1.模拟任务 7qXgHrr0|U n3b@6V1_ 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
G';oM;~/| 设计包括两个步骤:
r?/>t1Z - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
o
ohf)) - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
W {dx\+ 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
S^D ~A8u rzaEVXbz1 ;N"XW=F4e 照明光束参数 s9`T% pg KS(T%mk\ 3+ i(fg_ 波长:632.8nm
u{p\8v%7 激光光束直径(1/e2):700um
/e{Oqhf[n gi;V~>kh 理想输出场参数 p-KuCobz] XcfTE
m NKd@Kp`, 直径:1°
}.b[a z\T 分辨率:≤0.03°
`(o1& 效率:>70%
Ha
C?, 杂散光:<20%
$V~%$ [sKdIw_ m_Fw;s/9 2.设计相位函数 4qm5`o\hb =h_4TpDQ 4a2&kIn u5CT7_#) 相位的设计请参考会话编辑器
D *LZ_ Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
/
V{w< 设计没有离散相位级的phase-only传输。
F~l3?3ZV BxZop.zwE( 3.计算GRIN扩散器 ([9h.M6v GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
<&L;9fr 最大折射率调制为△n=+0.05。
hU=J^Gi0 最大层厚度如下:
HWefuj giu~"#0/F 4.计算折射率调制 Aoo'i BEI/OGp 从IFTA优化文档中显示优化的传输
ReK@~#hLY s~]nsqLt9p 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
^c(PZ,/#JB J<`RlDI 'Yd%Tb|* 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
<hK$Cf_ q90S>c,
TM^1{0;r5 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
n~)Y% xe[U )$]+R?v f$Ap\(. 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
U/iAP W4U f^%E]ki M5x!84 ?D\%ZXo 数据阵列可用于存储折射率调制。
Czci6Lz 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
KqS2 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
x!$,Hcph, 5AjK7[<L 5.X/Y采样介质 eLC&f}
G1nW{vce RV$+g.4 GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
/ P:Hfq 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
=:g^_Hy 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
zhCI+u4/qz 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
yCkm| R_1C+ Gz6GU.IyQy ?X9
=4Z~w 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
%zelpBu+ 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
LNN:GD)> 应该选择像素化折射率调制。
hL3,/^;E , SQ
Fey~ $3[cBX.= 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
r2](~&i2 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
h#n8mtt&i eB\r/B] 6.通过GRIN介质传播 6m.Ku13; j0%0yb{-^ x@Y2jM I|j tpv} 通过折射率调制层传播的传播模型:
/SUV'J) - 薄元近似
&Bp\kv - 分步光束传播方法。
3'"M31iA 对于这个案例,薄元近似足够准确。
wr$}AX 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
xk*3,J6BK 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
V-cuG. .#:,j1L"53 7.模拟结果 QB.'8B_ 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
8@fDn(]w R_qo]WvR; 8.结论 4'd{H
Rs L@z !,r, VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
jzj{{D[^ 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
HEuM"2{DMM 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。