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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 (3 B; V  
    \Q]2Zq  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 N=-hXgX^  
     设计包括两个步骤: 27gK Y Zf;  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 \u:xDS(  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 ~,dj)x 3M  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 6 70g|&v.  
    mM>{^%2Q:  
    %  &{>oEQ  
    照明光束参数 ,sXa{U  
    iv\?TAZC  
    (l9U7^S"{K  
    波长:632.8nm c7S<ex,  
    激光光束直径(1/e2):700um
    N#Y4nllJ  
    Xv6z>z.  
    理想输出场参数 ~E#>2Mh  
    R )ejIKtY  
    pX|\J>u)  
    直径:1° _! \X>rfz  
    分辨率:≤0.03° k$# @_  
    效率:>70% j2g#t  
    杂散光:<20% ZA+$ZU^  
    Q:lSKf  
    IZniRd;  
    2.设计相位函数 sl>4O]N  
    ;OE{&  
    bvs0y7M='  
    Yw4c`MyL  
     相位的设计请参考会话编辑器 l 8n#sGA%  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 >\[sNCkf  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 PUF"^9v  
    5c`DkWne%  
    3.计算GRIN扩散器 kR9G;IZ8s  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 1KAA(W;nq  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 { SJ=|L6  
     最大层厚度如下: K-(,,wS  
    >J|I  
    4.计算折射率调制 rN8 ZQiJC  
    x]J{EA{+  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 kfM}j  
    :/K 'P`JaL  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 !nC Z,  
    &}wKC:LSP  
    i=]IUjx<  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 ,bKA]#(2  
    C<eeAWP3v  
    L*11hyyk  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 k-Le)8+b  
    JP S L-j  
    !634 8nU:  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 (/Hq8o-Fw  
    t? yMuK  
    SG$/v  
    VEd\*  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 GK2IY  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 0+m"eGwTm  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 9Or3X/:o  
    :~{XL>:S  
    5.X/Y采样介质 {M$mrmG  
    >/ECLP  
    yAi#Y3!::  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 HRC5z<k%  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 XGk8Ki3w  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 #}^ZxEU  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    2u~0B +)K/  
    N"2P&Ho]  
    5MO:hE5sm  
    A|c  :&i  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 tt6ElP|D  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 pzCD' !*  
     应该选择像素化折射率调制。 gPd:>$  
    4qrPAt  
    nZ$,Bjb  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 tQF7{F-}  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 NGd|7S[^+c  
    /1gKc}rB2  
    6.通过GRIN介质传播 q;}^Jpb;  
    , .x5  
    \4bma<~a  
    e*jn7aya  
     通过折射率调制层传播的传播模型: >Czcs=(L.k  
    - 薄元近似 O_FT@bo\  
    - 分步光束传播方法。 |&o1i~Y  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 Q{Jz;6"  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 ACU0  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 B@63=a*kG  
    nv2Y6e}dG  
    7.模拟结果 .1t$(]CyC  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    tv,^ Q}  
     ?MPM@9  
    8.结论 n,9 *!1y  
    VjMd&>G  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 q(\$-Dk.Vv  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 tV[?WA[xt  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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