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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 `x2Q:&.H`  
    *6 oQW  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 !sA[A>  
     设计包括两个步骤: ) # le|Rf  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 S3rN]!B+  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 i#o:V/Z .  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 ^W|B Xxo  
    #%t&f"j2  
    dGU io?  
    照明光束参数 aV?dy4o$  
    <<}t&qE%2%  
    QZ!;` ?(  
    波长:632.8nm !iBe/yb  
    激光光束直径(1/e2):700um
    n4Od4&r  
    Fdsaf[3[v  
    理想输出场参数 BFP (2j  
    t .*z)N  
    Ff xf!zS  
    直径:1° 5 Z+2  
    分辨率:≤0.03° cn1UFmT  
    效率:>70% x _&=IyU0j  
    杂散光:<20% rxZ%vzVQ>  
    $\BRX\6(-  
    ,f ..46G  
    2.设计相位函数 k*)O]M<,  
    es}j6A1  
    V7}5Zw1  
    0'T*l 2Z`2  
     相位的设计请参考会话编辑器 QJ2V&t"3  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 i;4|UeUl  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 4FK|y&p4r  
    *k)v#;B  
    3.计算GRIN扩散器 ? +{=>{1  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 4 [2^#t[  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 6[g~p< 8n}  
     最大层厚度如下: 6%  +s`  
    ts BPQ 8Ne  
    4.计算折射率调制 \LX!n!@  
    N|cWTbi  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 ^B[%|{cO  
    !vNZ- }  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 2 MFGKzO  
    M>H4bU(  
    ?M'_L']N[  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 Q"UWh~  
    So &c\Ff  
    @* a'B=7  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 6- H81y 3  
    *LnY}#  
    B^'Uh+Y  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 Z]-C,8MM  
    ="fq.Tt  
    99Jk<x k  
    XEd|<+P1  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 5r1{l%?  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 q^nSYp#  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 ~I^}'^Dbb  
    mQ#E{{:H+  
    5.X/Y采样介质 Fa]fSqy@;  
    4h:R+o ^H^  
    S,&tKDJn  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 = ~{n-rMF  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 }q0lbwYlb  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 4}nsW}jCc  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    9d ZE#l!Q  
    qucw%hJr  
    =Rnx!E  
    Q8:`;W  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 b?&=gm%oU  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 U'IJwGRP  
     应该选择像素化折射率调制。 ]KX _a1e  
    _H#l&bL@C  
    JI1O(  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 5fGUJ[F=  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 z?C;z7eT  
    *h ~Y=#`8*  
    6.通过GRIN介质传播 .BLF7> M1  
    f@roRn8p?  
    z!09vDB^  
    {,r7dxI)`  
     通过折射率调制层传播的传播模型: mi~ BdBv  
    - 薄元近似 @&f3zq  
    - 分步光束传播方法。 oYWcX9R  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 C9oF*{  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 Kgi| 7w  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 !*8x>,/>  
    Rg*zUfu5%o  
    7.模拟结果 6MC*2}W  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    :P$I;YY=A  
    r.e,!Bs  
    8.结论 ,z}wR::%  
    -e_+x'uF  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 $mA+ 4ISK  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 B!jINOg  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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