1.模拟任务 Q1T@oxV 7xT[<?, 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
n| C|& 设计包括两个步骤:
a:}E& ,&M - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
j3 P$@< - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
9^\hmpP@D 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
,C:o`fQ\ ]EN&S Wh O]ZC+]}/ 照明光束参数 Ue! Q. " $"fzBM?5 FWY[=S 波长:632.8nm
8t[t{" 激光光束直径(1/e2):700um
Noz&noq L[]BzsIv 理想输出场参数 |^iA6)Q _lT0Hu O^NP0E 直径:1°
)E-E0Hl>7 分辨率:≤0.03°
;($1Z7j+ 效率:>70%
I4~^TrznRa 杂散光:<20%
(}"S)#C 4swKjN
& W>$BF[x!{ 2.设计相位函数 s OQcx\dK RH~sbnZ)F [%~^kq=| <4f,G]UH_ 相位的设计请参考会话编辑器
h>W@U9 Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
2-s 7cXs 设计没有离散相位级的phase-only传输。
TvM24Orct 4E'|.tt( 3.计算GRIN扩散器 ,LZ(^u GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
0x71%=4H^x 最大折射率调制为△n=+0.05。
ev"M;"y 最大层厚度如下:
blp=Hk J7n5Ps\M 4.计算折射率调制 Pi){ h~B> ?K<ZkYw? 从IFTA优化文档中显示优化的传输
BSDk9Oc zX~}]?|9 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
[Xh\mDU. qHJ'1~?q V{GXc:= 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
[-58Ezyr HlRAD|]\
;
8E; 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
: I)G v ZqP7@fO_% <m1sSghg 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
w+Vk3c5uI) "Z~`e]> a2X h>{ Mr.JLW 数据阵列可用于存储折射率调制。
{XHk6w
*- 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
GA ik;R 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
pyF5S,c _>i|s|aW 5.X/Y采样介质 &-4
?!
8Z!*[c>K-?
0Ve%.k GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
df
?eL2v 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
C fSl
54 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
-5xCQJ[ 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
<A{y($ "&Mou 6Hn)pD#U B-dlm8gX
基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
Yw[{beo 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
^9'$Oa,* 应该选择像素化折射率调制。
>-zkB)5<,# xKb"p4k9d gY%&IHQ' 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
4Cd#sQ 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
|!xpYT: 8T7f[? 6.通过GRIN介质传播 oXbI5XY)wb RJ*F>2 ^Xa*lR 3 OM{Dq| 通过折射率调制层传播的传播模型:
O4N-_Kfp/ - 薄元近似
0 {,h.: - 分步光束传播方法。
~?-qZ<9/ 对于这个案例,薄元近似足够准确。
Pxk0(oBX 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
x5PPu/ 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
%wtXo BJ #]X2^ND47 7.模拟结果 wI>h%y-%! 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
Q)T+r~#2B >|(%2Zl 8.结论 zv@bI~3~ F"v:}Vy|
VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
y<v|X2 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
fa yKM 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。