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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 rzt Ru  
    #{?qNl8F*J  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 ZMel{w`n  
     设计包括两个步骤: +0OLc2 )w  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 )ubiB^g'm  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 J:Qa5MTWp  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 9jw\s P@  
    thI F&  
    =>_\fNy  
    照明光束参数 )c)vTZy  
    9b9$GyI  
    XCBL}pNkR  
    波长:632.8nm "g1)f"pL  
    激光光束直径(1/e2):700um
    ~{jcH  
    CLUW!F  
    理想输出场参数 %^ !,t:d  
    [5SD_dN  
    G|!on<l&  
    直径:1° ]x(!&y:h  
    分辨率:≤0.03° d>mo~  
    效率:>70% EwvoQ$#jv  
    杂散光:<20% c}2jmwq  
    ]GW]dM  
    ivN&HAxI@  
    2.设计相位函数 t:'Mh9h7u  
    C$XU%5qi  
    sM `DL  
    ;EP:o%r  
     相位的设计请参考会话编辑器 iMDM1}b  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 NgP&.39U  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 z?R|Ok  
    `u&Rsz&^  
    3.计算GRIN扩散器 RO'7\xvn  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 Wa{`VS  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 [J?aD`{#O  
     最大层厚度如下: +[\FD; >  
    :% ,:"  
    4.计算折射率调制 <^5Z:n!q  
    %D\[*  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 H[U!%Z  
    fof TP1  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 n'E(y)9|  
    Bf~vA4  
    r{L> F]Tw  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 U@uGNMKR  
    0dE@c./R i  
    (ROY?5 @c  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 s@K4u^$A  
    -"' j7t:  
    Ku5\]  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 U`,6 * MS  
    |B.Y6L6l  
    +M\`#i\g>  
    eg;~zv  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 `ZyI!"  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 (MxQ+D\  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 ,St#Vla  
    e D?tLj  
    5.X/Y采样介质 1WxK#c-)  
    < $lCkSx<Q  
    _=F=`xu  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 W$hx,VEy`  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 a|t$l=|DD  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 -*Xa3/kQ  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
     ]hk  
    g?goZPZB  
    8lvV4yb  
    u8&Z!p\  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 gY/"cq  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 nP$Ky1y G  
     应该选择像素化折射率调制。 ZxGJzakB5$  
    \XCe22x]  
    c|e~BQdRw  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 ,8U &?8l  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 vdivq^%=a  
    /?5 1D@  
    6.通过GRIN介质传播 f-vCm 5f  
    PUT=C1,OFR  
    ?+@n3]`0  
    h7G"G"  
     通过折射率调制层传播的传播模型: *+Ek0M  
    - 薄元近似 9-&Ttbb4)0  
    - 分步光束传播方法。 >JHryS.j$4  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 81? hY4  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 w'Y7IlC  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 \)#kquH/l  
    P+@/O  
    7.模拟结果 5sj4;w[  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    S 6@u@C  
    o4G?nvK-  
    8.结论 Yb|c\[ %  
    ]sf7{lVT  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 ?GKb7Oj  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 7Wf/$vRab  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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