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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 }qhK.e  
    GiXde}bm  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。  ~C/KA6H  
     设计包括两个步骤: ^gzNP#A<'o  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 1omvE9 %zM  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 ^4pKsO3ul  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 7[BL 1HI*  
    h)8+4?-4 I  
    q-%KfZ@(|  
    照明光束参数 kA!(}wRL  
    cl{W]4*$  
    'S7@+kJ  
    波长:632.8nm w"agn}CK  
    激光光束直径(1/e2):700um
    h#>L:Wf5E  
    gvqd 1?0w  
    理想输出场参数 qMES<UL>  
    z-G7Y#  
    $H-D9+8 7  
    直径:1° =8p+-8M[d  
    分辨率:≤0.03° ' P`p.5nH  
    效率:>70% 6'Yn|A  
    杂散光:<20% <hZ}34?]i2  
    $;uWj|  
    }<ONxg6Kb  
    2.设计相位函数 S"TMsi  
    LQ\ ELJj  
    &rztC]jF  
    }&T<wm!  
     相位的设计请参考会话编辑器 (1AA;)`Kp  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 .(7C)P{ .0  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 ix7 e] )m(  
    w<~<(5mM5;  
    3.计算GRIN扩散器 !N8)C@=  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 {IPn\Bka  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 &lPBqw  
     最大层厚度如下: 7s8<FyFsjd  
     n22hVw  
    4.计算折射率调制 B_"OA3d_  
    4nII/cPG  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 iCnUnR{  
    YNC0Z'c9  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 '!^E92  
    40Qzo%eL  
    Md>f  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 ?Tc)f_a  
    J`+`Kq1T  
    ECS<l*i57&  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 -[=AlqL  
    L_U3*#Zdz7  
    a\&(Ua  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 RZd4(7H=q  
    p_5>?[TW:  
    I#S~  
    qXB03}] G  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 hr<7l C  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 "zedbJ0  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 (Gi+7GMV'  
    LZQFj/,Jg  
    5.X/Y采样介质 ^3WIl ]  
    sm2p$3v  
    K/wiL69  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 @0vC v  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 b#p~F}qT  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 \za5:?[xB  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    g]Xzio&w  
    ti{H(;;@  
    &ppE|[{  
    Ufaqhh  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 3{Ek-{ 9  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 ^<>Jw%H  
     应该选择像素化折射率调制。 e7XsyL'|p  
    GP{$v:RG  
    PTzp;.  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 z;bH<cQ  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 ~mXZfG/D  
    nE]~E xr  
    6.通过GRIN介质传播 4-]Do?  
    *R_'$+  
    %A)-m 69  
    FXOT+9bg  
     通过折射率调制层传播的传播模型: Gut J_2f^9  
    - 薄元近似 /<(*/P,>  
    - 分步光束传播方法。 9n>$}UI\  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 T6h;Y  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 t$]&,ucW#  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 %aj7-K6:t  
    kyW6S+#-  
    7.模拟结果 943I:, B  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    -+3be(u  
    ]]p19[4s  
    8.结论 )(h&Q? Ar  
    z:Xj_ `p  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 )l+XDI  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 1DEO3p  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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