1.模拟任务 oA+/F]XJ /h6K"w=='! 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
d%?$UnQ 设计包括两个步骤:
l|{q8i#4V - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
Wl?0|{W - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
8U86-'Pq 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
P-]u&m/6 f(SK[+aqW oyC5M+shP9 照明光束参数 !DU4iq_. skeH~-`M@ n[+$a)$8 波长:632.8nm
\P~h0zg? 激光光束直径(1/e2):700um
V$o]}| R^*%yjy9 理想输出场参数 :[\M|iAo b';oFUU>Q ^L4"X~eM 直径:1°
>>nOS] UL 分辨率:≤0.03°
4 x|yzUx 效率:>70%
T@H<Fm_ 杂散光:<20%
CqFk(Td9-D XiW~?
*Z RwyX,| 2.设计相位函数 X^o0t^
$Sls9H+. KATu7)e&~^ 'LX]/D 相位的设计请参考会话编辑器
aWS_z6[t#6 Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
,::f?
Gc7j 设计没有离散相位级的phase-only传输。
z ?L]5m`H K6Z/ 3.计算GRIN扩散器 fug
Fk GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
8.WZC1N 最大折射率调制为△n=+0.05。
_<^mi!Y 最大层厚度如下:
3sD/4 ? eHE?#r16Z 4.计算折射率调制 &RB{0Qhx `=%mU/v 从IFTA优化文档中显示优化的传输
g>*P}r~;^b +?9.
&<? 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
O=
84ZP% .o(S60iH!( qw<~v?{|C 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
wG LSei-s ,z5B"o{Et
wN]]t~K)Q 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
K#;EjR4H ^~`t
q+ +yd{-iH 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
nnZM{<!hF ;%^T*?t Uys[0n wA< Fw
) 数据阵列可用于存储折射率调制。
ab8F\%y-8 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
Ihy76_OZ 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
,V &RpKek #-7w| 5.X/Y采样介质 Q@ghQGn#
K<E|29t^k ana?;NvC GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
0eFvcH:qG 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
Nhrh>x[wJ 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
m{?uR.O 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
(5h+b_eB fI }v}L^ v=J[p;H^H ov|/=bzro 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
x.%x|6G* 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
krecUpo 应该选择像素化折射率调制。
<sor;;T mvXIh"; 94'0X 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
_ lE
d8Cb 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
tdi^e;:? _i pY; 6.通过GRIN介质传播 R4AKp1Y X;QhK] Z L4!T NsF8`rg 通过折射率调制层传播的传播模型:
$E6bu4I - 薄元近似
JXAH/N&i - 分步光束传播方法。
I%tJLdL 对于这个案例,薄元近似足够准确。
ZnZ`/zNO 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
"
"{#~X} 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
xC
YL3hl cIOM}/gqv 7.模拟结果 HOb0\X 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
rssn'h WmTg`[ 8.结论 l g43 L9^h.Y7 VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
w6G<&1iH 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
"!z9UiA 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。