切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • 1088阅读
    • 0回复

    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

    上一主题 下一主题
    离线infotek
     
    发帖
    7125
    光币
    29766
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 g!J0L7 i|  
    NCS!:d:Ry  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 GA3sRFZdQ  
     设计包括两个步骤: F} DUEDND*  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 b"j|Bb  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 7"v$- Wy  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 u5E]t9~Pq  
    kODK@w V-  
    g /+oZU  
    照明光束参数 ]$iN#d|ZU  
    h y-cG%f  
    LXfCmc9|Z  
    波长:632.8nm Qvoqx>2p5  
    激光光束直径(1/e2):700um
    L/r@ S'  
    }At{'8*n  
    理想输出场参数 +|RB0}hFS-  
    /!&R9!6 :  
    zA+@FR?  
    直径:1° 3sm M,fi  
    分辨率:≤0.03° t}p@:'  
    效率:>70% 8HErE< _(  
    杂散光:<20% iU2KEqCm  
    uQ Co6"e  
    \F6LZZ2Lv  
    2.设计相位函数 e 9$C#D> D  
    OEgI_= B  
    \ZXLX'-  
    U]4pA#*{|  
     相位的设计请参考会话编辑器 rP=sG;d  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 JiS5um=(.  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 6tjcAsV  
    ra7uU*  
    3.计算GRIN扩散器 ] Uc`J8p,  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 R4's7k  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 x%> e)L<  
     最大层厚度如下: 5i So8*9}  
    A2H4k|8  
    4.计算折射率调制 F@<0s&)1  
    b'@we0V@S  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 M^madx6`  
    ]dPZ.r  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 *JCQu0  
    .V'V:;BE%  
    sKaE-sbJY  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 s4= "kT]  
    c9Es%@]  
    SS.jL)  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 rnm03 '{  
    MQ/ A]EeL  
    Q[ieaL6&  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 v Y|!  
    &~DTZg Y  
    % g"eV4 j  
    6)gd^{  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 Z0,~V  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 LxN*)[Wb  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 `cB_.&  
    xl4=++pu)  
    5.X/Y采样介质 BNGe exs@  
    4jm K].  
    }odV_WT  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 TW&DFKK`  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 n]CbDbNw7)  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 (zo^Nn9VJ  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    %i{;r35M;9  
    &%aXR A#+  
    jk~:\8M(A  
    &x:JD1T}  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 }qPhx6nP  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 ZDLMMX x>  
     应该选择像素化折射率调制。 USML~]G z  
    uYO|5a<f~  
    *iX e^<6v  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 g9h(sLSF  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 /!FWuRe^  
    EmVuwphv  
    6.通过GRIN介质传播 qB6dFl\ (  
    HaNboYW_K  
    YhKZ|@  
    y&T&1o  
     通过折射率调制层传播的传播模型: ]n1dp2aH  
    - 薄元近似 ,8Iv9M}2  
    - 分步光束传播方法。 %uESrc-;  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 N"5fmY<  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 D@Da0  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 #~ v4caNx  
    "`tXA  
    7.模拟结果 3SG?W_  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    my\&hCE  
    5OLQw(E  
    8.结论 .#6MQJ]OH  
    JMV50 y  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 ,32xcj}j)r  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 PBqy F  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
    分享到