1.模拟任务 0r ;
nz]' XHM"agrhSQ 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
idS
RWa 设计包括两个步骤:
T\!SA - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
SzlfA%4+GR - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
yO;C3q 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
.0E4c8R\X 51opP8 ]MLLr'6? 照明光束参数 !b->u_ P&3/nL$9N *.]E+MYi* 波长:632.8nm
K}<!{/fi) 激光光束直径(1/e2):700um
#K1BJ#KUt %
r Y8 理想输出场参数 -f2`qltjb 50GYL5)q kqvJ&7 直径:1°
UxcDDa/j2T 分辨率:≤0.03°
9>&tMq 效率:>70%
hAr[atu87 杂散光:<20%
MupW=3.38 QiE<[QP{g +F~0\#d 2.设计相位函数 -Bo~"q d6@jEa- ?hJsN Ym.l@( 相位的设计请参考会话编辑器
-iDEh_pts Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
dHq )vs,L 设计没有离散相位级的phase-only传输。
QYTTP6 Gz+ q$?7
~*M;x 3.计算GRIN扩散器 b;J0'o^G| GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
@> Ghfh>~D 最大折射率调制为△n=+0.05。
k=mT! 最大层厚度如下:
mo#0q&ZQ Vo 6y8@\ 4.计算折射率调制 -RH4y 2 Cj !i)- 从IFTA优化文档中显示优化的传输
{y&\?'L' N+s?ZE* 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
YNg\"XjJM< Oh/b?|imG 02W4-*) 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
zyZok*s (~7m"?
@4_rx u& 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
" _:iK] prlyaq;4 DN"S, 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
s("Cn/ZkS A3MZxu=':3 ii_|)udz O2q=gYX>\ 数据阵列可用于存储折射率调制。
vLBee>$
选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
fVH*dX'Jz 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
/lr1hW~Dbk Txt%nzIu 5.X/Y采样介质 bB;~,W&E1
!dyxE'T2 t +3 GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
<V$Y6(uMs 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
L}}=yh6r 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
:F^$"~(, 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
_K0izKTA. j<ABO")v @],6SKbG6 ~?AC: 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
[y|^P\D 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
]pOYVf *$ 应该选择像素化折射率调制。
-E8ntY- !2zo]v4? H.YIv50E 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
dThR)Z'= 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
5JBB+g n|70x5Z?}J 6.通过GRIN介质传播 q_<*esZ, L$Hx?^3 yhcNE8mkQ/ {{V;:+62 通过折射率调制层传播的传播模型:
+{,N X - 薄元近似
ny12U;'s, - 分步光束传播方法。
r5MxjuOB1 对于这个案例,薄元近似足够准确。
H GO#e 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
ydwK!j0y 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
(NH8AS< ,f8}q]FTA 7.模拟结果 (3
IZ 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
`z9)YH 7?6xPKQ)H 8.结论 81GQijq #4P8Rzl$/ VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
K\RWC4 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
{0is wq'J 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。