1.模拟任务 X"yLo8y8$ 7uYJ_R 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
1Eh(U 设计包括两个步骤:
j#29L" - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
^27r-0|l^ - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
}z}oVc 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
,2"-G";!f\ lOql(ZH`w Y}PI{PN 照明光束参数 NI3_wV -e30! A J@52<.>6 波长:632.8nm
8dP^zjPj 激光光束直径(1/e2):700um
WUKYwA/t KATt9ox@ 理想输出场参数 4~D?F'o ~h -0rE op;OPf, 直径:1°
TC'tui 分辨率:≤0.03°
l9\
*G; 效率:>70%
-Zkl\A$> 杂散光:<20%
'RXhE N\rbnr +Ibcc8Qud 2.设计相位函数 s~,Y po? >A#]60w. u[})|x*N c5pF?kFaD 相位的设计请参考会话编辑器
&;|/I`+ Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
Eb[*nWF= 设计没有离散相位级的phase-only传输。
Y`w+?}(M y^?7de} 3.计算GRIN扩散器 >HXT:0 GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
V |)3l7IC< 最大折射率调制为△n=+0.05。
,..&j+m 最大层厚度如下:
$)mK]57 #2s$dI 4.计算折射率调制 7?xTJN)G uL`;KD 从IFTA优化文档中显示优化的传输
:>] =YE GG-7YJ 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
[td)v, 7']n_-fu /0IvvD!7N 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
z1K@AaRx 1TJ2HO=Y
l~.ae,|7 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
0"#'Z>" sA[hG*#/S B/6wp^#VX 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
R.-2shOE' q#$Al INZsDM 9 >+ulLQqe 数据阵列可用于存储折射率调制。
Wxx?iW , 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
OrNi<TY> 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
2r4owB? 9ldv*9v 5.X/Y采样介质 V i V3Y
@z[,w` qj/
pd
7\ GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
YMb\v4 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
rl"$6{Z} 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
p~Di\AQ/ 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
yhxen I&%{%*y 4>x]v!d ;6P#V`u 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
}86&?
0j. 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
l+`f\ }, 应该选择像素化折射率调制。
o."k7fLB LX;w~fRr. ]zK'aod 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
Y>W$n9d&G2 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
(xxNQ]
l-( RvrZtg5 6.通过GRIN介质传播 O|wu;1pQ Ad$CHx- 5G
@ ~QzUQYG* 通过折射率调制层传播的传播模型:
wiHGTaR - 薄元近似
{S[+hUl - 分步光束传播方法。
VAPRI\uM; 对于这个案例,薄元近似足够准确。
!'scOWWn 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
,t?c=u\5 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
[Ume^ %8C,9q 7.模拟结果 c$fi3O 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
G4O
$gg CWKN0HB 8.结论 dZ^(e0& :H o^Z/~N VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
}#'I,?_k 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
"wwAbU< 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。