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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 LFk5rv'sM0  
    Y{%4F%Oy  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 ?&whE!  
     设计包括两个步骤: !L &=?CX  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 n/KI"qa]9  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 g_rA_~dh  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 \SYPu,ZT  
    I}*]m%'-Y  
    ^q4l4)8jX  
    照明光束参数 ZTQ$Ol+{ q  
    "i!2=A8k  
    ^BF@j4*~  
    波长:632.8nm ^ I{R[O'8  
    激光光束直径(1/e2):700um
    M!xm1-,[  
    xHM&csL  
    理想输出场参数 4f@havFIJ  
    gE-w]/1zD5  
    O4 +SD  
    直径:1° gt2>nTJz.Z  
    分辨率:≤0.03° ?=/}Ft  
    效率:>70% [oQ`HX1g  
    杂散光:<20% #U ",,*2  
    %4|n-`:  
    $Nt=gSWw5  
    2.设计相位函数 %0ll4"  
    |x _ -I#H  
    /o<}]]YBF  
    Z-? Iip{  
     相位的设计请参考会话编辑器 ZaukMEq  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 .d#G]8suF  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 6nY )D6$JG  
    D+*uKldS;  
    3.计算GRIN扩散器 ]X >QLD0W  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 k$UzBxR  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 [#STR=_f  
     最大层厚度如下: H 'WFORso[  
    T!=20!I  
    4.计算折射率调制 5CH-:|(;=  
    +(I`@5  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 zJy 89ib'  
    By51dk 7  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。  rvwl  
    ^|F Vc48{  
    1A`?y& Ll  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 ~n8*@9[  
    *uI hxMX  
    ^B&ahk  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 t[f9Z  
    1,%#O;ya  
    uDy>xJ|  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 S2At$47v  
    (N~zJ .o  
    Ads<-.R  
    zP{<0o  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 xu_XX#9?b  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 ,#'o)O#  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 T ,O<LFv  
    J1c&"Oh  
    5.X/Y采样介质 \ ]kb&Qw  
    Zs3]|bUR  
    MoKXl?B<  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 S}v{^vR  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 PPj6QJ]R0  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 li 3PR$W V  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    <mo^Y k3  
    {-v\&w  
    vS J<  
    -u3SsU)_%N  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 [:R P9r}  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 ]UCk_zWsn1  
     应该选择像素化折射率调制。 *OGXu07 !  
    Z_^Kl76D  
    |S>J<]H p  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 lU50.7<08  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 tXG4A$(2&  
    v_@#hf3  
    6.通过GRIN介质传播 YP\4XI  
    z)<pqN  
    Cs1%g  
    *09\\ G  
     通过折射率调制层传播的传播模型: "13 :VTs[5  
    - 薄元近似 vRb(eg  
    - 分步光束传播方法。 sw qky5_K  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 wJeqa  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 {HRxyAI!  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 G5QgnxwP2  
    C_^R_  
    7.模拟结果 `i>B|g-  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    &PQ{e8w  
    H:{(CY?t  
    8.结论 :DX/r  
    vu.S>2Wv  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 rD(ep~^M  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 .J6 j"  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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