1.模拟任务 ZBXn&Gm o;'-^ LJ 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
'Jl3%axR 设计包括两个步骤:
aIklAj)= - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
ky@DH(^> - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
~
ve 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
:0(:}V3 z\ Ls{]ohP vz`r
!xj) 照明光束参数 Z]=9=S|
.4 fx= %e {z7kW@c 波长:632.8nm
./Wi(p{F 激光光束直径(1/e2):700um
bh UghHT -k}&{v 理想输出场参数 A:,R.P>`C 5g4xhYl70n y\}<N6 直径:1°
*","u;& 分辨率:≤0.03°
YveNsn 效率:>70%
6x"|,,&MD0 杂散光:<20%
q{RT~,% lZ5TDS @-Ln* 3n 2.设计相位函数 r+;AE N48 WkK.ON^ BxHfL8$1[$ h/\/dp/tt 相位的设计请参考会话编辑器
:y(HOUB Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
'EsdYx5C 设计没有离散相位级的phase-only传输。
!-Md+I_ S}XVr?l2O 3.计算GRIN扩散器 7;H P_oAu GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
@-5V~itW 最大折射率调制为△n=+0.05。
OQa;EBO 最大层厚度如下:
b5d;_-~d +*P;Vb6 D 4.计算折射率调制 iXFN|ml ^+q4* X6VB 从IFTA优化文档中显示优化的传输
<%Afa# #J)83 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
hNGD`"U ZsepTtY T^n0 =| 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
8f{;oO \)mV2r!%
29GcNiE`T 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
Zi~-m]9U QR]61v:` {[Vkht} 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
}_"<2|~_ u+/1ryp o
9] 2 p:9^46N@ 数据阵列可用于存储折射率调制。
tOf18V{a 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
?v$kq}Rg 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
q'~F6$kv5 Q]oCzSi 5.X/Y采样介质 [j^c&}0
{u,yX@F4l xfJ&11fG2 GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
#:6gFfk0< 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
G'qGsKf\ 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
Ko|p&-Z; 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
Gv uX"J 5EqC.g. mfpL?N ~56F<=#, 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
z'+k]N9Q^ 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
'E#;`}&Ah 应该选择像素化折射率调制。
FaUc"J 21\t2<" WOaj_o 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
37M?m$BL 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
Mm'q4DV^ `aw5"ns^V 6.通过GRIN介质传播 OG&X7>'3I{ hz8Z)xjJ V 9/x_p;bI xf?6_= 通过折射率调制层传播的传播模型:
yF#:*Vz> - 薄元近似
Z$'483< - 分步光束传播方法。
jdF~0#vH 对于这个案例,薄元近似足够准确。
#g6*s+Gm 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
7P2?SW^ 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
4Nx]*\\ qAF.i^ 7.模拟结果 <RMrp@[ 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
*ydU3LG7 C"We>! 8.结论 #ir~v>J|| 6*:mc VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
@4Ox$M 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
HP
/@ _qk 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。