1.模拟任务 (3 B;
V \Q]2Zq 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
N=-hXgX^ 设计包括两个步骤:
27gK
Y
Zf; - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
\u:xDS( - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
~,dj)x
3M 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
670g|&v. mM>{^%2Q: % &{>oEQ 照明光束参数 ,sXa{U iv\?TAZC (l9U7^S"{K 波长:632.8nm
c7S<ex, 激光光束直径(1/e2):700um
N#Y4nllJ Xv6z>z. 理想输出场参数 ~E#>2Mh R)ejIKtY pX|\J>u) 直径:1°
_! \X>rfz 分辨率:≤0.03°
k$#
@_ 效率:>70%
j2g#t 杂散光:<20%
ZA+$ZU^ Q:lSKf IZniRd; 2.设计相位函数 sl>4O]N
;OE{& bvs0y7M=' Yw4c`MyL 相位的设计请参考会话编辑器
l8n#sGA % Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
>\[sNCkf 设计没有离散相位级的phase-only传输。
PUF"^9v 5c`DkWne% 3.计算GRIN扩散器 kR9G;IZ8s GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
1KAA(W;nq 最大折射率调制为△n=+0.05。
{ SJ=|L6 最大层厚度如下:
K-(,,wS >J|I 4.计算折射率调制 rN8 ZQiJC x]J{EA{+ 从IFTA优化文档中显示优化的传输
kfM}j :/K 'P`JaL 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
!nC Z, &}wKC:LSP i=]IUjx< 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
,b KA]#(2 C<eeAWP3v
L*11hyyk 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
k-Le)8+b JPS L-j !634 8nU: 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
(/Hq8o-Fw t? yMuK SG$/v VEd\* 数据阵列可用于存储折射率调制。
GK2IY 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
0+m"eGwTm 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
9Or3X/:o :~{XL >:S 5.X/Y采样介质 {M$mrmG
>/ECLP yAi#Y3!:: GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
HRC5z<k% 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
XGk8Ki3w 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
#}^ZxEU 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
2u~0B +)K/ N"2P&Ho] 5MO:hE5sm A|c :&i 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
tt6ElP|D 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
pzCD'
!* 应该选择像素化折射率调制。
gPd:>$
4qrPAt nZ$,Bjb 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
tQF7{F-} 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
NGd|7S[^+c /1gKc}rB2 6.通过GRIN介质传播 q;}^Jpb; ,.x5 \4bma<~a e*jn7aya 通过折射率调制层传播的传播模型:
>Czcs=(L.k - 薄元近似
O_FT@bo\ - 分步光束传播方法。
|&o1i~Y 对于这个案例,薄元近似足够准确。
Q{Jz;6" 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
ACU0 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
B@63=a*kG nv2Y6e}dG 7.模拟结果 .1t$(]CyC 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
tv,^ Q} ?MPM@9 8.结论 n,9 *!1y VjMd&>G VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
q(\$-Dk.Vv 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
tV[?WA[xt 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。