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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 k iCg+@nT  
    )xQA+$H#4  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 ewtoAru  
     设计包括两个步骤: hQfxz,X  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 =kvYE,,g_  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 =e,2/Ep{i  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 5sq#bvfJ o  
    JtU/%s  
    oY{r83h{  
    照明光束参数 YDyi6x,  
    %!HmtpS  
    {^bs }($J  
    波长:632.8nm eID"&SSU  
    激光光束直径(1/e2):700um
    %o +VZEH3  
    *Gm%Dn  
    理想输出场参数 PU^Z7T);  
    ;o#R(m@Lx  
    V4!RUqK  
    直径:1° 0%^m  
    分辨率:≤0.03° %fpcH  
    效率:>70% G?MNM-2  
    杂散光:<20% 94F9f^ L  
    fmvv q1G&  
    w7"Z @$fs  
    2.设计相位函数 Ov)rsi  
    % ;2x.  
    y@G5I>v  
    7@m  
     相位的设计请参考会话编辑器 S3Tww]q  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 9\i,3:Qc  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 R gEKs"e  
    d]k >7.  
    3.计算GRIN扩散器 ('xu2 ;<  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 v>$GVCY  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 Au" [2cG  
     最大层厚度如下: g0^%X9s  
    2`l$uEI3oJ  
    4.计算折射率调制 Ajhrsa\~a  
    Db= iJ68  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 5_nkN`x  
    +MeEy{;  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 `{/z\  
    Sj}@5 X6 C  
    <vA^%D<\~  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 Ne.W-,X^cL  
    ~/h P6*  
    \sF}NBNT@  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 z1F[okLA  
    w'.ny<Pe  
    !o&Mw:d  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 d;(L@9HHD  
    *Rj>// A  
    } CJQC  
    Zi2NgVF  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 JB'q_dS}  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 \p.Byso,  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 Zcz)FP#  
    S0g5Ym ia  
    5.X/Y采样介质 ![:S~x1  
    3`k 1  
    7##nY3",^  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 "a6 wd  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 GOa](oD}  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 lb&tAl"D  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    pH?VM&x  
    OHqLMBW!!  
    'sY>(D*CQ  
    Hv<%_t_/  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 ?'$=G4y&?  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 @k,u xe-  
     应该选择像素化折射率调制。 OsAXHjX}  
    -(qoz8H5  
    X c,UR .  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 oFHVA!lqe  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 <2ffcBv  
    1?)<*[  
    6.通过GRIN介质传播 -Z<e`iFQS  
    &m4 \"X@  
    _W]2~9  
    u sR19_E-  
     通过折射率调制层传播的传播模型: |VlAt#E  
    - 薄元近似 s>"=6gb  
    - 分步光束传播方法。 X!CLOHVA a  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 zY\v|l<T  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 Cr4shdN34  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 =1^Ru*G  
    Fx0K.Q2Y0  
    7.模拟结果 r1-?mMSU&  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    %zd1\We  
    u-pE ;|  
    8.结论 g84~d(\?  
    *2 4P T7  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 s:R>uGYOd  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 Zx55mSfx:  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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