1.模拟任务 78a!@T1# R&Mv|R 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
C/AqAW1
设计包括两个步骤:
;\~{7 9c - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
rw>X JE - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
%@JNX}Y' 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
zGKDH=Yy ;
i=67 my+y<C-o` 照明光束参数 W[B%,Km%] pZ4]KxX@ Gd^K,3:. T 波长:632.8nm
I{>U 7i
5 激光光束直径(1/e2):700um
R7axm<PR= 4?Mb>\n%<^ 理想输出场参数 $r0~&$T& "XQj~L dMkDNaH, 直径:1°
rzmd`)g 分辨率:≤0.03°
7+^9"k7 效率:>70%
cspO5S># 杂散光:<20%
7kDX_,i 5:[<pY!s# 8j~:p!@
2.设计相位函数 b(@[Y(_R Ml &Cr (S~|hk^ BGAqg=nDV 相位的设计请参考会话编辑器
)C>4?) Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
]WLQ q4q 设计没有离散相位级的phase-only传输。
Ec!fx\ %C&HR2 3.计算GRIN扩散器 iCA!=%M@D GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
m(Hb! RT 最大折射率调制为△n=+0.05。
~`J/618 最大层厚度如下:
NpS*]vSO -9Iz$(>a 4.计算折射率调制 MF+J3) N^,@s"g 从IFTA优化文档中显示优化的传输
P}=u8(u a%3V<
"f 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
R7'a/ bcgh}D CH
|A^!Zm 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
z}XmRc_Ko _Ju@<V$
Q_p!;3 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
UsT+o Z<7FF}i \etuIFQ#U 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
"T>74bj_|Q ^T}6oUd Q)"L 8v
v ~( %TQY5 数据阵列可用于存储折射率调制。
}1EfyR 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
a3o4> 9 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
8;'fWV?
U dV{N,;z 5.X/Y采样介质 b"`Vn,
O0`k6$=6r "wk~[> GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
[c6I/U=- 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
Fi8'3/q-^ 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
)ZkQWiP- 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
FcR(uv< gHU/yi!T Kv**(~FNnH oBVYgv) 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
EH;w
<LvT 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
E_VLI'Hn? 应该选择像素化折射率调制。
SoS GQ&k etY/K0 7nh,j <~;2 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
-49z.(@ki 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
L\@SX?j q%HT)^F9oO 6.通过GRIN介质传播 < 8yv( zbL!q_wO fX)C8J^=G \/8 I6a= 通过折射率调制层传播的传播模型:
<OG rC .k} - 薄元近似
I+ZK \?Rs - 分步光束传播方法。
~WS;)Q0| 对于这个案例,薄元近似足够准确。
3q*y~5&I 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
Y6(I
%hE` 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
+ V:P-D v634{:'e 7.模拟结果 d8 1u 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
\Y[ ]e0yC 8.结论 >Le L%$
x Bn+-V VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
w#v8a$tT 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
,Lt+*!;m 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。