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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 9qnuR'BDu  
    ,:c :6Y^  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 +[>y O _}  
     设计包括两个步骤: Q -M rH   
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 & 8ccrw  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 @gs26jX~2}  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 N-]\oMc2  
    FrgW7`s[A  
    JqL<$mSep  
    照明光束参数 yW%&_s0  
    37%`P \O;s  
    5wT' ,U"+  
    波长:632.8nm ;Gjv9:hUn  
    激光光束直径(1/e2):700um
    (PRaiE  
    |3s.;w K  
    理想输出场参数 +I^+k"  
    '~ jy  
    J& 1X  
    直径:1° (3)C_Z  
    分辨率:≤0.03° THrc H  
    效率:>70% xmCm3ekmpC  
    杂散光:<20% |U8>:DEl  
    c2tEz&=G  
    HY*l4QK  
    2.设计相位函数 ~,(0h:8  
    \W3+VG2cA  
    oA(. vr  
    i n[n A a  
     相位的设计请参考会话编辑器 fs]#/*RR  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 '?&B5C  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 *O"%tp6  
    X7'h@>R   
    3.计算GRIN扩散器 QT7w::ht  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 ^4n2 -DvG  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 dbf^A1HI  
     最大层厚度如下: u i s:\Uc  
    9$B)hrJo  
    4.计算折射率调制 @ef//G+Z"  
    Y!K^-Y}  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 e["Z!D_H  
    |U;w!0  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 #o(?g-3  
    ~$ cm9>  
    >=Rd3dgDG  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 ?^e*UJNM  
    )?= kb  
    ?M*C*/R  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 Xm_Ub>N5  
    DzX6U[=  
    _*OaiEL+:  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 |THkS@Br  
    -o! saX<  
    -y7l?N5F>  
    Z_eqM4{  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 JCCx 5  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 .HH,l  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 IdN%f]=/  
    =CD:.FG.  
    5.X/Y采样介质 $=;bccIob  
    ^^j|0qshL  
    H4K(SGx  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 VC_3ll]vr  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 g%<{G/Tz  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 gn;nS{A  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    )VSGqYr#  
    juve9HaW  
    'xu7AKpU)  
    j,gM+4V^  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 A61-AwvF8-  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 qqO10~Xc  
     应该选择像素化折射率调制。 6 ^6uK  
    y7}~T!UyfF  
    7@e[:>e  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 A-@-?AR  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 rsq'60  
    Vt$ $ceu  
    6.通过GRIN介质传播 q(${jz4w  
    [8om9 Z3  
    0zq\ j  
    "~ i#9L/H  
     通过折射率调制层传播的传播模型: 6P/9Vh j'  
    - 薄元近似 <)0LwkFtB  
    - 分步光束传播方法。 p lz=G}Y  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 [3bwbfHhi  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 @Z1?t%1  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 g'l7Jr3  
    E!(`275s  
    7.模拟结果 ' m# Ymp  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    ) Sh;UW  
    @?($j)9}  
    8.结论 `(w kqa  
    0^-b}  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 iR4,$Nn>  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 OkO@BWL  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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