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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 X"yLo8y8$  
    7uYJ _R  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 1Eh (U  
     设计包括两个步骤: j#29L"  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 ^27r-0|l^  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 }z}oVc  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 ,2"-G";!f\  
    lOql(ZH`w  
    Y}PI{PN  
    照明光束参数 NI3_wV  
    -e30!A  
    J@52<.>6  
    波长:632.8nm 8dP^zjPj  
    激光光束直径(1/e2):700um
    WUKYwA/t  
    KATt9ox@  
    理想输出场参数 4~D?F'o  
    ~h -0rE  
    op;OPf,  
    直径:1° TC'tui  
    分辨率:≤0.03° l9\ *G;  
    效率:>70% -Zkl\A$>  
    杂散光:<20% 'RXh E  
    N\rbnr  
    +Ibcc8Qud  
    2.设计相位函数 s~,Ypo?  
    >A#]60w.  
    u[})|x*N  
    c5pF?kFaD  
     相位的设计请参考会话编辑器 &;|/I`+  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 Eb[*nWF=  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 Y`w+?}(M  
    y^?7de}  
    3.计算GRIN扩散器 >HXT:0  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 V|)3l7IC<  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 ,..&j+m  
     最大层厚度如下: $)mK]57  
    # 2s$dI  
    4.计算折射率调制 7?xTJN)G  
    uL`;KD  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 :>]= YE  
    GG-7YJ  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。  [td)v,  
    7' ]n_-fu  
    /0IvvD!7N  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 z1K@AaRx  
    1TJ2HO=Y  
    l~.ae,|7  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 0"#'Z>"  
    sA[hG*#/S  
    B/6wp^#VX  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 R.-2shOE'  
    q#$Al  
    INZs DM 9  
    >+ul LQqe  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 Wxx? iW ,  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 OrNi<TY>  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 2r4owB?  
    9ldv*9v  
    5.X/Y采样介质 V i V3Y  
    @z[,w`  
    qj/ pd 7\  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 YMb\v4  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。  rl"$6{Z}  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 p~Di\AQ/  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    yhxen  
    I&%{%*y  
    4>x]v!d  
    ;6P #V`u  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 }86&? 0j.  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 l+`f\},  
     应该选择像素化折射率调制。 o."k7fLB  
    LX;w~fRr.  
    ]zK'aod  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 Y>W$n9d&G2  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 (xxNQ] l-(  
    RvrZtg5  
    6.通过GRIN介质传播 O|wu;1pQ  
    Ad$CHx-  
    5G  @  
    ~QzUQYG*  
     通过折射率调制层传播的传播模型: wiHGTaR  
    - 薄元近似 {S[+hUl  
    - 分步光束传播方法。 VAPRI\uM;  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 !'scOWWn  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 ,t?c=u\5  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 [Ume^  
    %8C,9q  
    7.模拟结果 c$fi3O  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    G4O $gg  
    CWKN0HB  
    8.结论 dZ^(e0& :H  
    o^ Z/~N  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 }#'I,?_k  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 "wwAbU<  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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