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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 0r ; nz]'  
    XHM"agrhSQ  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 idS RWa  
     设计包括两个步骤: T\!SA  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 SzlfA%4+GR  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 yO;C3q  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 .0E4c8R\X  
    51opP8  
    ]MLLr'6?  
    照明光束参数 !b->u_  
    P&3/nL$9N  
    *.]E+MYi*  
    波长:632.8nm K}<!{/fi)  
    激光光束直径(1/e2):700um
    #K1BJ#KUt  
    % rY8  
    理想输出场参数 -f2`qltjb  
    50GYL5)q  
    kqvJ&7  
    直径:1° UxcDDa/j2T  
    分辨率:≤0.03° 9>&tMq  
    效率:>70% hAr[atu87  
    杂散光:<20% MupW=3.38  
    QiE<[QP{g  
    +F~0\#d  
    2.设计相位函数 -Bo~"q  
    d6@jEa-  
    ?hJsN  
    Ym.l@(  
     相位的设计请参考会话编辑器 -iDEh_pts  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 dHq )vs,L  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 QYTTP6 Gz+  
    q$?7 ~*M;x  
    3.计算GRIN扩散器 b;J0'o^G|  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 @>Ghfh>~D  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 k=mT!  
     最大层厚度如下: mo#0q&ZQ  
    Vo 6y8@\  
    4.计算折射率调制 -RH4y 2  
    Cj !i)-  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 {y&\?'L'  
    N+s?ZE*  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 YNg\"XjJM<  
    Oh/b?|imG  
    02W4-*)  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 zyZok*s  
    (~7m"?  
    @4_rxu&  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 " _:iK]  
    prlyaq;4  
    DN"S,  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 s("Cn/ZkS  
    A3MZxu=':3  
    ii_|)udz  
    O2q=gYX>\  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 v LBee>$  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 fVH*dX'Jz  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 /lr1hW~Dbk  
    Txt%nzIu  
    5.X/Y采样介质 bB;~,W&E1  
    !dyxE'T2  
    t+3   
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 <V$Y6(uMs  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 L}}=yh6r  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 :F^$"~(,  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    _K0izKTA.  
    j<ABO")v  
    @ ],6SKbG6  
    ~?AC:  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 [y|^P\D  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 ]pOYVf *$  
     应该选择像素化折射率调制。 - E8ntY-  
    !2zo]v4?  
    H.YIv50E  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 dThR)Z'=  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 5JBB+g  
    n|70x5Z?}J  
    6.通过GRIN介质传播 q_<*esZ,  
    L$Hx?^3  
    yhcNE8mkQ/  
    {{V ;:+62  
     通过折射率调制层传播的传播模型: +{,N X  
    - 薄元近似 ny12U;'s,  
    - 分步光束传播方法。 r5MxjuOB1  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 HGO#e  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 ydwK!j0y  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 (NH8AS<  
    ,f8}q]FTA  
    7.模拟结果 (3 IZ  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    `z9)YH  
    7?6xPKQ)H  
    8.结论 81GQijq  
    #4P8Rzl$/  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 K\RWC4  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 {0is wq'J  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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