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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 8A#qbBD  
    WL:CBE#  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 !ffdeWHR  
     设计包括两个步骤: f.4r'^  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 (w}iEm\b  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 :2vk vLM  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 "k[-eFz/@M  
    &]iiBp#2  
    +iY.YV  
    照明光束参数 !`JaYUL[e  
    ]yy10Pk[!  
    KEEHb2q  
    波长:632.8nm Dyyf%'\M  
    激光光束直径(1/e2):700um
    @@M 2s(  
    *]:gEO  
    理想输出场参数 kr[p4X4  
     Y[#EFM  
    ;EDc1:  
    直径:1° `83s97Sa  
    分辨率:≤0.03° yPs4S?<s  
    效率:>70% (e.?). e  
    杂散光:<20% yhxen  
    I&%{%*y  
    4>x]v!d  
    2.设计相位函数 ;6P #V`u  
    }86&? 0j.  
    2:3-mWE  
    %&w 8E[  
     相位的设计请参考会话编辑器 LX;w~fRr.  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 ]zK'aod  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 $R6iG\V5  
    :Yeo*v9  
    3.计算GRIN扩散器 P@lDhzd  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 J)tk<&X  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 }ya@*jH  
     最大层厚度如下: >ka*-8?  
    4IfOvAN%  
    4.计算折射率调制 `< _A#@  
    J'{69<`Dl  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 :4JqT|nS  
    OI/m_xx@j  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 z B/#[~  
    '9d<vW g  
    {<$ D|<S  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 Lxz!>JO>  
    vz$-KT4e^  
    TNun)0p  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 A)v! {  
    RgTm^?Ex  
    T .#cd1b  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 9)2 kjBeb  
    [&H$Su}$0  
    ;6+e!h'1  
    Em6P6D>S>,  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 pAK7V;sJ  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 (h&XtFul}  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 Yvmo%.oU  
    TgC8EcLr  
    5.X/Y采样介质 3QM;K^$  
    ly_@dsU'  
    *49({TD6`  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 0'm$hU}  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 dOG]Yjc  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 ={'*C7K)oK  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    Ei$?]~ &  
    U -h'a: K  
     F6'[8f  
    `3wzOMgJ  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 WC0gJy  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 A8|DB@ Bi  
     应该选择像素化折射率调制。 u V[:e|v  
    [-Xz:  
    Wb)>APL  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 [l`_2{:  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 @$:T]N3m  
    6 (M^`&fl  
    6.通过GRIN介质传播 8VWkUsOoI  
    J~jxmh  
    yiT)m]E d  
    4k7 LM]  
     通过折射率调制层传播的传播模型: -=;V*;  
    - 薄元近似 85{2TXQ^%=  
    - 分步光束传播方法。 LA +BH_t&  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 6x]x>:8  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 `S)*(s?T  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 h=a-~= 8  
    mK Ta.  
    7.模拟结果 !Py SYY  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    \jR('5DcB  
    r}>q*yx:  
    8.结论 '!V5 #J  
    @gc|Z]CV  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 2bnF#-(  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 $T#yxx  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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