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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 <)u`~$n2  
    /Y'Vh^9/T  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 @&1ZB6OCb:  
     设计包括两个步骤: G*-b}f  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 c&AygqN  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 ]`kmjn  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 s (zL   
    jg.QRny^  
    ig/%zA*Bo  
    照明光束参数 KU8J bl*   
    w)Q0_2p.  
    #)C[5?{SNq  
    波长:632.8nm 1XD,uoxB  
    激光光束直径(1/e2):700um
    #wV8X`g  
    nPye,"A Ol  
    理想输出场参数 _NMm/]mN /  
    <Dwar>}  
    B oC5E#;G  
    直径:1° @ Wd9I;hWv  
    分辨率:≤0.03° %`r?c<P}  
    效率:>70% LN@F+CyDc  
    杂散光:<20% DP3PYJ%+B  
    xO&eRy?%  
    y~F,0"N\r  
    2.设计相位函数 ;*:Pw?'  
    n p\TlUc  
    go'-5in(  
    dvt9u9Vg=  
     相位的设计请参考会话编辑器 l]8D7(g  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 nv@8tdrc  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 ~])t 6i  
    v 8$>rwB  
    3.计算GRIN扩散器 5 u*-L_  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 g K[YQXfTy  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 U$_xUG  
     最大层厚度如下: ][?G/*k  
    oxz OA  
    4.计算折射率调制 ]Bjyi[#bg  
    (X?%^^e!  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 C/TF-g-_Y  
    m<j8cJ(  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 NiU2@zgl  
     :}@g6   
    |MFF7z{%  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 M#As0~y  
    f;1K5Y  
    G0^2Wk[  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 ;|vpwB@B  
    %<an9WMF  
    >h k=VyU;  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 il:$sd  
    (^u1~1E 5  
    FRg^c kb"  
    L1Iz<>  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 DGAX3N;r6{  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 v" OY 1<8  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 ?34 e-  
    .pN`;*7`  
    5.X/Y采样介质 &Nczv"TM  
    V- Cv,8   
    ;uw Ryd  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 %2XHNW  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 ;)!Sp:mHX  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 #ZYVc|sT+  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    2ioQb`=  
    vfq%H(  
    WC.t_"@  
    BbgnqzU  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 )0Me?BRp  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 JWMpPzs  
     应该选择像素化折射率调制。 jC7&s$>Q"g  
    O'W0q;rT  
    ($}`R xj1@  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 ub;ZtsM,%  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 !!`!|w  
    U`Wauv&  
    6.通过GRIN介质传播 ^V#@QPK9  
    /4 vG3  
    TJ1+g \  
    4)U.5FBk )  
     通过折射率调制层传播的传播模型: 1. rj'  
    - 薄元近似 m"o ;L3  
    - 分步光束传播方法。 pb$~b\s]=  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 #1c_evH  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 uwjGDw  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 zJ)*Z,7  
    {6~l$  
    7.模拟结果 D,g1<:<  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    2EfF=Fm>  
    `~ * @q!  
    8.结论 <oo  
    DXa-rk8  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 LWHd~"eU  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 3Ei5pX=g  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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