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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 WI6er;D  
    %!=YNm  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 DBv5Og  
     设计包括两个步骤: -5qO}^i$a  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 $_ NaxV  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。  z7K?rgH  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 K:Ap|F  
    %*/[aq,#  
    "d#s|_n,d)  
    照明光束参数 NMDNls&)k  
    4v!@9.!vQ  
    %z2nas$$g  
    波长:632.8nm -@73"w/  
    激光光束直径(1/e2):700um
    ENmo^O#,u  
    Po_9M4kU  
    理想输出场参数 'l}3Iua6qk  
    u,pm\  
    CJC|%i3  
    直径:1° %MIu;u FR  
    分辨率:≤0.03° <V, ?!}V  
    效率:>70% <hea%6  
    杂散光:<20% -`RJ k(  
    }/LYI  
    A/QVotcU  
    2.设计相位函数 ! $iR:ji  
    GWhZ Mj  
    {)[i\=,`{  
    RpXQi*c0  
     相位的设计请参考会话编辑器 OBl8kH(b>  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 wx!*fy4hL  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 bDkE*4SRX  
    4A&e+kz&:R  
    3.计算GRIN扩散器 @v'D9 ?  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 M;9+L&p=  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 g IKm  
     最大层厚度如下: |x4yPYBL  
    CvW((<?  
    4.计算折射率调制 JA}'d7yEa  
    $O>@(K  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 =, 0a3D6b  
    v;Dcq  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 YUb,5Y0  
    .g#=~{A  
    c 2@@Rd~M  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 ##@#:B  
    J9FNjM[qe  
    PPPwDsJ  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 {|h"/   
    qtN29[x  
    C6M/$_l&a  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 % 4"~O _S  
    #}(Df&  
    =)YYx8gR  
    ug,|'<G+  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 KaE;4gwM  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 .^S78hr]n  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 } XU:DE  
    /A.i5=k  
    5.X/Y采样介质 PJ@,01  
    *.c9$`s  
    1GE%5  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 Ti|++oC/&  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 QeJ.o.m{  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 _`{{39 F  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    64']F1p0  
    p}DF$k%`  
    by]|O  
    rY?F6'}  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 NND=Z xl  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 ,(27p6!  
     应该选择像素化折射率调制。 {kl{mJ*  
    >X,Ag  
    KbdfSF$  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 nl9Cdi]o  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 eQVPxt2N  
    *tM7>  
    6.通过GRIN介质传播 Y+u-J4bj  
    W}2 &Pax  
    Owpg]p yVD  
    LL[#b2CKa  
     通过折射率调制层传播的传播模型: .hlQ?\  
    - 薄元近似 n~ >h4=h  
    - 分步光束传播方法。 #G  +  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 U?F^D4CV\  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 \_Kt6=  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 BZ;}ROmqk  
    EcU'*  
    7.模拟结果 /1W7<']>xV  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    nN`Z0?  
    >@^yj+k  
    8.结论 dXcPWbrU4  
    ]6B mCh  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 )ehB)X  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 }K/}(zuy1Y  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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