1.模拟任务 x*0mmlCb uG7ll5Yy 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
UjH+BC+9`b 设计包括两个步骤:
jjJ l\Vn - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
-
xQJY) - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
hdurT 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
BH^8!7dkT q=_tjg rI4N3d;C 照明光束参数 meR5E?Fm PZSi}j/ i`" L?3T 波长:632.8nm
X1\ao[t<;c 激光光束直径(1/e2):700um
o]m56 z)&GF$* 理想输出场参数 i0*6o3h F=8gtk|U ;Ak 6*Sr 直径:1°
I=o/1:[- 分辨率:≤0.03°
Dv-ubki 效率:>70%
b'TkYa^ 杂散光:<20%
+u'y!@VV E>w|i n<66 7
< 2.设计相位函数 (S
k+nD AX2On}&bf 0O7VM)[ 1J O@G3, 相位的设计请参考会话编辑器
0vi\o`**Mj Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
C4
@"@kbr 设计没有离散相位级的phase-only传输。
WU<C7 .GNl31f0 3.计算GRIN扩散器 Gt5'-Hyo GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
ICXz(?a 最大折射率调制为△n=+0.05。
yZ57uz 最大层厚度如下:
p/.[cH g'{hp: 4.计算折射率调制 D}7G|gX1 L4H5#?' 从IFTA优化文档中显示优化的传输
L'$;;eM4 fDIKR[B 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
*"K7<S[ Y)OTvKrOA a]8}zSUK 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
Ncle8=8 zoI0oA
$Y31YA 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
\' ;zD-MX osW"b"_f xyc`p[n& 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
o? {rPFR kmfxk/F} =pR'XF% p:q?8+W-r 数据阵列可用于存储折射率调制。
DqTp*hI 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
<zE~N~; 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
8.R~Ys* +^v]d_~w_ 5.X/Y采样介质 mzh7E[S_,i
t+`>zux5(T 8ECBi( GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
!JC!GS"M5 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
]@bu%_s" 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
g_F-PT>($ 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
"I`g(q#Uo #K_E/~ li~#6$ Q]oCzSi 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
%V3xO% 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
0?d}Oj 应该选择像素化折射率调制。
`L1lGlt /~B\1 M<"H1>q@ 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
!>Ru= $9 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
|<Gq^3 2 bTN0 n 6.通过GRIN介质传播 *dE5yS`H r%DaBx!x8 6}9`z8 tfb_K4h6, 通过折射率调制层传播的传播模型:
o(_~
st< - 薄元近似
7y2-8eL - 分步光束传播方法。
dN)!B!*aI 对于这个案例,薄元近似足够准确。
.8K ~ h 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
o#ajBOJ 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
AD/7k3: +rA:/!b)Y 7.模拟结果 K!a4>Du{ 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
=$t f-b#F2I 8.结论 |w7D&p$ 3"XS#~l% VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
gcNpA?mC|u 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
s.oh6wz 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。