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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 7qXgHrr0|U  
    n3b@ 6V1_  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 G';oM;~/|  
     设计包括两个步骤: r?/>t1Z  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 o ohf))  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 W {dx\+  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 S^D ~A8u  
    rzaEVXbz1  
    ;N"XW=F4e  
    照明光束参数 s9`T%pg  
    KS(T%mk\  
    3+ i(fg_  
    波长:632.8nm u{p\8v%7  
    激光光束直径(1/e2):700um
    /e{Oqhf[n  
    gi;V~>kh  
    理想输出场参数 p-KuCobz]  
    XcfTE m  
    NKd@ Kp`,  
    直径:1° }.b[az\T  
    分辨率:≤0.03° `(o1&  
    效率:>70% Ha C?,  
    杂散光:<20% $V~%$  
    [sKdIw_  
    m_Fw ;s/9  
    2.设计相位函数 4qm5`o\hb  
    =h_4TpDQ  
    4a2&kIn  
    u5CT7_#)  
     相位的设计请参考会话编辑器 D *LZ_  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 / V {w<  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 F~l3?3ZV  
    BxZop.zwE(  
    3.计算GRIN扩散器 ([9h.M6v  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 <&L;9fr  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 hU=J^Gi0  
     最大层厚度如下: HWefuj  
    giu~"#0/F  
    4.计算折射率调制 Aoo'i  
    BEI/OGp  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 ReK@~#hLY  
    s~]nsqLt9p  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 ^c(PZ,/#JB  
    J<`RlDI  
    'Yd%Tb|*  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 <hK$Cf_  
    q90S>c,  
    TM^1 {0;r5  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 n~)Y%xe[U  
    )$]+R?v  
    f$ Ap\(.  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 U/iAP W4U  
    f^%E]ki  
    M5x!84  
    ?D\%ZXo  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 Czci6 Lz  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 Kq S2  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 x!$,Hcph,  
    5AjK7[<L  
    5.X/Y采样介质 eLC&f}  
    G1nW{vce  
    RV$+g.4  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 / P:Hfq  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 =:g^_Hy  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 zhCI+u4/qz  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    yCkm|  
    R_ 1C+  
    Gz6GU.IyQy  
    ?X9 =4Z~w  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 %zelpBu+  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 LNN:GD)>  
     应该选择像素化折射率调制。 hL3,/^;E,  
    SQ Fey~  
    $3[cBX.=  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 r2](~&i2  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 h#n8mtt&i  
    eB\r/B]  
    6.通过GRIN介质传播 6m.Ku13;  
    j0%0yb{-^  
    x@Y2jM  
    I| j tpv}  
     通过折射率调制层传播的传播模型: /SUV'J)  
    - 薄元近似 &Bp\kv  
    - 分步光束传播方法。 3'"M31iA  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 wr$}AX  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 xk*3,J6BK  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 V- cuG.  
    .#:,j1L"53  
    7.模拟结果 QB.'8B_  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    8@fDn(]w  
    R_qo]WvR;  
    8.结论 4'd{H Rs  
    L@z !,r,  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 jzj{{D[^  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 HEuM"2{DMM  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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