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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 GJeG7xtJKl  
    51jgx,-|$  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 Dr3_MWJ+  
     设计包括两个步骤: s@F&N9oh  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 +OE!Uqnt  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 }/cReX,so  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 =-h^j  
    &lQ%;)'  
    XQ#K1Z  
    照明光束参数 wFJf"@/vJ  
    W [ l  
    >JyS@j}  
    波长:632.8nm 7D6`1 &  
    激光光束直径(1/e2):700um
    vMTf^V  
    5=pE*ETJ  
    理想输出场参数 pU$k{^'UK  
    4q}+8F`0F  
    Jo5Bmh0  
    直径:1° 0:$ }~T9T  
    分辨率:≤0.03° tT}b_r7h(1  
    效率:>70% :o s8"  
    杂散光:<20% B9maz"lJ  
    >JpBX+]5m  
    ;c!> =  
    2.设计相位函数 bA^uzE  
    a:BW*Hy{\  
    |P >"a`  
    OQ-) 4Uk}  
     相位的设计请参考会话编辑器 m$T5lKn}U?  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 2n<Mu Q]  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 1'~Xn 4 f  
    #Rw!a#CX.  
    3.计算GRIN扩散器 wQhNQ(H~\  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 AV5={KK  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 p='j/=  
     最大层厚度如下: -DI >O/  
    }`uyOgGg*  
    4.计算折射率调制 6"&cQ>$xh  
    W$4$%r8  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 J p'^!  
    yf&g\ke  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 )DgXsT  
    Ku(YTXtK  
    `YNzcn0x  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 2"IV  
    vV,TT%J8D  
    gv*b`cl  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 [LYO'-g^F#  
    q$:1Xkl  
    TM)INo^  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 AO-5>r  
    F s/CW\  
    ? i{?Q,  
    W A/dt2D|  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 Hjm> I'9  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 ^ZwZze:2  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 5YY5t^T  
    sxNf"C=-.  
    5.X/Y采样介质 Y2`sL,'h  
    r2-iISxg+  
    dyQ7@K.E  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 jPWONz(#  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 %3z[;&*3O  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 DbMVbgz<e  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    z?byNd8  
    JRl=j2z  
    ]A5F}wV4  
    B/a gW  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 OSBR2Z;=  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 fn}E1w  
     应该选择像素化折射率调制。 |AYii-g  
    ;K<VT\  
    , $7-SN  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 XZE(& (s  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 )OI}IWDl  
    7-744wV}Z  
    6.通过GRIN介质传播 C[7!pd  
    _^iY;&  
    ]IuZT  
    f"Sp.'@  
     通过折射率调制层传播的传播模型: @Jd&[T27Lr  
    - 薄元近似 &[G)Y D  
    - 分步光束传播方法。 *zdD4 I=  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 u?,>yf.;s  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 <cTX;&0=  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 <"3q5ic/Z  
    ?_eLrz4>L^  
    7.模拟结果 RY;V@\pRY+  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    <B6md i'R  
    ;[y( 14g  
    8.结论 rJiF2W  
    PQaTS*0SXJ  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 7y Cf3  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 A/y|pg5  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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