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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 'gH#\he[Dh  
    1mM52q.R4  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 pQ\ [F  
     设计包括两个步骤: ]<= t  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 5ZxBmQ  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 jO.E#Ei}~  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 r!uAofIi_  
    S"z4jpqn3  
    xK ux5u _  
    照明光束参数 ti% e.p0[  
    )Ggx  
    |Ay#0uQ5Y  
    波长:632.8nm XITQB|C??$  
    激光光束直径(1/e2):700um
    > `M\xt  
    !*-cf$  
    理想输出场参数 9] \vw  
    ugP R)tDfM  
    V [>5  
    直径:1° jT0fF  
    分辨率:≤0.03° ~?r6Ax-R  
    效率:>70% 9-SXu lgu  
    杂散光:<20% `,"Jc<R7Z  
    O}V2> W$  
    mqw.v$>  
    2.设计相位函数 -nSqB{s!SD  
    p04w 83 jX  
    bcNYoZ8`  
    8uiQm;W  
     相位的设计请参考会话编辑器 nU)f]4q{Ec  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 EK^2 2vi$  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 Az[z} r4  
    Lf9h;z>#  
    3.计算GRIN扩散器 Sm5"Q  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 Q1yTDJ(2  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 {n'}S(  
     最大层厚度如下: yfrgYA  
    v/dcb%  
    4.计算折射率调制 oJy/PR 3  
    tWuQKN`_  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 =t2epIr 5  
    2]wh1)  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 {`> x"Y5  
    k6\c^%x  
    LTHS&3% 2  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 i%2K%5{)$D  
    COafVlJ,l  
    Tj:F Qnx  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 2~ a4ib  
    JI(|sAH  
    )uP= o  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。  "(xu  
    78wcMQNX9  
    lk|/N^8M  
    04:Dbt~=?p  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 @z.!Dby  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 <V{BRRx  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 M-_)CR  
    #<{MtK_  
    5.X/Y采样介质 S{ !hpq~o  
    whshjl?a  
    1mqFnVkf&+  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 ,7aqrg  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 O{PRK5^h  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 Sl1N V  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
     I g`#U~  
    eYFCf;  
    {#MViBhd%  
    SWt"QqBU  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 We|*s2!  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 O1A*-G:X  
     应该选择像素化折射率调制。 Oqyh{q%]  
    <[Vr(.A  
    @47TDCr  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 7^1ikmYY  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 ts ] +W!:  
    QnqX/vnR  
    6.通过GRIN介质传播 9I9)5`d|Jn  
    N{'k ]&  
    q:( K^  
    iZ UBw  
     通过折射率调制层传播的传播模型: S $Wd}2>  
    - 薄元近似 8^T' a^Wt  
    - 分步光束传播方法。 =vWnqF:  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。  F#hM S<  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 pP .   
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 -v:Y\=[\  
    x/ez=yd*l  
    7.模拟结果 mEA w^  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    W$y?~2  
    S"dQ@r9  
    8.结论 R$\ieNb  
    +CACs7tV  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 975KRnj  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 >U17BGJ.  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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