1.模拟任务 Iu%^*K% J@gm@ jLc 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
1yJ75/ 设计包括两个步骤:
0<3E - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
!G[f[u4Zg - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
TH>,v 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
"]<w x_!+} ^vG=|X|)c ZIe + 照明光束参数 Q!`)e @r 6N?#b66 hd8B0eD' 波长:632.8nm
^8Z@^M&O" 激光光束直径(1/e2):700um
~;!BDLMC6 R)Q/Ff@o0 理想输出场参数 U Q)!|@& .Nk}Z9L]k },v&rkwR 直径:1°
G"{4'LlA 分辨率:≤0.03°
e) ]RA?bF 效率:>70%
W oWBs)E 杂散光:<20%
a^(2q{* i`R(7Z N6WPTUQ1mF 2.设计相位函数 z>7=k`x`: ]I8]mUiUH WqR7uiCi *.:! Ax 相位的设计请参考会话编辑器
27Cz1[oX Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
[z^Od 设计没有离散相位级的phase-only传输。
~Po\ En 2G
ZF/9} 3.计算GRIN扩散器 k~{Fnkt GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
O/(3 87= U 最大折射率调制为△n=+0.05。
e~3]/BL 最大层厚度如下:
40R"^* s:3aRQ% 4.计算折射率调制 Qg[heND >CH 从IFTA优化文档中显示优化的传输
1E8$% 6VV t?KUK>>w 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
QjI#Cs}w u2Y N[|V o
T:j:n 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
CcBQo8!G W8< @sq~I
JR])xPI` 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
~KJ,SLzhx9 ZT r:xX{R6 hK
Fk$A 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
DE'Xq6#PK h|K\z{ A :DDO= K*TnUQ 数据阵列可用于存储折射率调制。
*+NGi(N 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
kea e.6[ 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
u$ap H{ L7X7Zt8% 5.X/Y采样介质 "v@);\-V
TFNUv<>X 4A;[sm^f GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
4tbw*H5!5 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
u.$Ym 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
cZ6?P`X 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
)t*S'R G}182"#4 $[)6H7!U) ~u};XhZ 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
B.V?s,U 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
joxS+P5# 应该选择像素化折射率调制。
su,`q Y,3z-Pa=@ cR,'o'V/ 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
c]GQU 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
{ k
kAqJ r5D jCV" 6.通过GRIN介质传播 :uOZjEZi &\JK%X.Jlt wYZy e^7 W,xi>5k 通过折射率调制层传播的传播模型:
ll^Th > - 薄元近似
r3n=<l!Jr - 分步光束传播方法。
j kSc& 对于这个案例,薄元近似足够准确。
W/#KX}4 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
f+*J
ue 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
`)0Rv|? !y.ei1diw 7.模拟结果 `2Wl 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
3"^a
rK^N !x`;>0 8.结论 h=uiC&B l R:Ok8e VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
qlz( W 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
AQE
eIFH 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。