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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 7,&M6<~  
    MY" 8!  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 &5o ln@YL  
     设计包括两个步骤: r*XEne  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 /#xx,?~xx0  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 y ZR\(\?<  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 'n4$dv% q  
    T?V!%AqY:  
    Rt2<F-gY  
    照明光束参数 9L9+zs3 k  
    T+U,?2nF:  
    @fO[{V  
    波长:632.8nm EQ> ]~  
    激光光束直径(1/e2):700um
    R8![ $mkU  
    TG@ W:>N(  
    理想输出场参数 xY94v  
    `M.\D  
    EX9os  
    直径:1° 0s'H(qE,_  
    分辨率:≤0.03° @Rp#*{  
    效率:>70% /7[X_)OG  
    杂散光:<20% 5T- N\)@  
    h k.Zn.6A'  
    &yN/ AY`U  
    2.设计相位函数 -N~eb^3[c  
    95%QF;h  
    Vp j[)W%L  
    8ZPjzN>c6  
     相位的设计请参考会话编辑器 0\2#(^  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 -K*&I!  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 1DT}_0{0Q  
    =!{ E!3>*D  
    3.计算GRIN扩散器 |VxO ,[~  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 9qXKHro  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 LOf)D7T  
     最大层厚度如下: (D1$&  
    $++SF)G1]_  
    4.计算折射率调制 NT&sk rzW  
    eUeOyC  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 MWZH-aA(.  
    dD.;P=AP  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 aq-R#q  
    D +Ui1h-  
    nOj0"c  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 |QcE5UC  
    Xah-*]ET  
    }G53"  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 CE;J`;  
    NUp,In_  
    X8Y)5,`s  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 *j"u~ N F  
    |];f?1  
    5,Hj$v7fe  
    vE<z0l  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 )o%sN'U,1  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 m(o^9R_=^9  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 ?4A$9H  
    (dgBI}Za  
    5.X/Y采样介质 ~D1&CT#s  
    R7Z7o4jg  
    ~us1Df0bp  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 yZcnky  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 u-%|ZSg  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 7x5wT ?2W  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    [JyhzYf\   
    ~H~iKl}|7  
    o`+$h:zm@  
    L2<IG)oXU  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 H2 Gj(Nc-  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 tS:/:0HnA)  
     应该选择像素化折射率调制。 k=M_2T'  
    2vh@KnNU  
    {#C)S&o)6  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 fjP(r+[  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 X5w_ }Nhe  
    8o%g2 P9.  
    6.通过GRIN介质传播 [8v>jQ)  
    'Tbdo >y  
    XSoHh-  
    -J' 0qN!  
     通过折射率调制层传播的传播模型: CEHtr90P  
    - 薄元近似 QpI\\Zt6  
    - 分步光束传播方法。 U *K6FWqiB  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 `%ulorS  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 U6x$R O!  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 KbTd`AIL  
    ,:=g}i  
    7.模拟结果 7GG:1:2+>  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    iRK&-wn  
    pr?k~Bn  
    8.结论 z`esst\aV  
    e~P4>3  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 UVlh7wjg  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 #ni:Bwtl{  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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