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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 #+^l3h MK  
    akQb%Wq  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 BbI),iP  
     设计包括两个步骤: ?[ D6|gp  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 0.#% KfQ  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 tfv@ )9  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 3ep L'My$  
    K,*IfHi6[  
    x!onan  
    照明光束参数 &< hk&B  
    :0Fwaw9PH"  
    )EG-xo@X  
    波长:632.8nm TSsx^h8/  
    激光光束直径(1/e2):700um
    [ <Q{  
    vf`]  
    理想输出场参数 ~5Rh7   
    bL5dCQxty  
    &0mhO+g   
    直径:1° .\)p3pC)  
    分辨率:≤0.03° XB%`5wwd  
    效率:>70% JM*rPzp  
    杂散光:<20% i{PX=  
    OmP(&t7  
    \)PS&Y8n  
    2.设计相位函数 CzT_$v_  
    <pUc( tPoz  
    m>b i$Y  
     ^9kdd[  
     相位的设计请参考会话编辑器 #p=Wt&2  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 GF Rd:e  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 9a.[>4}  
    wD[qE  
    3.计算GRIN扩散器 EtB56FU\  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 <JJi  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 8\Eq(o}7  
     最大层厚度如下: L^nS%lm  
    m$$98N  
    4.计算折射率调制 $w<~W1\:  
    W/;qMP1"-  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 p|w;StLy  
    dk2o>jI4;  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 o6 [i0S  
    yM34GS=,J  
    /XW,H0pR  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 ;D<rGkry  
    vGPaWYV  
    z~a]dMs"(P  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 ]%%cc  
    9$'Edi=6  
    g:c @  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 3!B3C(g  
    BcoE&I?[m|  
    'w7{8^Z2  
    zphStiwIQ  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 k)USLA  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 cl-i6[F  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 S[M\com'  
    Jh:-<xy)  
    5.X/Y采样介质 5 *>3(U  
    %25_  
    H\!u5o&}`  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 dUJNr_  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 -/&6}lD  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 j|WaWnl=  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    9uREbip  
    egi?Qg  
    2=NYBOE  
    I@q>ES!1H  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 Qi7^z;  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 jW",'1h<n  
     应该选择像素化折射率调制。 9Au+mIN  
    XT_BiZ%l5O  
    ?-'Q-\j  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 YKvFZH)  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 Sb[rSczS~  
    7\U1K^q  
    6.通过GRIN介质传播 (A &@ <  
    x{*!"a>  
    TJ5{Ee GV  
    |/lIasI  
     通过折射率调制层传播的传播模型: T[q-$8U  
    - 薄元近似 @4B2O"z`  
    - 分步光束传播方法。 {Q(6 .0R  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 rb\Ohv\  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 e?lqs,m@"  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 /9w}[y*E  
    W@$p'IBwm  
    7.模拟结果 6eK^T=  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    p go\(K0  
    q%:Jmi>  
    8.结论 |PJW2PN  
    r IK|}5  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 sqZHk+<%  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 $=m17GD  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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