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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 4M=]wR;  
    {g'(~ qv  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 0cv{  
     设计包括两个步骤: FZ{h?#2?  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 *<$*"p  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 8l>?Pv  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 h"[AOfTE$  
    zq 3\}9  
    JK7G/]j+Ez  
    照明光束参数 9@SC}AF.  
    !{+,B5 Hc  
    5N#aXG^9  
    波长:632.8nm fbyd"(V 8r  
    激光光束直径(1/e2):700um
    \0^Kram>  
    5c@,bIl *  
    理想输出场参数 /7(W?xOe  
    qJf?o.Pv  
    KaLzg5is  
    直径:1° HDz5&7* .  
    分辨率:≤0.03° {X!r8i  
    效率:>70% SpIv#?  
    杂散光:<20% |QF7 uV  
    7m47rJyW4  
    o@_q]/Mh  
    2.设计相位函数 rP'me2 B  
    u%GEqruo[  
    RF?`vRZOe  
    ^Y?k0z  
     相位的设计请参考会话编辑器 /m!BY}4W  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 .97])E[U  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 Gf%~{@7=u  
    [>vLf2OID  
    3.计算GRIN扩散器 . o6Or:L  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 V%t.l  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 8$] 1M,$r  
     最大层厚度如下: h 7*J9[$  
    ,=uD^n:  
    4.计算折射率调制 &.F4 b~A7  
    b.Os iT;_j  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 L@rcK!s,lD  
    `C,n0'PL.  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 HRpte=`q  
    xW+6qtG`  
    8%:Iv(UMk  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 [ XN={  
    m%0p\Y-/  
    Q@=Q0  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 Mg+2. 8%  
    YByLoM*  
    .w:DFk^E]b  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 6u?>M9  
    ),_@WW;k  
    S0$8@"~=  
    GWGSd\z  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 "BAK !N$9  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 Oz.HH  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 >e lJkq|  
    (xycJ`N  
    5.X/Y采样介质 j<upRS,$  
    -$\y_?}  
    k``_EiV4t  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 REQ\>UO_  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 > [)7U _|p  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 L]7=?vN=8  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    $Ph|e)p  
    ]IaMp788  
    K&u_R  
    p;a,#IJu  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 ;J'LS  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 b\f O8{k  
     应该选择像素化折射率调制。 gE-tjoJ  
    >[f?vrz  
    4>YR{  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 G+9,,`2  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 XoK:N$\}t  
    *YI98  
    6.通过GRIN介质传播 VD AaYDi  
    TT%M' 5&  
    oE @a'*.\  
    @ 6\I~s(  
     通过折射率调制层传播的传播模型: D'>_I.  
    - 薄元近似 x%=si[P  
    - 分步光束传播方法。 5"VTK  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 #&+{mCjs  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 je\Ph5"  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 j{ ]I]\=?  
    ]Ee?6]bN  
    7.模拟结果 m~BAyk^jo3  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    _ >?\DgjH  
    _{ue8kGt  
    8.结论 Mc lkEfn  
    810|Tj*U%  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 ejKucEgD  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 _`$qBw.Nx  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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