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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务  wC}anq>>  
    ;S7MP`o@  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 x32hO;  
     设计包括两个步骤: 5.q2<a :  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 ^"(C Zvq  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 a{GPAzO+  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 `gDpb.=Y  
    [h {zT)[  
    7b_t%G"  
    照明光束参数 .-awl1 W  
    (1^AzE%U+Z  
    RpOGY{[)[  
    波长:632.8nm P\pHos  
    激光光束直径(1/e2):700um
    +? E~F  
    Y[R veF  
    理想输出场参数 wa\Yc,R  
    <v>^#/.0  
    '=Nb`n3%  
    直径:1° RXxi7^ U  
    分辨率:≤0.03° >7V96jL$Y  
    效率:>70% TwH%P2)x  
    杂散光:<20% - 0R5g3^*/  
     _zvCc%  
    o^&u?F9  
    2.设计相位函数 MHeUh[%(  
    ($pNOG H  
    O2g9<H   
    PV$)k>H-  
     相位的设计请参考会话编辑器 zkt`7Pg;J  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 Kkcb' aDR  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 ?<)4_  
    EmNJ_xY  
    3.计算GRIN扩散器 (H5nz':  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 e=Ko4Ao2y  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 R/ix,GC  
     最大层厚度如下: kw{dvE\K  
    ~" |MwR!0  
    4.计算折射率调制 6 <XQ'tM]N  
    M15Ce)oB1(  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 )O\w'|$G  
    "jV :L  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 7^)8DwAl  
    SQ'\Kd=  
    |>|f?^  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 QOiPDu=8z  
    {*mf Is  
    (K xI*  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 PkX4 !  
    ]8@s+ N  
    VaP9&tWXj  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 epN> ;e z  
    S!WG|75B  
    >x?x3#SX  
    ,+2!&"zD  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 idsBw!DB  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 Znr6,[U+q  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 tV?-   
    Nm$B a.Rg  
    5.X/Y采样介质 5"sd  
    )qSjI_qt5  
    #zmt x0  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 GmhfBW?  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 Y"H'BT!b}  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 =&T%Jm}  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    n( RQre  
    3JYhF)G  
    CWBlDz  
    \-Vja{J]  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 M( w'TE@  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 5 w-Pq&q  
     应该选择像素化折射率调制。 ^?M# |>  
    (aC~0 #4  
    B]2m(0Y>>v  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 <+y%k~("  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 ycq+C8J+Ep  
    !$u:_8  
    6.通过GRIN介质传播 0oK_uY 4g  
    E)3Ah!  
    =kzuU1s  
    kB` @M>[  
     通过折射率调制层传播的传播模型: ~ =GwNo_  
    - 薄元近似 [KQ#b  
    - 分步光束传播方法。 +Y?) ?  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 2dsXG$-W2  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 KvjsibI/Y  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 gV}c4>v(  
    FEH+ PKSc  
    7.模拟结果 (H^)wDb  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    E "%d O  
    8n/8uRIR  
    8.结论 vpq"mpfkh  
    j>8S,b=%  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 .oS[ DTn5S  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 ?;]Xc~  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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