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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 $O&N  
    )(OGo`4Qz  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 ;eJ|) *  
     设计包括两个步骤: mPF<2:)wv  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 e,xJ%f  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 }vU^g PH  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 z6Fl$FFP  
    Dm%Q96*VAq  
    ~z^49Ys:  
    照明光束参数 k]A =Q  
    baBPf{<  
    F~0iJnF  
    波长:632.8nm Pv=]7> e  
    激光光束直径(1/e2):700um
    ._]*Y`5)d  
    p1[|5r5Day  
    理想输出场参数 HWIn.ij  
    1,:QrhC  
    6-~ZOMlV  
    直径:1° l9]nrT1Hy  
    分辨率:≤0.03° V["'eJA,,  
    效率:>70%  '9'f\  
    杂散光:<20% \?wKs  
    XI:+EeM?  
    H2xDC_Fs  
    2.设计相位函数 \irKM8]LJ  
    39m8iI%w[  
    ^?_MIS`4N  
    d}  5  
     相位的设计请参考会话编辑器 PdEPDyFkh  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 E^Ch;)j|  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 ]yQqx*  
    2kOaKH[(q  
    3.计算GRIN扩散器 2s=zT5  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 k.})3~F-  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 h+7U'+|%A  
     最大层厚度如下: Lr20xm  
    W6`_ lGTj  
    4.计算折射率调制 x?]fHin_  
    PT~F ^8,)  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 Lp3pJE  
    FRL;fF  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。  ^Y!$WP  
    Zx`/88!x[  
    Vx:uqzw#  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 dKP| TRd  
    bl^pMt1fv  
    ,S m?2<  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 xnJ#}-.7  
    oCLM'\  
    _j4 K  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 p.<d+S<  
    e A3 NyL  
    Q);}1'c  
    A/&u /?*C  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 O>I%O^  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 <IBUl}|\  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 Dw 5Ze  
    uhv_'Q  
    5.X/Y采样介质 i-#Dc (9  
    VZe'6?#  
     %{UW!/  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 ]ncK M?'O  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 ~]Av$S  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 /XA*:8~!  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    \ [M4[Qlq  
    6(7dr?^eGT  
    o.Bbb=*rZ  
    7<L!" 2VB  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 ~eS/gF?  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 ug'^$geM  
     应该选择像素化折射率调制。 ^jcVJpyT@R  
    %tPy]{S..  
    Nx+5rp  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 iA`.y9'2  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 Ji1#>;&  
    ' QjJ^3A  
    6.通过GRIN介质传播 pc QkJ F  
    E$A=*-u  
    D(Q]ddUi'  
    DGw*BN%`  
     通过折射率调制层传播的传播模型: '*Tt$0#o  
    - 薄元近似 pV!WZ Ufg  
    - 分步光束传播方法。 LF)wn -C}  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 ay`R jT  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 [\%a7ji#  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 Z N&9qw*  
    iSfRo 31  
    7.模拟结果 meXwmO  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    bA'N2~.,  
    Q~n%c7  
    8.结论 *.VNyay  
    91nB?8ZE6,  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 cXr_,>k  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 d DAl n+  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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