Qve5qJ 7.模拟结果 ~G.MaSm 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
(g1Op~EM `w)yR>lqh 8.结论 *Xh#W7,< :G&:v VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
S.pXo'} 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
`r0lu_.$]4 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。