1.模拟任务 ?0X.Ith^. g(^l>niF: 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
=G :H)i 设计包括两个步骤:
'cv/"26# - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
YoA$Gw2 - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
-M}iDBJx># 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
mLO6`]p{H I(SE)%!%S oxZ(qfjS 照明光束参数 @Ia ~9yOY th{h)( +H t~Ax#H 波长:632.8nm
Z "u/8 激光光束直径(1/e2):700um
so*7LM?ib> B=7L+6 理想输出场参数 c-F&4V \kx9V|A' F(9T;F 直径:1°
+]X^bB[ 分辨率:≤0.03°
_=b[b]Ec$s 效率:>70%
'
BpRi N 杂散光:<20%
P%c<0y"O:> ~JJv 2 B4C`3@a 2.设计相位函数 42M3c&@P ;_!;D#: 'Tn$lh Y]PZ| G) 相位的设计请参考会话编辑器
}PVB+i M Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
6*E7} 设计没有离散相位级的phase-only传输。
(DU{o\= ofJ@\xS 3.计算GRIN扩散器 J{Jxb1:c GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
WG,{:|!E 最大折射率调制为△n=+0.05。
%/7`G-a.B 最大层厚度如下:
j,Y=GjfGM 9ccEF6o0= 4.计算折射率调制 SFHa(JOS btOC\bUMfD 从IFTA优化文档中显示优化的传输
?^5x
d1>E j<[<qU: 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
<}ev Ow2 BmZd,}{ d;z`xy(C 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
@m6E*2Gg :\ S3[(FV
|b@-1 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
y(HR1vQ;Z C..O_Zn{g li'#< "R?' 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
F[lHG,g- +ad 2 I<$lpU_H p8Pvctc 数据阵列可用于存储折射率调制。
rei<{woX 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
/2c?+04+ 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
KF.?b] 2axH8ONMu 5.X/Y采样介质 3Cpix,Dc
(g 8K?Q 9%x[z%06 GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
fQ<V_loP.@ 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
{d)+a$qj 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
x`$4 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
*@yYqI<1a M/BBNT 9s}--_k?F2 DpA)Z?? 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
^OUkFH;dG? 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
|XQ!xFB 应该选择像素化折射率调制。
TOQvZ?_ aw(P@9] ^ H'|iju 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
GDk/85cv0$ 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
lGxG$0`;; s3q65%D 6.通过GRIN介质传播 VBOq~>V6(v L%!jj7,9- qh=lF_%uj ZI1[jM{4^F 通过折射率调制层传播的传播模型:
D.RHvo~6 - 薄元近似
JMoWA0f - 分步光束传播方法。
=!7yX;| 对于这个案例,薄元近似足够准确。
Zcc6E2 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
`74A'(u_ 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
K2&pTA~OR }lhJt|q c 7.模拟结果 *F=wMWa 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
t&ngOF $L?stgU 8.结论 &0M^UvO @L`t/OD VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
m~#O
~) 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
)
~X\W\ 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。