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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 *'QD!Tc  
    nr! kx)j  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 Fj7cI +  
     设计包括两个步骤: km}%7|R?  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 Yr ,e7da  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 .?<,J  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 RnIL>Akp  
    UKZsq5Q  
    yw{GO([ZQ  
    照明光束参数 -SlLX\>p  
    e#0R9+"Ba  
    rKg5?.  
    波长:632.8nm Z<0M_q9?MO  
    激光光束直径(1/e2):700um
    n* 9)Y~  
    Ih{(d O;  
    理想输出场参数 >(|T]u](q  
    -nV]%vJ$R}  
    vO&%sjvH  
    直径:1° vc^qpOk  
    分辨率:≤0.03° =CFO]9  
    效率:>70% Oq|RMl  
    杂散光:<20% f]qP xRw  
    ;xN 4L  
    *=$Jv1"Q +  
    2.设计相位函数 7Fh%jRHZ`  
    TXv3@/>ZlG  
    ) 'j7Ra  
    #B88w9 b`D  
     相位的设计请参考会话编辑器 jri=UGf  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 AcwLs%'sx  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 -L NJ*?b  
    3T'9_v[Y  
    3.计算GRIN扩散器 4@u*#Bp`|  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 lSPQXu*[  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 ?R(fxx  
     最大层厚度如下: %u, H2 *  
    yrSmI)&%  
    4.计算折射率调制 D8m1:kU  
    MXh0a@*]  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 QgqR93Ic  
    2TXrVaM  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 7.,C'^ci  
    H!y1&  
    u3a"[DB9c  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 t3}>5cAxy  
    CCNrjaA  
    h#dp_#  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 08n2TL;EsX  
    w<!F& kQB  
    V`fp%7W  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 c$Z3P%aP'V  
    z\]]d?d?;  
    zVKbM3(^  
    l ~b# Y&  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 UMILAoR  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 )"/.2S;  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 X4_1kY;  
     l+HmG< P  
    5.X/Y采样介质 7hQXGY,q  
    2Nrb}LH  
    P(a!I{A(  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 fd! bs*\X  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 j #G4A%_  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 4 3V {q  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    OyH>N/  
    eS-akx^@  
    L1ro\H  
    |(u6xPs;P  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 \5M1;  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 i=T!4'Zu  
     应该选择像素化折射率调制。 [U'I3x,  
    #J~   
    !k@ (}CN_*  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 v+Mi"ZAd  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 VUnO&zV{  
    ]dIcW9a  
    6.通过GRIN介质传播 r&+8\/{  
    sB`.G  
    i ]x_W@h  
    3N c#6VI  
     通过折射率调制层传播的传播模型: Gf71udaa  
    - 薄元近似 ^%ZbjJ7|j  
    - 分步光束传播方法。 #0$fZ  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 7" Qj(N  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 #djby}hi  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 n x4:n@J  
    qJ(XW N H  
    7.模拟结果 O{^8dwg  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    RGEgYOO  
    F3nYMf  
    8.结论 MTXh-9DA  
    8k +^jj  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 =EFCd=i  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 Z<D8{&AjS  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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