1.模拟任务 'gH#\he[Dh 1mM52q.R4 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
pQ\ [F 设计包括两个步骤:
]<= t - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
5ZxBmQ - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
jO.E#Ei}~ 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
r!uAofIi_ S"z4jpqn3 xKux5u_ 照明光束参数 ti%
e.p0[ )G gx |Ay#0uQ5Y 波长:632.8nm
XITQB|C??$ 激光光束直径(1/e2):700um
> `M\xt !*-cf$ 理想输出场参数 9]\vw ugP R)tDfM V [>5 直径:1°
jT0fF 分辨率:≤0.03°
~?r6Ax-R 效率:>70%
9-SXu lgu 杂散光:<20%
`,"Jc<R7Z O}V2>W$ mqw.v$> 2.设计相位函数 -nSqB{s!SD p04w83 jX bc NYoZ8`
8uiQm;W 相位的设计请参考会话编辑器
nU)f]4q{Ec Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
EK^2 2vi$ 设计没有离散相位级的phase-only传输。
Az[z} r4 Lf9h;z># 3.计算GRIN扩散器 Sm5"Q GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
Q1yTDJ(2 最大折射率调制为△n=+0.05。
{n'}S( 最大层厚度如下:
yfrgYA v/dcb% 4.计算折射率调制 oJy/PR3 tWuQKN`_ 从IFTA优化文档中显示优化的传输
=t2epIr5 2]wh1) 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
{`> x"Y5 k6\c^%x LTHS&3%2 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
i%2K%5{)$D COafVlJ,l
Tj:F Qnx 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
2~ a4ib JI(|sAH )uP= o 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
"( xu 78wcMQNX9 lk|/N^8M 04:Dbt~=?p 数据阵列可用于存储折射率调制。
@z.!Dby 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
<V{BRRx 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
M-_)CR #<{MtK_ 5.X/Y采样介质 S{ !hpq~o
whshjl?a 1mqFnVkf&+ GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
,7aqrg 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
O{PRK5 ^h 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
Sl1N V 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
I
g`#U~ eYFCf; {#MViBhd% SWt"QqBU 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
We|*s2! 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
O1A*-G:X 应该选择像素化折射率调制。
Oqyh{q%] <[Vr(.A @47TDCr 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
7^1ikmYY 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
ts
]
+W!: QnqX/vnR 6.通过GRIN介质传播 9I9)5`d|Jn N{'k
]& q:(K^ iZUBw 通过折射率调制层传播的传播模型:
S$Wd}2> - 薄元近似
8^T' a^Wt - 分步光束传播方法。
=vWnqF: 对于这个案例,薄元近似足够准确。
F#hM S< 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
pP .
场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
-v:Y\=[\ x/ez=yd*l 7.模拟结果 mEA w^ 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
W $y?~2 S"dQ@r9 8.结论 R$\ieNb +CACs7tV VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
975KRnj 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
>U17BGJ. 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。