1.模拟任务 yl<=_Q z:n
JN%Qb 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
nP=/XiCj 设计包括两个步骤:
7Aw <: - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
Nf~B 1vkp - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
&=8ZGjR< } 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
<!u(_Bxw/ oOQan hHt.No 照明光束参数 hO3C _} 6yaWxpW )sEAPIka 波长:632.8nm
y9:o];/ 激光光束直径(1/e2):700um
d{^K8T3 I#yd/d5^ 理想输出场参数 [o'}R`5) or`"{wop ]sI{+$~:c 直径:1°
wRWKem= 分辨率:≤0.03°
`Q^Vm3h 效率:>70%
.|ZnU]~T 杂散光:<20%
,"5p=JX` Z}O0DfT; Io;26F"" 2.设计相位函数 Z=?qf$.} !hPe*pPVV) qmpU{fs a'@?c_y;$ 相位的设计请参考会话编辑器
7"_gX Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
6dCqS 设计没有离散相位级的phase-only传输。
6? (8KsaN `^E(P1oJ3 3.计算GRIN扩散器 ]_)=xF19 GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
?@_,_gTQ 最大折射率调制为△n=+0.05。
iQaF R@ 最大层厚度如下:
X?"Ro`S r(=3yd/G$ 4.计算折射率调制 "Zicac@N |}roR{gc| 从IFTA优化文档中显示优化的传输
)2,\Y t#J
#DyY5 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
[26([H
t#g6rh& }oTac 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
">RDa<H] )@Yr HS4
D#9W [6 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
0 g(hY: 4a~9?}V: QPa&kl 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
7"
cgj# <<![3&p# g'b)] Q 2?7a\s 数据阵列可用于存储折射率调制。
ex2*oqAdX 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
T%F8=kb-9 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
J_mpI.^Bsf 9X{aU)"omQ 5.X/Y采样介质 J`3pXc$.
Zt[1RMO 'x10\Q65[ GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
7"y"%+*/ 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
,G,T&W 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
f;%4O' 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
i_&&7. uEuK1f` *%cI,}% ji2if.t@ 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
[XQoag;! 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
;z7iUke0% 应该选择像素化折射率调制。
vexQP}N0 D058=}^HE S*CRVs 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
EY!aiH6P 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
Oox5${#^ d=wzN3 ;- 6.通过GRIN介质传播 g;bkVq \Jv6Igu =RUKN38 i@_|18F]` 通过折射率调制层传播的传播模型:
g!%csf - 薄元近似
Ph.$]yQCc] - 分步光束传播方法。
Px K 对于这个案例,薄元近似足够准确。
7z6y n=B 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
+Mv0X%(N 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
n|L.dBAs] f.'o4HSj 7.模拟结果 2Sb~tTGz79 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
G#CWl),= W?/7PVGv5h 8.结论 ]]%CO$`T[ |)IN20 VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
)r1Z}X(#d 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
^ tm,gh 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。