1.模拟任务 9qnuR'BDu ,:c:6Y^ 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
+[>yO _} 设计包括两个步骤:
Q-M
rH - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
&
8ccrw - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
@gs26jX~2} 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
N-]\oMc2 FrgW7`s[A JqL<$mSep 照明光束参数 yW%&_s0 37%`P\O;s 5wT',U"+ 波长:632.8nm
;Gjv9:hUn 激光光束直径(1/e2):700um
(PRaiE |3s.;wK 理想输出场参数 +I^+k " '~ jy J&
1X 直径:1°
(3)C_Z 分辨率:≤0.03°
THrc
H 效率:>70%
xmCm3ekmpC 杂散光:<20%
|U8>:DE l c2tEz&=G HY*l 4QK 2.设计相位函数 ~,(0h:8 \W3+VG2cA oA(. vr i n[n Aa 相位的设计请参考会话编辑器
fs]#/* RR Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
'?&B5C 设计没有离散相位级的phase-only传输。
*O"%tp6 X7'h@>R 3.计算GRIN扩散器 QT7w::ht GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
^4n2
-DvG 最大折射率调制为△n=+0.05。
dbf^A1HI 最大层厚度如下:
ui s:\Uc 9$B)hrJo
4.计算折射率调制 @ef//G+Z" Y!K^-Y} 从IFTA优化文档中显示优化的传输
e["Z!D_H |U;w !0 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
#o(?g-3 ~$ cm9> >=Rd3dgDG 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
?^e*UJNM )?=
kb
?M*C*/R 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
X m_Ub>N5 DzX6U[= _*OaiEL+: 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
|THkS@Br -o!saX< -y7l?N5F> Z_eqM4{ 数据阵列可用于存储折射率调制。
JC Cx 5 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
.HH,l 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
IdN%f]=/ =CD:.FG. 5.X/Y采样介质 $=;bccIob
^^j|0qshL H4K(SGx GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
VC_3 ll]vr 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
g%<{G/Tz 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
gn;nS{A 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
)VSGqYr# juve9HaW 'xu7AKpU) j,gM+4V^ 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
A61-AwvF8- 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
qqO10~Xc 应该选择像素化折射率调制。
6 ^6uK y7}~T!UyfF 7@e[:>e 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
A-@-?AR 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
rsq'60 Vt$ $ceu 6.通过GRIN介质传播 q(${jz4w [8om9 Z3 0zq\ j "~i#9L/H 通过折射率调制层传播的传播模型:
6P/9Vh j' - 薄元近似
<)0LwkFtB - 分步光束传播方法。
plz=G}Y 对于这个案例,薄元近似足够准确。
[3bwbfHhi 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
@Z1?t%1 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
g'l7Jr3 E!(`275s 7.模拟结果 '
m#Ymp 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
)Sh;UW @?($j)9} 8.结论 `(w kqa 0 ^-b} VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
iR4,$Nn> 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
OkO@BWL 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。