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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 u} y)'eH  
    QFn .<@  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 N_#QS}H  
     设计包括两个步骤: rnB-e?>  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 h_O6Z2J1  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 %bs6Uy5g)a  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 aZK%?c  
    8t{-  
    E038p]M!  
    照明光束参数 +Usy  
    .<GU2&;!  
    &~ =q1?  
    波长:632.8nm ~N2<-~=si  
    激光光束直径(1/e2):700um
    u19 d!#g  
    .W>LsEk  
    理想输出场参数 Yh=/?&*  
    aTJs.y -I~  
    3v oas  
    直径:1° *{}Y :  
    分辨率:≤0.03° 1trk  
    效率:>70% . 4$SNzv3V  
    杂散光:<20% v.wHj@  
    MiB"CcU  
    "qb1jv#to  
    2.设计相位函数 4dfR}C  
    0~.OMG:=  
    d(LX;sq?  
    Wnp\yx`  
     相位的设计请参考会话编辑器 pf_(?\oz>  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 s\7]"3:wD  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 -kFPmM;  
    r-Nv<oH;  
    3.计算GRIN扩散器 uif1)y`Q$C  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 =#tQhg,_  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 s>i`=[qFc  
     最大层厚度如下: Uc j eB  
    D_n(T ')  
    4.计算折射率调制 ]`p*ZTr)\  
    *U[Nn5#?  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 L.5 /wg  
    V(-=@UW  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 4T]n64Yid  
    !N, Oe<  
    #M9rt ~4  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 ?8{x/y:  
    Tc{n]TV  
    FZUN*5`  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 @wzzI 7}C  
    OPYl#3I  
    WH@CH4WM  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 T B!z:n  
    X>0$zE@0  
    ?3X(`:KB  
    .Xq4QR .  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 3,Dc}$t  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 ZS@Gt  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 7RH1,k  
    @U~i<kt  
    5.X/Y采样介质 IWRo$Yu  
    5)IJ|"]y  
    ( !K?^si  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 9e`.H0  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 H%}ro.u  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 HAkEJgV  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    mBp3_E.t  
    |U~m8e&:  
    {C% #r@6  
    =th(Hdk17  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 J\WUBt-M  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 A,P_|  
     应该选择像素化折射率调制。 6}Iu~| 5  
    "ggViIOw&  
    (JgW")M`cY  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 4| 6<nk_  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 zc}qAy'<  
    @L p;p$G`  
    6.通过GRIN介质传播 tA*hh"9  
    XAn{xN pz  
    2l7Sbs7  
    BdK2I!mm  
     通过折射率调制层传播的传播模型: o@p(8=x  
    - 薄元近似 3)? v  
    - 分步光束传播方法。 5BztOYn,  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 FuA8vTV{  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 *%{  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 HQpw2bdy  
     AU3Ou5  
    7.模拟结果 #/UlW  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    cz2guUu  
    0<,Q7onDD:  
    8.结论 )_MIUQ%  
    u-31$z<<5}  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 |GDf<\  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 FN25,Q8:*I  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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