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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 @D&VOJV  
    <7cm[  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 Jj}+tQ f  
     设计包括两个步骤: l[mXbQd  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 C]K|;VQ  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 gq4le=,v  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 smW 7zGE  
    }N!I|<"/  
    Va>~7  
    照明光束参数 .zO/8y(@  
    4~=/CaG~  
    wB}s>o\  
    波长:632.8nm ^6`"f  
    激光光束直径(1/e2):700um
    EOWLGleD1  
    0\84~t'[  
    理想输出场参数 E'zLgU)r`  
    XhjH68S(  
    tWy0% -  
    直径:1° gnF]m0LR  
    分辨率:≤0.03° hDI_qZ  
    效率:>70% 8?AFvua}r  
    杂散光:<20% O` R@6KG  
    &u0JzK  
    1*<m,.$  
    2.设计相位函数 ],9%QE  
    \zCT""'i  
    F[mL_JU  
    `''\FPhh  
     相位的设计请参考会话编辑器 Xl^=&!S>me  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 jC7`_;>=  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 %_N-~zZ1E  
    NrPs :`  
    3.计算GRIN扩散器 t=\y|Idc  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 /pni_-l*  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 X8aNl"x  
     最大层厚度如下: gSS2)Sd}  
    n 5h4]u  
    4.计算折射率调制 z/yNFY]i  
    W Z`u"t^2V  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 ew8f7S[  
    z)N8#Y~vn  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 :^7/+|}9p  
    53X H|Ap  
    bC{1LY0  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 @%mJw u  
    *CG-F=  
    uBp"YX9rx  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 V*HkF T  
    To v!X8p  
    9D,`9L5-=  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 _Eo$V&  
    i Qs7L y"  
    {1a%CsCM  
    b`M  2VZu  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 Bbk=0+ ^8I  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 \=3V]7\&  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 T;jy2|mLo  
    CtiTXDc_  
    5.X/Y采样介质 hJ[Z~PC\T0  
    6S*L[zBnA\  
    ;#a^M*e  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 zi M~V'  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 6 2{(i'K  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 6Ap-J~4  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    8{QN$Qkn  
    ?86q8E3;&  
    8XFs)1s[  
    '*K}$+l  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 \/E+nn\)  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 @,btQ_'X  
     应该选择像素化折射率调制。 "`;$wA  
    RlJt+lnV  
    i}d^a28  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 7OSk0%Q,  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 )nncCU W  
    BC|=-^(  
    6.通过GRIN介质传播 tS|gQUF17  
    O2z{>\  
    7{0;<@  
    'vbrzI5m  
     通过折射率调制层传播的传播模型: 1?k{jt~  
    - 薄元近似 AXbDCDA  
    - 分步光束传播方法。 2Fwp\I;  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 =QG@{?JTl  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 SvE3E$*  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 <0R$yB  
    xw[KP [(  
    7.模拟结果 y;oPg4  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    {,V.IDs8[  
    C%#%_ "N  
    8.结论 8n_!WDD  
    `cu W^/c  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 l;+nL[%`  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 RRXnj#<g  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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