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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 H3\4&q  
    Wi7!J[ B  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 VBnD:w"z  
     设计包括两个步骤: p}H:t24Cr5  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 WzG]9$v &  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 a,mG5bQ!  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 ;e Iqxe>  
    Q+@/.qJ  
    hWc`4xdl  
    照明光束参数 .)=T1^[hI  
    NZT2ni4  
    >=Bl/0YH  
    波长:632.8nm [bM$n m  
    激光光束直径(1/e2):700um
    eb1WTK@  
    X!H[/b:1O  
    理想输出场参数 Q1f)uwh  
    %G6Q+LMwm  
    s/Ne,v  
    直径:1° TwPp Z@  
    分辨率:≤0.03° 7`eg;s^  
    效率:>70% ,~8&0p  
    杂散光:<20% 6sceymq  
    W5i{W'  
    ~dc o  
    2.设计相位函数 pQ~Y7  
    +vf~s^  
    7x> \/l(  
    Q9T/@FX  
     相位的设计请参考会话编辑器 U$,-F**  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。  &<nj~BL  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 PmjN!/  
    ycD.X"  
    3.计算GRIN扩散器 ^*?mb)  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 lZ,w#sqbY  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 <Wr n/%tL  
     最大层厚度如下: =Jyi9VN=&  
    IKo,P$ PE  
    4.计算折射率调制 ]?p 9)d=%<  
    uuaoBf  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 ,I|3.4z  
    ]mzghH:E  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 6(pa2  
    t[e`wj+qz  
    m!Y4+KTwD`  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 C>NLZM T  
    x*'2%3C~  
    Mi^/`1  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 wXR7Ifrv  
    uKA-<nM._c  
    M4H~]Ftn  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 S =5br  
    7&`Yl[G  
     E\5Cf2Ox  
    _^ZBSx09)  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 ,gO(zI-1  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 TI5<' U)  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 F[q)ME+`)  
    YMG~k3Yb  
    5.X/Y采样介质 e6`g[Ap  
    MSqW {  
    E !EENg  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 S^Mx=KJG  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 f]4j7K!e]  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 V=d~}PJ>  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    `RlMfd  
    aG&t gD{  
    rtxG-a56Q  
    'w"hG$".  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 @1vpkB~ w  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 4k_y;$4WN  
     应该选择像素化折射率调制。 he! Uq%e  
    ooA%/  
    P. Kfoos  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 yedEI[_4  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 A.+Qa  
    WSxE/C|[  
    6.通过GRIN介质传播 dy.U;  
    _aP 2gH  
    45 B |U  
    eWGaGRem  
     通过折射率调制层传播的传播模型: 3D-VePM=`  
    - 薄元近似 XXg~eu?  
    - 分步光束传播方法。 fB= j51Lw  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 M@]@1Q.p  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 bLsN?_jy  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 cGM?r}zJ  
    ">FuCvQ  
    7.模拟结果 nN%Zed2O@6  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    /?%1;s:'  
    exxH0^  
    8.结论 =))VxuoN  
    je;|zfe]  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 G'T: l("l  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 Z,I0<ecaD  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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