1.模拟任务 LFk5rv'sM0 Y{%4F%Oy 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
?&whE! 设计包括两个步骤:
!L&=?CX - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
n/KI"qa]9 - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
g_rA_~dh 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
\SYPu,ZT I}*]m%'-Y ^q4l4)8jX 照明光束参数 ZTQ$Ol+{q "i!2=A8k ^BF@j4*~ 波长:632.8nm
^
I{R[O'8 激光光束直径(1/e2):700um
M!xm1-,[ xHM&csL 理想输出场参数 4f@havFIJ gE-w]/1zD5 O4 +SD 直径:1°
gt2>nTJz.Z 分辨率:≤0.03°
?=/}Ft 效率:>70%
[oQ`HX1g 杂散光:<20%
#U",,*2 %4|n-`: $Nt=gSWw5 2.设计相位函数 %0ll4" |x _-I#H /o<}]]YBF Z-? Iip{ 相位的设计请参考会话编辑器
ZaukMEq Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
.d#G]8suF 设计没有离散相位级的phase-only传输。
6nY
)D6$JG D+*uKldS; 3.计算GRIN扩散器 ]X>QLD0W GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
k$UzBxR 最大折射率调制为△n=+0.05。
[#STR=_f 最大层厚度如下:
H
'WFORso[ T!=20 !I 4.计算折射率调制 5CH-:|(;= +(I`@5 从IFTA优化文档中显示优化的传输
zJy 89ib' By51dk7 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
rvwl ^| FVc48{ 1A`?y&
Ll 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
~n8*@9[ *uI hxMX
^B&ahk 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
t[f9Z 1,%#O;ya uDy>xJ| 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
S2At$47v (N~zJ.o Ads<-.R zP{<0o 数据阵列可用于存储折射率调制。
xu_XX#9?b 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
,#'o)O# 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
T
,O<LFv J1c&"Oh 5.X/Y采样介质 \ ]kb&Qw
Zs3]|bUR MoKXl?B< GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
S}v{^vR 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
PPj6QJ]R0 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
li3PR$W V 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
<mo^Y k3 {-v\&w vS J< -u3SsU)_%N 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
[:R P9r} 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
]UCk_zWsn1 应该选择像素化折射率调制。
*OGXu07 ! Z_^Kl76D |S>J<]H
p 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
lU50.7<08 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
tXG4A$(2& v_@#hf3 6.通过GRIN介质传播 YP\4XI z)<pqN Cs1%g *09\\
G 通过折射率调制层传播的传播模型:
"13
:VTs[5 - 薄元近似
vRb(eg - 分步光束传播方法。
sw qky5_K 对于这个案例,薄元近似足够准确。
wJeqa 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
{HRxyAI! 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
G5QgnxwP2 C_^R_ 7.模拟结果 `i>B|g- 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
&PQ{e8w H:{(CY?t 8.结论 : DX/r vu.S>2Wv VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
rD(ep~^M 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
.J6j" 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。