1.模拟任务 <)u`~$n2 /Y'Vh^9/T 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
@&1ZB6OCb: 设计包括两个步骤:
G*-b}f - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
c&AygqN - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
]`kmjn 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
s (zL jg.QRny^ ig/%zA*Bo 照明光束参数 KU8Jbl*
w)Q0_2p. #)C[5?{SNq 波长:632.8nm
1XD,uoxB
激光光束直径(1/e2):700um
#wV8X`g nPye,"A Ol 理想输出场参数 _NMm/]mN / <Dwar>} B oC5E#;G 直径:1°
@ Wd9I;hWv 分辨率:≤0.03°
%`r?c<P} 效率:>70%
LN@F+CyDc 杂散光:<20%
DP3PYJ%+B xO&eRy?% y~F,0"N\r 2.设计相位函数 ;*:Pw?' n
p\TlUc go'-5in( dvt9u9Vg= 相位的设计请参考会话编辑器
l]8D7(g Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
nv@8tdrc 设计没有离散相位级的phase-only传输。
~])t 6i v
8$>rwB 3.计算GRIN扩散器 5u*-L_ GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
gK[YQXfTy 最大折射率调制为△n=+0.05。
U$_xUG 最大层厚度如下:
][?G/*k oxz OA 4.计算折射率调制 ]Bjyi[#bg (X?%^^e! 从IFTA优化文档中显示优化的传输
C/TF-g-_Y m<j8cJ( 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
NiU2@zgl :}@g6 |MFF7z{% 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
M#As0~y f;1K5Y
G0^2Wk[ 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
;|vpwB@B %<an9WMF >hk=VyU; 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
il:$sd (^u1~1E 5 FRg^c
kb" L1Iz<> 数据阵列可用于存储折射率调制。
DGAX3N;r6{ 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
v"OY 1<8 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
?34 e- .pN`;*7` 5.X/Y采样介质 &Nczv"TM
V-Cv,8 ;uwRyd GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
%2XHNW 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
;)!Sp:mHX 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
#ZYVc|sT+ 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
2ioQb`= vfq%H( WC.t_"@ BbgnqzU 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
)0Me?BRp 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
JWMpPzs 应该选择像素化折射率调制。
jC7&s$>Q"g O'W0q;rT ($}`R
xj1@ 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
ub;ZtsM,% 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
!!`!|w U` Wauv& 6.通过GRIN介质传播
^V#@QPK9 /4vG3 TJ1+g
\ 4)U.5FBk
) 通过折射率调制层传播的传播模型:
1. rj' - 薄元近似
m"o ;L3 - 分步光束传播方法。
pb$~b\s]= 对于这个案例,薄元近似足够准确。
#1c_ev H 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
uwjGDw 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
zJ)*Z,7 {6~l$ 7.模拟结果 D,g1<:< 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
2EfF=Fm> `~ * @q! 8.结论 <oo DXa-rk8 VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
LWHd~"eU 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
3Ei5pX =g 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。