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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 W^l-Y %a/o  
    -FaJ^CN~  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 @:#eb1 <S  
     设计包括两个步骤: @Jw-8Q{  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 -uf|w?  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 uK Hxe~  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 u'BaKWPS  
    jNk%OrP]  
    T_4/C2  
    照明光束参数 q(84+{>B  
     }.6[qk  
    aPL+=58r  
    波长:632.8nm W'M*nR|xo  
    激光光束直径(1/e2):700um
    Y76gJ[y jn  
    6=Otq=WH  
    理想输出场参数 sQZhXaMa $  
    61U09s%\0  
    )Pv%#P-<  
    直径:1° + {'.7#  
    分辨率:≤0.03° Qo|\-y-#  
    效率:>70% }O p; g^W  
    杂散光:<20% o }m3y  
    EfT=?  
    TB31- ()  
    2.设计相位函数 |`FY1NN   
    ?}Y]|c^W  
    =Dj#gV  
    xyXa .  
     相位的设计请参考会话编辑器 MF'JeM;H  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 f _:A0  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 )boE/4  
    g<qaXv  
    3.计算GRIN扩散器 )t%b838l%  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 7zj{wp!  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 {n=|Db~S  
     最大层厚度如下: 2~[juWbz  
    m]&SNz=  
    4.计算折射率调制 DHRlWQox  
    4skD(au8  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 k}rbim  
    FP>2C9:d  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 -'Mf\h 8  
    `d(ThP;g  
    vih9 KBT  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 0*v2y*2V  
    \{D" !e  
    w!XD/j N  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 xyxy`qRA  
    HVAYPerH  
    u%!@(eKM-  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 %l%HHT  
    ptaKf4P^r  
    A=>u 1h69  
    y)<q /  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 8?C5L8)  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 |l!aB(NW  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 "wc<B4"  
    J~- 4C)  
    5.X/Y采样介质 v-Sd*( 6  
    eV~goj  
    S]{oPc[7  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 !_(Tqyg&  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 #A.@i+Zv  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 IR bfNq^:  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    )`}:8y?  
    %XTI-B/K  
    y?# Loe  
    c`Wa^(  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 S tyfB  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 eQ}4;^;M-  
     应该选择像素化折射率调制。 @ .KGfNu  
    PaN"sf  
    E)3NxmM#  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 YbLW/E\T  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 /7LR;>Bj  
    =Runf +}  
    6.通过GRIN介质传播 {:W$LWET  
    B\n[.(].r  
    5(8@%6>ruj  
    4/)k)gLI  
     通过折射率调制层传播的传播模型: ZG@q`<:j  
    - 薄元近似 /Q )\+  
    - 分步光束传播方法。 ,2)6s\]/b  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 GH xp7H  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 yppo6HGD  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 8i,K~Bu=  
    fn!KQ`,#  
    7.模拟结果 TB^$1C  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    KG5>]_GH  
    4Xv*wB1  
    8.结论  yOKI*.}  
    ]+$?u&0?w  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 6`-jPR  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 bYPKh  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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