1.模拟任务 R|jt mI? ScgaWJ 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
E^)>9f7 设计包括两个步骤:
/Ria"lLv - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
fd {75J5% - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
*Vbf;=Mb 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
J<"=c
z$ XB8g5AxR B# >7;xy> 照明光束参数 ;.O#|Z[ jujhK'\ v0D~zV"<y 波长:632.8nm
kq{PM-]l 激光光束直径(1/e2):700um
9;\a|8O K}vP0O} 理想输出场参数 \gBsAZE kBh*@gf 1BA/$8G 直径:1°
>FVBn;1 分辨率:≤0.03°
Hwz.5hV" 效率:>70%
+f}u.T_# 杂散光:<20%
4"om;+\ DRDn;j G^G= .9O 2.设计相位函数 :7WeR0*% nY>UYSv gMGX)Y ,=/ Oc
Gg'R7 相位的设计请参考会话编辑器
W>+/N4 Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
6njwrqo 设计没有离散相位级的phase-only传输。
sjZ@}Vk3b DOsQVdH 3.计算GRIN扩散器 K&Sz8# + GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
A~@u#]]<n 最大折射率调制为△n=+0.05。
U#qs^f7R 最大层厚度如下:
hT=6XO od4 bAUruTn 4.计算折射率调制 L[D<e?j ;R_H8vp 从IFTA优化文档中显示优化的传输
fEWXC|" !kTI@103Wd 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
R_vF$X'O w j>}<FW-N e5s=@-[ 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
z0jF.ub <>Nq]WqA
7;8#iS/ 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
9'My/A0 ;8~tt I ;Y^.SR" 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
x%Fy1. r(VGdG fz[-pJ5[ tO@n3"O 数据阵列可用于存储折射率调制。
* NB:"1x 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
1.U9EuI 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
z6Xn9 Zv"qA 5.X/Y采样介质 =o+js;3
#~I.F4 >.76<fni GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
i?+>,r@\p 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
(2l?~CaK 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
tLD(%s_ 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
\7d T]VV W]-c`32~S gK6_vS4K) uto
E}U7] 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
?r%kif) 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
79bt%P 应该选择像素化折射率调制。
{SOy- gz~)v\5D/ ,K-?M5(n9 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
1UwpLd 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
iiWm>yy }u
`~lw(Z 6.通过GRIN介质传播 Z{ AF8r YM`I&!n )_H>d<di PX$_."WA 通过折射率调制层传播的传播模型:
Yo^9Y@WDW - 薄元近似
<`P7^
'z! - 分步光束传播方法。
d>YX18'<Q 对于这个案例,薄元近似足够准确。
h%[1V 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
{I9<W'k{ 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
Es^=&2'' 7A6: * 7.模拟结果 \:pd+8 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
#FwTV@ SU$%nK ) 8.结论 0%b!ARix d+iV19 #i VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
}%lk$g'; 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
D3.$Vl,. 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。