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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 Tdh.U {Nz  
    c!6v-2ykv  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 -{OJM|W+  
     设计包括两个步骤: y|O3*`&m  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 &77J,\C$:  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 8/R$}b><  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 Z1q<) O1QX  
    >x6\A7  
    A2\hmp@A@7  
    照明光束参数 Zc_F"KJL  
    >ph=?M KD  
    dLH@,EKl)  
    波长:632.8nm 83V\O_7j  
    激光光束直径(1/e2):700um
    n-M6~   
    !1R?3rVQS  
    理想输出场参数 <(Ar[Rp  
    { /!ryOA65  
    t&43)TPb.  
    直径:1° 3t9+YdNKU  
    分辨率:≤0.03° ,/p+#|>C=  
    效率:>70% ^^ix4[1$Z  
    杂散光:<20% Z<d=v3q  
    nt>3i! l  
    dRzeHuF92  
    2.设计相位函数 '>|K d{J0  
    C~>0K,C0^  
    e/ g9r  
    ]lGkZyU hI  
     相位的设计请参考会话编辑器 Dj=$Q44  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 r\fkx>  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 `dX0F=Ag?  
    zp9lu B  
    3.计算GRIN扩散器 5#f_1 V  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 Ew.6y=Ba  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 cCiDe`T\F  
     最大层厚度如下: L:&'z:,<  
    VgbT/v  
    4.计算折射率调制 ;8MQ'#  
    Q1kM 4Up  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 a6h+?Q7uF  
    |AExaO"jk  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 8H};pu2  
    f\$_^dV  
    !} x-o`a5  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 FU*q9s`  
    WS4DzuZZ  
    \kI{#   
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 1jzu-s ,F  
    >u0XV"g$  
    \uo{I~Qd  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 Y evd h<  
    PL31(!`@d  
    s4f{ziLp  
    y~OP9Tg  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 Y>c+j  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 +:aNgO#e8  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 mcQ A'  
    iSOyp\E|  
    5.X/Y采样介质 \TzBu?,v8  
    NuF?:L[  
    ^u90N>Dvq  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 yfqe6-8U  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 \AI-x$5R*  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 c*<BU6y  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    C %j%>X`  
    !w/fw Oo  
    M|@@ LJ'  
    I%Z=O=  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 V#Y"0l+~  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 * _usVg  
     应该选择像素化折射率调制。 gE*7[*2?t  
    qOQ8a:]?  
    =%I;Y& K  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 T#Bj5H  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 )3|a_   
    hH05p!2  
    6.通过GRIN介质传播 g^po$%I '  
    P%R9\iajH  
    e^;:iJS  
    'F/uD 1;  
     通过折射率调制层传播的传播模型: BSr#;;\  
    - 薄元近似 e*I92  
    - 分步光束传播方法。 c*R\fQd  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 }=gD,]2x8  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 5K&A2zC|  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 nHF~a?|FT  
    NTCFmdbs 6  
    7.模拟结果 `d/* sX?k  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    B=r+ m;(  
    ,|#biT-<T  
    8.结论 |RXXj[z  
    $Dv5TUKw  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 f }.t  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 heWQPM|s  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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