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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 ]Hv*^Bak  
    a @yE:HU  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 PxdJOtI"  
     设计包括两个步骤: [)T$91 6I  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 dn:|m^<)  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 IIYX|;1}X  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 znGZULa#  
     3D[:Rf[  
    <yX@@8  
    照明光束参数 QySca(1tN  
    UU;Y sj  
    Ae,2Xi  
    波长:632.8nm |hZ|+7  
    激光光束直径(1/e2):700um
    eB}sg4  
    f@,hO5h(_|  
    理想输出场参数 61t-  
    -wG[>Y  
    Ply2DQr  
    直径:1° =1uj1.h  
    分辨率:≤0.03° Ugee?;]lu  
    效率:>70% CU} q&6h  
    杂散光:<20% 6+{nw}e8  
    &B{Jxc`VA  
    sf|_2sI  
    2.设计相位函数 &~D.")Dz  
    h}c6+@w&-  
    10QNV=yK7s  
    `tUeT[  
     相位的设计请参考会话编辑器 iZVT% A+q  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 7Vof7Y <  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 } SWA|x  
    "pKGUM  
    3.计算GRIN扩散器 ]h`E4B  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 &6~ncQWu  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 tjc5>T[Es8  
     最大层厚度如下: XEe+&VQmY  
    qjdahVY  
    4.计算折射率调制 s$3eJ|  
    55jY` b .  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 $`+~QR!h  
    ?8aWUgl  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 uDMUy"8&!  
    GoZJDE3  
    ES2d9/]p-  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 o*5e14W(:  
    "S:NU .c?  
    x]jdx#'  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 P^d . ,  
    t]YLt ,  
    Q& unA3  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 >GF(.:7  
    / F  
    pdXgr)Uv  
    5{x[EXE'  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 $SD@D6`lL  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 E&Zx]?~  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 u/c~PxC  
    |^&2zyUj/  
    5.X/Y采样介质 p~{%f#V  
    4s+J-l  
    5eZg+ O  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 2%No>w}/2  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 n4 6PQm%p  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 iLQt9Hyk  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    sn T4X  
    2 ShlYW@~  
    ?PU(<A+  
    H9a3 rA>  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 nm%4L  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 ThiPT|5u  
     应该选择像素化折射率调制。 m{=~| I  
    ;@;ie8H  
    YH'.Yj2  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 1)kl  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 0kr& c;~  
    nQ(:7PFa'  
    6.通过GRIN介质传播 ->#@rF:S  
    Fn0LE~O}-8  
    whp\*]8  
    Vm%ux>}  
     通过折射率调制层传播的传播模型: sMpC4E  
    - 薄元近似 .$E~.6J %i  
    - 分步光束传播方法。 di P4]/%1  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 /iJhCB[QZ  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 $S-;M0G x  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 9g,L1 W*  
    !z6/.>QJ~  
    7.模拟结果 >|&OcU  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    {xb%P!o`  
    [Kj#KJxy  
    8.结论 8X~vJ^X9@y  
    a\j\eMC  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 /r 2.j3:l  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 VH1c)FI  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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