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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 Iu%^*K%  
    J@gm@ jLc  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 1 yJ75/  
     设计包括两个步骤: 0<3E  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 !G[f[u4Zg  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 TH>,v  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 "]<w x_!+}  
    ^vG=|X|)c  
    ZIe+  
    照明光束参数 Q!`)e@r  
    6N?#b66  
    hd8B0eD'  
    波长:632.8nm ^8Z@^M&O"  
    激光光束直径(1/e2):700um
    ~;!BDLMC6  
    R)Q/Ff@o0  
    理想输出场参数 U Q)!|@&  
    .Nk}Z9L]k  
    },v&rkwR  
    直径:1° G"{4'LlA  
    分辨率:≤0.03° e) ]RA?bF  
    效率:>70% W oWBs)E  
    杂散光:<20% a^(2q{*  
    i`R(7Z  
    N6WPTUQ1mF  
    2.设计相位函数 z>7=k`x`:  
    ]I8]mUiUH  
    WqR7uiCi  
    *.:!Ax  
     相位的设计请参考会话编辑器 27Cz1[oX  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 [z^Od  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 ~Po\ En  
    2G ZF/9}  
    3.计算GRIN扩散器  k~{Fnkt  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 O/(3 87=U  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 e~3]/BL  
     最大层厚度如下: 40R"^*  
    s:3aRQ%  
    4.计算折射率调制 Qg[heND  
    > CH  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 1E8$% 6VV  
    t?KUK>>w  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 QjI#Cs}w  
    u2 Y N[|V  
    o T:j:n  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 CcBQo8!G  
    W8< @sq~I  
    JR] )xPI`  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 ~KJ,SLzhx9  
    ZTr:xX{R6  
    hK Fk$A  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 DE'Xq6#PK  
    h|K\z{ A  
    :DDO=  
    K *TnUQ  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 *+NGi(N  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 keae.6[  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 u$apH{  
    L7X7Zt8%  
    5.X/Y采样介质 "v@);\-V  
    TFNUv<>X  
    4A;[s m^f  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 4tbw*H5!5  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 u.$Ym  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 cZ6?P`X  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    )t*S 'R  
    G}182"#4  
    $[)6H7!U)  
    ~u};XhZ  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 B.V?s,U  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 joxS+P5#  
     应该选择像素化折射率调制。 su,`q  
    Y,3z-Pa=@  
    cR,'o'V/  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 c]GQU  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 {k kAqJ  
    r5D jCV"  
    6.通过GRIN介质传播 :uOZjEZi  
    &\JK%X.Jlt  
    wYZy e^7  
    W,xi> 5k  
     通过折射率调制层传播的传播模型: ll^Th >  
    - 薄元近似 r3n=<l!Jr  
    - 分步光束传播方法。 j kSc&  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 W/#KX}4  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 f+*J ue  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 `)0Rv|?  
    !y.ei1diw  
    7.模拟结果  ` 2Wl  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    3"^a rK^N  
    !x`;>0  
    8.结论 h=uiC&B  
    l R:O k8e  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 qlz( W  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 AQE eIFH  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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