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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 h}_1cev?  
    H-,RzL/  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 *AU"FI> V  
     设计包括两个步骤: e r;3TG~  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 vYNh0)$%F  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 H19CVc\B  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 txwTJScg  
    4;ig5'U,  
    =Jx,.|Bf  
    照明光束参数 RZ[r XV5  
    hFjXgpz5  
    $v6dB {%Qu  
    波长:632.8nm Vhww-A  
    激光光束直径(1/e2):700um
    x6ig,N~AO  
    [lC*|4t&  
    理想输出场参数 $[Fh|%\  
    F=hfbCF5x  
    n8M/Y}mH   
    直径:1° X~Li`  
    分辨率:≤0.03° T@]vjXd![  
    效率:>70% mdOF0b%-]  
    杂散光:<20% WQ]~TGW  
    {=,?]Z+  
    D(&${Mnac  
    2.设计相位函数 `C`_2y8  
    m//(1hWv7  
    +mP3 y~|-j  
    5U[;T]{)e  
     相位的设计请参考会话编辑器 Z<|ca T]Q(  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 qfY.X&]PU  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 Qko}rd_M  
    m)q;eQs  
    3.计算GRIN扩散器 'sm+3d  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 d& @KGJ  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 (*%+!PS  
     最大层厚度如下: 0rT-8iJp4P  
    IrXC/?^h  
    4.计算折射率调制 AO'B p5:Q  
    ~ S R:,R  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 %f@VOSs  
    7;n'4LIa9  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。  -[a0\H  
    8jjJ/Mz`  
    oS$&jd  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 b=QO^  
    *kxk@(lT?  
    $Tq-<FbM)  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 "0g1'az}  
    nrA}36E  
    Us YH#?|O  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 9h$-:y3  
    9r7QE&.  
    -Tk~c1I#`  
    _qmB PUx  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 Xig+[2zS  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 ,KIa+&vJW@  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 )j@k[}R#g  
    x-U^U.i@  
    5.X/Y采样介质 xN}P0  
    "aP>}5<h  
    i<1w*yu  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 {:Z#8dGe  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 1(!QutEb  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 mxQS9y  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    OR( )D~:n  
    X?Omk, '  
    5<a)SP 0  
    H U$:x"AW  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 S_6`.@B}  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 pp#Kb 2*  
     应该选择像素化折射率调制。 4I^6[{_  
    rP;Fh|w#  
    4lb3quY$Us  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 \Ul*Nsw  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 ; ZL<7tLDb  
    +B_q? 6pR  
    6.通过GRIN介质传播 *u7C){)gr[  
    0c7&J?"wE  
    nUhD41GJ  
    klUxt?-  
     通过折射率调制层传播的传播模型: \p@,+ -gX  
    - 薄元近似 rgIJ]vmy<H  
    - 分步光束传播方法。 m3 (fr  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 aiw~4ix  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 /n?5J`6  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 zG@9-s* L  
    @'R4zJ&+S  
    7.模拟结果 vo uQ.utl  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    V>A@Sw  
    * 2T&pX  
    8.结论 p`Omcl~Q  
    c 2?(.UV  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 J%f5NSSU{6  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 Q-O:L  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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