1.模拟任务 {pV\]E\] :jJ;&t^^ 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
?$ft3p} 设计包括两个步骤:
0`LR!X - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
8RA]h?$$J - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
8|Q=9mmWOh 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
n!Ic.T3PA yFD3:;} ^PNE6 照明光束参数 t#fbagTON y@T0
jI ^:Mal[IR 波长:632.8nm
}!&Vc f 激光光束直径(1/e2):700um
)&nfV5@" k\ 2.\Lwb 理想输出场参数 q&:UP z'W8t|m}Pb 6>fQe8Y 直径:1°
H}nPaw]G 分辨率:≤0.03°
xw>\6VNt 效率:>70%
@hb K 杂散光:<20%
8zOoVO Epl\( cE|Z=}4I7 2.设计相位函数 75^U<Hz-3{ &=KNKE` 2;v1YKY ;Nd,K
C0k 相位的设计请参考会话编辑器
<kmH^viX Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
bzl-|+!yB 设计没有离散相位级的phase-only传输。
(3_m[N\F ,?3)L
3.计算GRIN扩散器 37F&s GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
h@^d
Vg 最大折射率调制为△n=+0.05。
1+{V^)V? 最大层厚度如下:
e
hgUp = ~!PaBS3A 4.计算折射率调制 *(?tf{ ]1^F 从IFTA优化文档中显示优化的传输
&ody[k?' q2pq~LI 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
k|r+/gIV LE'8R~4.< $GMva}@G` 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
`veq/! k)a3j{{
f3p)Q<H>`( 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
2i4&*&A Uyuvmt> ;PA^.RB 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
q#6K'=AC Y*KP1=Md @[s+5_9nk cD6T4 数据阵列可用于存储折射率调制。
Jtv~n 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
*!wBn 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
Hy*_4r k>'c4ay290 5.X/Y采样介质 IHrG!owf
^wtr~D| /_?y]Ly[r GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
av!'UZP 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
nXg:lCI-uu 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
J/{!_M- 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
)[Bl3+' x=7qC#+) <*vWcCS1 *oW^P~m/ 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
#cF ?a5 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
iVQ)hsW/ 应该选择像素化折射率调制。
3lw8%QD> s^QXCmb$8 s4&JBm(33N 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
1pDL()t 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
v=Y)
A ? F s{}bQyQ 6.通过GRIN介质传播 O^_$cq d*===~ NmH:/xU?^ jW!x!8= 通过折射率调制层传播的传播模型:
]6*+i $ - 薄元近似
Yqz
B=" - 分步光束传播方法。
50?5xSEM0_ 对于这个案例,薄元近似足够准确。
,iy;L_N 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
FL /395 <: 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
XSv)=]{ 03$lg DQ 7.模拟结果 ;"1 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
4_i6qu(4 zNo(|;19 8.结论 ]CnqPLqL H+O^e l VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
>+3tOv3: 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
%ylpn7I\6 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。