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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 Q8AAu&te7  
    zD<W`_z  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 b^C27s  
     设计包括两个步骤: .kg 3>*  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 \>Rfa+  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 YfB)TK\W9/  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 1S!}su,uH  
    @-Q l6k  
    <>9!oOa  
    照明光束参数 ) c\Y!vS  
    J](NCD  
    6(d6Uwc`  
    波长:632.8nm l#1#3F  
    激光光束直径(1/e2):700um
    >~rlnRX  
    Sk>=C0f:  
    理想输出场参数 Z;81 "   
    ed#fDMXGQ%  
    $1|E(d1  
    直径:1° aMY@**^v  
    分辨率:≤0.03° EG3,TuDH8  
    效率:>70% ;[R6rVHe{  
    杂散光:<20% `sT;\  
    G Ixs>E'X  
    jL^@;"/XhC  
    2.设计相位函数 =X7kADRq  
    r5S/lp+Y+N  
    <n]PD;.4  
    b;UDgq8v  
     相位的设计请参考会话编辑器 ga%\n!S  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 (vZ-0Ep}  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 CL1*pL  
    )w M%Ul<s  
    3.计算GRIN扩散器 Lo!hyQ)  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 M['O`^  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 e !jy6 t  
     最大层厚度如下: 7\2I>W  
    >bf.T7wy  
    4.计算折射率调制 f1ANziC;i  
    /ki-Tha  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 {+WY,%e  
    F/5G~17  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 FefroaJ:u  
    )&j`5sSXcr  
    jjj<B'zt  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 Q*>)W{H&)  
    ?<!q F:r:  
    -t|/g5.w_  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 3Xu|hkK\e  
    Ia#!T"]@W6  
    Cj8&wz}ez  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 ewk7:zS/?  
    H u;"TG  
    WDIin6u-  
    k9rws  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 fasW b&~z  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 .u7} p#  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 JFm@jc  
    a(A~S u97  
    5.X/Y采样介质 Jh E C  
    JKM(fX+  
    /fp8tL2Y  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 ;b0Q%TDh  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 hI86WP9*  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 }MRgNr'k  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    \yJ 4+vo2Q  
    5eori8gr7  
    7_1 Iadb  
    y5j:+2|I  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 jy!]MAP#Gk  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 ES+ CAwqf  
     应该选择像素化折射率调制。 ZTzec zXpQ  
    8/aJ4w[A  
    ;]-08lzO<4  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 aA|{r/.10K  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 OCx'cSs-=  
    ;\0|1Eem`  
    6.通过GRIN介质传播 HqWWWCWal  
    L[2qCxB'^  
    I3nE]OcW@  
    w"9h_;'C_  
     通过折射率调制层传播的传播模型: Ep;uz5 ^8  
    - 薄元近似 $#h U_vr  
    - 分步光束传播方法。 v8f3B<kj  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 89&9VX^A  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 \|Af26  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 ElW\;C:K*  
    W/2y; @  
    7.模拟结果 2.Vrh@FNRo  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    |M7C=z='  
    ,"`20.Lv  
    8.结论 Z3TCi7,m  
    zq</(5H  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 LLTr+@lj  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 swj\X ,{  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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