1.模拟任务 4oRDvn7f& tx||<8 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
#\$AB_[ot> 设计包括两个步骤:
~k'SP(6#C - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
jZ> x5 W - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
1gDsL 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
OS$^>1f" BBlYy5x L~>~a1p! 照明光束参数 &`Ek-b!7 ]?a i k^*S3#" 波长:632.8nm
q!\4|KF~ 激光光束直径(1/e2):700um
MPD<MaW$ ,\=,,1_ 理想输出场参数 MI\35~JAN QNm8`1 R*r;`x 直径:1°
&-hXk!A 分辨率:≤0.03°
fu $<*Sa2 效率:>70%
.FpeVjR'' 杂散光:<20%
Q?]-/v J>p6')Y6~ S<UWv@`U" 2.设计相位函数 7FGi+ oA]rwaUX 20A`]-D V(3=j)# 相位的设计请参考会话编辑器
6>&h9@ Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
fm1yZX?` 设计没有离散相位级的phase-only传输。
6g&Ev' S>V+IKW;( 3.计算GRIN扩散器 b.|k j GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
Ws*UhJY<GS 最大折射率调制为△n=+0.05。
2$s2u; 最大层厚度如下:
= 4 wf 2v?fbrC5c 4.计算折射率调制 4Be'w`Q { L(+I 从IFTA优化文档中显示优化的传输
yr/G1?k%ML H?_>wQj& 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
K26`wt 7oV$TAAf 5L\&"[' 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
K$/&C:,Q a|eHo%Qt
x7ZaI{ 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
<sli!rv U'k 0; .W
s\%S 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
D1R$s*{ 1Y'NG<d_ XR|U6bf] 7!U^?0?/ 数据阵列可用于存储折射率调制。
MUn(ZnQy| 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
!
G3Gr 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
1V.oR`&2E R9\ )a2 5.X/Y采样介质 y4)iL?!J~
A~}5T%qb 'e/wjV GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
nM|Cv 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
%z~=Jz^ 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
QtQbr*q@% 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
76cLf~|d~ u#ocx[ X#W6;?Z\ RR`\q>| 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
5n::]Q%=D 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
R{B5{~m>W@ 应该选择像素化折射率调制。
1[Q~&QC H_iQR9Ak7 AAi4}
8+\ 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
M(} T\R 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
^MWp{E p%Ns
f[1> 6.通过GRIN介质传播 7&dF=/:X@ UHI<8o9 4{$ L]toP uE#"wm'J 通过折射率调制层传播的传播模型:
`'rvDaP - 薄元近似
-ADb5-px - 分步光束传播方法。
!4"$O@U4 对于这个案例,薄元近似足够准确。
?;rRR48T9E 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
Mf9x=K9 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
w\JTMS$ t4zKI~cO
7.模拟结果 Fp+fZU 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
EP{ji"/7[ o^d 8.结论 =1VpO{q q' t" VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
$B )jSxSy 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
G Mg|#DV 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。