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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 yl<=_Q  
    z:n JN%Qb  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 nP=/XiCj  
     设计包括两个步骤: 7Aw <:  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 Nf~B 1vkp  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 &=8ZGjR< }  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 <!u(_Bxw/  
    oOQan  
    hHt.N o  
    照明光束参数 hO3C _}  
    6yaWxpW  
    )sEAP Ika  
    波长:632.8nm y9:o];/  
    激光光束直径(1/e2):700um
    d{^K8T3  
    I#yd/d5^  
    理想输出场参数 [o'}R`5)  
    or` "{wop  
    ]sI{ +$~:c  
    直径:1° wRWKem=  
    分辨率:≤0.03°  `Q^Vm3h  
    效率:>70% .|ZnU]~T  
    杂散光:<20% ,"5p=JX`  
    Z}O0DfT;  
    Io;26F""  
    2.设计相位函数 Z=?qf$.}  
    !hPe*pPVV)  
    qmpU{f s  
    a'@?c_y;$  
     相位的设计请参考会话编辑器 7"_g X  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 6 dCqS  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 6? (8KsaN  
    `^E(P1oJ3  
    3.计算GRIN扩散器 ]_)=xF19  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 ?@_,_gTQ  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 iQaFR@  
     最大层厚度如下: X?"Ro`S  
    r(=3yd/G$  
    4.计算折射率调制 "Zicac@N  
    |}roR{gc|  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输  )2,\Y  
    t#J #DyY5  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 [26([H  
    t #g6rh&  
    }oTac  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 ">RDa<H]  
    )@YrHS4  
    D#9W [6  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 0g(hY:  
    4a~9?}V:  
    QPa&kl  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 7" cgj#  
    <<![3&p#  
    g'b)]Q  
    2? 7a\s  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 ex2*oqAdX  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 T%F8=kb-9  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 J_mpI.^Bsf  
    9X{aU)"omQ  
    5.X/Y采样介质 J`3 p Xc$.  
    Zt[1RMO  
    'x10\Q65[  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 7"y"%+*/  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 ,G,T&W  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 f;%4O'  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    i_&&7.  
    uEuK1f`  
    *%cI,}%   
    ji2if.t@  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 [XQoag;!  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 ;z7iUke0%  
     应该选择像素化折射率调制。 vexQP}N0  
    D058=}^HE  
    S*CRVs  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 EY!aiH6P  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 Oox5${#^  
    d=wzN3 ;-  
    6.通过GRIN介质传播 g;bkV q  
    \Jv6Igu  
    =RUKN38  
    i@_|18F]`  
     通过折射率调制层传播的传播模型: g!%csf  
    - 薄元近似 Ph.$]yQCc]  
    - 分步光束传播方法。 PxK  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 7z6yn= B  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 +Mv0X%(N  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 n|L.d BAs]  
    f.'o4HSj  
    7.模拟结果 2Sb~tTGz79  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    G#CWl),=  
    W?/7PVGv5h  
    8.结论 ]]%CO$`T [  
    |)IN20  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 )r1Z}X(#d  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 ^ tm,gh  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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