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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 NIQa{R/H  
    >q4nQ/eP  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 =yfr{5}R  
     设计包括两个步骤: :P;#Y7}Y$  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 mqwN<:  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 JA())0a  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 Q8T4_p [-o  
    90teXxg=|  
    h.=YAcR0D  
    照明光束参数 o y}(  
    1*G7Uh@K}  
    AaKILIIQZ  
    波长:632.8nm UV@<55)K  
    激光光束直径(1/e2):700um
    B% BO  
    v]Pw]m5=U  
    理想输出场参数 K\=bpc"Fy  
    Ab8~'<F$B  
    ]X@/0  
    直径:1° {I`B?6K5  
    分辨率:≤0.03° 7A7K:,c  
    效率:>70% 2 R1S>X  
    杂散光:<20% g)xzy^2e  
    %|r@q  
    Mp"] =  
    2.设计相位函数 d<fS52~l  
    u&r @@p.  
    !>gc!8Y'o  
    oa1&9  
     相位的设计请参考会话编辑器 RSzp-sKB  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 GsE?<3  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 oKzV!~{0M;  
    e7pN9tXGf  
    3.计算GRIN扩散器 7q$9\RR5  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 /8J2,8vZ  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 )<IbQH|_  
     最大层厚度如下: D[:7B:i  
    K#+TCZ,  
    4.计算折射率调制 &!KJrQ  
    2ggW4`"c  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 "x3_cA~  
    ",Ek| z  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 R*VZ=i  
    E(8O3*=  
    I`DdhMi7  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 QO%>RG  
    %Xkynso~  
    y)Ip\.KV\  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 i|.!*/qF  
    \#G`$JD  
    $5%tGFh  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 Ya304Pjd  
    T-f+<Cxf  
    |;9OvR> A  
    $N:m 9R  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 BRD>q4w  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 >(:KEA  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 khc5h^0  
    /0Zwgxt4?7  
    5.X/Y采样介质 4>$>XL1  
    M /Bn^A8@  
    cf@:rHB}  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 }*IX34  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 :%!=Ej.J  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 vE6/B"b  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    $o {f)'.>n  
    Lr40rLx;u  
    C0KP,JS&  
    tdZ:w  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 eEezd[p  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 cg$7`/U  
     应该选择像素化折射率调制。 %+>I1G  
    p.8G]pS  
    B7N?"'$i  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 tGv4 S\  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 j31 Sc3vG  
    nVs0$?}  
    6.通过GRIN介质传播 > YN<~z-  
    y4 P mL  
    ,B!u*  
    QP[w{T  
     通过折射率调制层传播的传播模型: lZ/Yp~2S  
    - 薄元近似 Q9FY.KUM  
    - 分步光束传播方法。 b`18y cVME  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 c1jgBty  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 )v0m7L v#/  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 LT:KZ|U9  
    O_KL#xo  
    7.模拟结果 t4F1[P  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    }3M\&}=8  
    u_zp?Nc  
    8.结论 0o(/%31]  
    LD]XN'?"W  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 w9c  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 DFqXZfjm  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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