1.模拟任务 WI6er;D %!=YNm 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
DBv5Og 设计包括两个步骤:
-5qO}^i$a - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
$_ NaxV - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
z7K?rgH 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
K:Ap|F %*/[aq, # "d#s|_n,d) 照明光束参数 NMDNls&)k 4v!@9.!vQ %z2nas$$g 波长:632.8nm
-@73" w/ 激光光束直径(1/e2):700um
ENmo^O#,u P o_9M4kU 理想输出场参数 'l}3Iua6qk u,pm\ CJC|%i3 直径:1°
%MIu;u FR 分辨率:≤0.03°
<V,?!}V 效率:>70%
<hea%6 杂散光:<20%
-`RJk( }/LYI A/QVotcU 2.设计相位函数 ! $iR:ji GWhZ Mj {)[i\=,`{ RpXQi*c0 相位的设计请参考会话编辑器
OBl8kH(b> Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
wx!*fy4hL 设计没有离散相位级的phase-only传输。
bDkE*4SRX 4A&e+kz&:R 3.计算GRIN扩散器 @v'D9 ? GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
M;9+L&p= 最大折射率调制为△n=+0.05。
g IKm 最大层厚度如下:
|x4yPYBL CvW((<? 4.计算折射率调制 JA}'d7yEa $O>@(K 从IFTA优化文档中显示优化的传输
=,
0a3D6b v;Dcq 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
YUb,5Y0 .g#=~{A c 2@@Rd~M 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
##@#:B J9FNjM[qe
PPPwDsJ 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
{|h"/ qtN29[x C6M/$_l&a 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
% 4"~O
_S #}(Df& =)YYx8gR ug,|'<G+ 数据阵列可用于存储折射率调制。
KaE;4gwM 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
.^S78hr]n 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
} XU:DE /A.i5=k 5.X/Y采样介质 PJ@ ,01
*.c9$`s 1GE%5 GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
Ti|++oC/& 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
QeJ.o.m{ 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
_`{{39 F 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
64' ]F1p0 p}DF$k%` by]|O rY?F6'} 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
NND=Zxl 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
,(27p6! 应该选择像素化折射率调制。
{kl{mJ* >X,Ag KbdfSF$ 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
nl9Cdi]o 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
eQVPxt2N *t M7> 6.通过GRIN介质传播 Y+u-J4bj W}2 &Pax Owpg]p yVD LL[#b2CKa 通过折射率调制层传播的传播模型:
.hlQ?\ - 薄元近似
n~ >h4=h - 分步光束传播方法。
#G+ 对于这个案例,薄元近似足够准确。
U?F^D4CV\ 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
\_Kt6= 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
BZ;}ROmqk EcU'* 7.模拟结果 /1W7<']>xV 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
nN`Z0? >@^yj+k 8.结论 dXcPWbrU4 ]6BmCh VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
)ehB)X 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
}K/}(zuy1Y 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。