1.模拟任务 [> Q+=(l $hXhq*5|c 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
{26/SY 设计包括两个步骤:
JHC 6l - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
g1UP/hNJ\8 - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
B&3oo 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
`7[z%cuK `fYICp .SzPig 照明光束参数 L|A}A[ P AwN7/M~' }8`W%_Yk 波长:632.8nm
GgwO>[T 激光光束直径(1/e2):700um
o`,|{K$H q$x$ 4 理想输出场参数 9.)*z-f$ {xJq F4 D+.<
kY. 直径:1°
'RZ=A+% X 分辨率:≤0.03°
_$g6Mj]1z 效率:>70%
uyZ 杂散光:<20%
dnRbt{`jP )lh48Ag0t; bS7rG$n [ 2.设计相位函数 .LMOmc=( F<H[-k*t/ PxE 0b0eo DO6Tz-%o 相位的设计请参考会话编辑器
VAPRI\uM; Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
!'scOWWn 设计没有离散相位级的phase-only传输。
PW7{,1te, r?Q`b2Q 3.计算GRIN扩散器 ,6TF]6: GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
$$'a 最大折射率调制为△n=+0.05。
gJ;jh7e@ 最大层厚度如下:
tf<}%4G dAg<BK/ 4.计算折射率调制 *XN|ZGl/ 1V?)T 从IFTA优化文档中显示优化的传输
^hL?.xj =T7lv%u 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
gbf2ty B:5N Ia 4sJM!9eb[ 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
%*:X
FB sVzU>
3jR> 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
;&iZ{ `wGP31Y. uO]^vP]fT 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
9c p jO 0 $Ygt0d *aem5E`c Jeb"t1.$ 数据阵列可用于存储折射率调制。
Xgb ~ED] 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
KH=4A-e,0 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
J]h$4" +,8j]<wpo 5.X/Y采样介质 c
qWX*&2_
#k}x} rn<' <xn96|$ GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
"K Or)QD/ 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
322)r$!" 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
yW@0Q: 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
<q}w, XU _R/^P>Q? &<Iyb}tA? LA +BH_t& 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
pYxdE|2j 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
:NCY6?
[Dz 应该选择像素化折射率调制。
h=a-~= 8 EdH;P\c pwIu;:O!? 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
\jR('5DcB 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
\N|ma P = n>aJ(=Pd 6.通过GRIN介质传播 BdMmeM2h 'gD,HX B)L=)N o)B`K." 通过折射率调制层传播的传播模型:
*m>XtBw. - 薄元近似
wO-](3A-8P - 分步光束传播方法。
e6
&-f 对于这个案例,薄元近似足够准确。
$E >) 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
_x'?igy 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
03)R_A Le?yzf 7.模拟结果 :c?}~a~JO( 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
Lh_Q@>k S&q(PI_" 8.结论 asj*/eC$/i RJ63"F $ VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
.a@>1XO 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
n){F
FM 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。