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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 g|+G(~=e|  
    N{q'wep  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 P' J_:\  
     设计包括两个步骤: V)a6H^l  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 71 A{"  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 a)TNVm^  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 2i>xJMW  
    C$(t`G  
    F)%; gzs  
    照明光束参数 #!hpe^t  
    _c(=>  
    92VAQU6  
    波长:632.8nm ? {&#l2  
    激光光束直径(1/e2):700um
    kfVG@o?o  
    8:A<PV!+  
    理想输出场参数 vj_oMmjKw  
    NMj `wQ`M+  
    6F(yH4  
    直径:1° &U,f~KJ  
    分辨率:≤0.03° &FZe LIt  
    效率:>70% (Dn-vY'  
    杂散光:<20% wG|3 iFK  
    tL).f:?  
    siG?Sd_2  
    2.设计相位函数 NrU -%!Aw  
    _cJ{fYwYU  
    7<tqT @c  
    BsRas  
     相位的设计请参考会话编辑器 %-*vlNC)  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 XWvs~Xw@  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 SP*5 W)6  
    a-} %R  
    3.计算GRIN扩散器 >3kR~:;  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 2+P3Sii  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 iwVra"y  
     最大层厚度如下: y,r`8  
    ef. lM]cO  
    4.计算折射率调制 QP;b\1 1m  
    0F3>kp4u  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 I{AU,  
    'LOqGpmVc  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 ?I0 i%nH  
    !'gz&3B~h  
    ^&<*$Ai~  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 czb%%:EJs|  
    TZP{=v<  
    @uE=)mP@  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 IMR|a*=`c  
    X or ,}. w  
    IL=v[)en4  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 ZB2'm3'bh  
    NY;UI (<]  
    e-')SB  
    0>;#vEF*1  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 ~ghz%${`  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 ICTtubjV"  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 9j2I6lGQ  
    {UmCn>c  
    5.X/Y采样介质 =c.q]/M  
    ]dK]a:S  
    aK&+p#4t  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 h.9Lh ;j  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 _]S6>  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 0oJ^a^|  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    Fp6Y Y  
    X@:fW  @  
     ke#;1  
    ,SM- Z`'  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 )ra66E  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 (rG1_lUDu  
     应该选择像素化折射率调制。 j'i42-Lt/p  
    {e%abr_B  
    3uw7 J5x  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 @NNLzqqY  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 :.Qe=}9  
    xI: 'Hk1  
    6.通过GRIN介质传播 \zI&n &T  
    QP[a^5;Tt  
    h3lDDyu  
    V0 F30rK  
     通过折射率调制层传播的传播模型: KYu(H[a  
    - 薄元近似 !~N4}!X3du  
    - 分步光束传播方法。 ]k: m2$le  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 W #L"5pRg  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 8-"5|pNc  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 bX H^Bm  
    $uw+^(ut  
    7.模拟结果 i+[3o@  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    <gdgcvd  
    V0Z7o\-J  
    8.结论 gc@#O#K~h^  
    G\+nWvV7  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 ~J-|,ZMd  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 P"x-7>c>Y  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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