1.模拟任务 Q]g 4gj A%w]~ chC9 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
]3y5b9DuW 设计包括两个步骤:
V?J,ab$X# - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
rn5g+%jX* - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
~$ qJw?r
设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
N[bf.5T -r'seb5 KJJb^6P48W 照明光束参数 XM@i|AK
M0 2GKU9cV*` #bZ=R 波长:632.8nm
4Hpu EV8Q 激光光束直径(1/e2):700um
95 .'t} pfQZ|*>lkb 理想输出场参数 U+r#YE. sPTUGx' K2MNaB 直径:1°
,p`bWm 分辨率:≤0.03°
SF7b1jr 效率:>70%
zUtf&Ih 杂散光:<20%
Yg,lJ!q ow$l!8 9}0Jc(B/x 2.设计相位函数 M-K@n$k 5a|m}2IX !=:MG#p $,zM99 相位的设计请参考会话编辑器
*`pBQZn05O Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
14YV#o: 设计没有离散相位级的phase-only传输。
3v>,c>b([ [%,=0P} 3.计算GRIN扩散器 & O\!!1% GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
`"mK\M 最大折射率调制为△n=+0.05。
}J'wz;t1 最大层厚度如下:
4x?u5L
9o UkbQ'P+oS 4.计算折射率调制 H1qw1[%0y `[:1!I.}- 从IFTA优化文档中显示优化的传输
"_@+/Iy. 5qfKV&D 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
E/P53CD :9q^ [#6Esy8| 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
xWb?i6)z& UZ3Aq12U}a
RW[<e 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
78~V/L;@S2 pz}hh^]t f>[;|r@K 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
J3S+| x h~ &:f'{>3z !
e,(Zz5 =V]i?31[ 数据阵列可用于存储折射率调制。
l"y9XO| 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
pYUkd!K" 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
3Il/3\ sZBO_](S 5.X/Y采样介质 HwMsP$`q IMrOPwjc 2MzFSmhc" GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
?'m5)Z{ 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
vUx$[/< 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
/M `y LI 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
~0GX~{;r ,,wx197XeD v$/i5kcWx 'z!#E!i 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
zR_l^NK 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
qA/3uA!z 应该选择像素化折射率调制。
r74w[6( z( [ $,e\ &n kGdHX/a 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
&-Er n/[ 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
u`,R0=<4 "dOY_@kg 6.通过GRIN介质传播 zb,`K*Z{ !O_^Rn+<2 ~M1%,] Yx c >+mx 通过折射率调制层传播的传播模型:
y+R$pzX - 薄元近似
[N+ruc?) - 分步光束传播方法。
vJ} 对于这个案例,薄元近似足够准确。
iGNKf|8{ 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
vGp@YABM 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
58U[r)/ 8k'em/M~ 7.模拟结果 }kefrT 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
98nLj9 Q 5TyS8 8.结论 Mn;CG'FA _Fy:3,( VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
9 NSYrIQ" 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
}gaKO 5 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。