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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 KbA?7^zo`  
    %H]ptH5  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 YoBDvV":@  
     设计包括两个步骤: e&&53?  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 Bu#VMk chJ  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 YS/Yd[ e  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 ]&lY%"U$i  
    &m-PC(W+  
    RO 4Z?tz  
    照明光束参数 CxwoBuG=?  
    Mygf T[_  
    [YlKR'_  
    波长:632.8nm :bwjJ}F  
    激光光束直径(1/e2):700um
    wl#@lOv-P  
    \hDlTp }  
    理想输出场参数 M l Jo`d  
    '>-gi}z7  
    -zOdU}91Ao  
    直径:1° )u[emv$  
    分辨率:≤0.03° /5(Yy}  
    效率:>70% TQpfQ  
    杂散光:<20% p@xf^[50k  
    RtTJ5@V(  
    haK3?A,"_A  
    2.设计相位函数 `6~Aoe  
    Yc_8r+;(  
    =;Rtdy/Yn%  
    +ElfZ4  
     相位的设计请参考会话编辑器 J8uLJ  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 ,|y:" s  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 &Sw%<N*r  
    +6HVhoxU#  
    3.计算GRIN扩散器 ^o3"#r{:+  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 a{^m-fSaR"  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 Z}mLLf E  
     最大层厚度如下: 3x{ t(  
    + jc!5i .  
    4.计算折射率调制 \2N!:%k  
    e!N:,`R 5  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 JTO~9>$ B  
    _aGOb;h  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 l?Udn0F  
    uki#/GzaO  
    }vxw*8d?  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 :W!7mna  
    I`-8Air5f  
    x+ Ttl4  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 Q sZx) bO  
    xST8|H  
    6& e3Nt  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 <"{qk2LS1  
    j9eTCJqB  
    }zkHJxZgE  
    Tl(^  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 7Ri46Tkt  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 '&x#rjo#  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 sqEI4~514  
    R;s?$;I  
    5.X/Y采样介质 h`KFL/fT  
    @mOH"acGn?  
    G_;)a]v8)  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 ^o^H3m  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 2D75:@JL}|  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 B~]k#Ot)  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    Y2a5bc P  
    e@Fo^#ImDx  
    w~(1%p/  
    Wvbf"hq  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 *w^C"^*  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 S^-DK~Xt4  
     应该选择像素化折射率调制。 x2OaPlG,&V  
    Aw}"gpL  
    [B+yyBtx  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 5b*M*e&=C  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 ~HTmO;HNf"  
    'n{Nvt.c  
    6.通过GRIN介质传播 pWy=W&0~qf  
    XC4X-j3  
    {IxA)v-`  
    +]*zlE\N`  
     通过折射率调制层传播的传播模型: .<jr0,i  
    - 薄元近似 OVm\  
    - 分步光束传播方法。 $;1#To  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 pf1BN@ t  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 &~8oQC-eF  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 *,e:]!*  
    kE:nsXI )  
    7.模拟结果 DK$X2B"cV  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    &M46&^Jho  
    M9!HQ   
    8.结论 m_.>C  
    G9Y#kBr  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 4lr(,nPRD  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 #r#1JtT  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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