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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 oA+/F]XJ  
    /h6K"w=='!  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 d%?$UnQ  
     设计包括两个步骤: l|{q8i#4V  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 Wl?0|{W  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 8U86-'Pq  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 P-]u&m/6  
    f(SK[+aqW  
    oyC5M+shP9  
    照明光束参数 !DU4iq_.  
    skeH~-`M@  
    n[+$a)$8  
    波长:632.8nm \P~ h0zg?  
    激光光束直径(1/e2):700um
    V$o]}|  
    R^*%yjy9  
    理想输出场参数 :[\M|iAo  
    b';oFUU>Q  
    ^L4"X~eM  
    直径:1° >>nOS]UL  
    分辨率:≤0.03° 4 x|yzUx  
    效率:>70% T@H<Fm_  
    杂散光:<20% CqFk(Td9-D  
    X iW~? *Z  
    RwyX,|  
    2.设计相位函数 X^o0t^  
    $Sls9H+.  
    KATu7)e&~^  
    'LX]/ D  
     相位的设计请参考会话编辑器 aWS_z6[t#6  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 ,::f? Gc7j  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 z ?L]5m` H  
    K6Z/  
    3.计算GRIN扩散器 fug F k  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 8.WZC1N  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 _<^mi!Y  
     最大层厚度如下: 3sD/4 ?  
    eHE?#r16Z  
    4.计算折射率调制 &RB{0Qhx  
    `=%mU/v  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 g>*P}r~;^b  
    +?9. &<?  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 O= 84ZP%  
    .o(S60iH!(  
    qw<~v?{|C  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 wGLSei-s  
    ,z5B"o{Et  
    wN]]t~K)Q  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 K#;EjR4H  
    ^~` t q+  
    +yd{-iH  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 nnZM{< !hF  
    ;%^T*?t  
     Uys[0n  
    wA< Fw )  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 ab8F\%y-8  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 Ihy76_OZ  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 ,V &RpKek  
    #-7w |  
    5.X/Y采样介质 Q@ghQGn#  
    K<E|29t^k  
    ana?;NvC  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 0eFvcH:qG  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 Nhrh>x[wJ  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 m {?uR.O  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    (5h+b_eB  
    fI }v}L^  
    v=J[p;H^H  
    ov|/=bzro  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 x.%x|6G*  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 krecUpo  
     应该选择像素化折射率调制。 <sor;;T  
    mvXIh";  
    94'0X  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 _ lE d8Cb  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 tdi^e;:?  
    _ipY;  
    6.通过GRIN介质传播 R4 AKp1Y  
    X;QhK] Z  
    L4!T  
    NsF8`r g  
     通过折射率调制层传播的传播模型: $E6bu4I  
    - 薄元近似 JXAH/N& i  
    - 分步光束传播方法。 I%tJLdL  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 ZnZ`/zNO  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 " "{#~X}  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 xC YL3hl  
    cIOM}/gqv  
    7.模拟结果 HOb0\X  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    rssn'h  
    WmTg`[  
    8.结论 l g43  
    L9^h .Y7  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 w6G<&1iH  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 "!z9UiA  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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