1.模拟任务 Ou1kSG|kM }`L;.9 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
"1gIR^S%9 设计包括两个步骤:
8d*S9p,/ - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
m u9,vH - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
gN}$$vS 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
drAJ-ii (.$$U3\ [,Ul 照明光束参数 _i ztQ78 C5(XZscq M%:\ ry4: 波长:632.8nm
Y"t|0dO%b 激光光束直径(1/e2):700um
|\Gkhi>; B4un6-<i 理想输出场参数 t?&; J <z
^C #^RIp>NN9 直径:1°
1CJ1-]S(3 分辨率:≤0.03°
O_ r-(wE4 效率:>70%
dUB;ZB7 杂散光:<20%
YN)qMI_`A o Tvg%bX Jhj ]`$J 2.设计相位函数 IgJG,!>h \GHj_r n=b!c@f4 /QS Nv 相位的设计请参考会话编辑器
}{:Jj/d
p Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
Ew]&~:$Ki 设计没有离散相位级的phase-only传输。
G-D}J2r=F X7*ossv 3.计算GRIN扩散器 WMKxGZg" GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
I.t)sf, 最大折射率调制为△n=+0.05。
%l%ad-V 最大层厚度如下:
{6LS$3}VM lrPIXIM 4.计算折射率调制 q !}~c wy|b Hkr_ 从IFTA优化文档中显示优化的传输
X%I@4 B7Ts !*DYdqQ/ 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
w:I!{iX -AL^ %a8e_ 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
,V!Wo4M Bs3&yEq(
= <A0; 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
"WY5Pzsi: ~W"@[*6w Z!q$d/1 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
j<WsFVS u=PLjrB~} Q-iBK*-w c;KMox/ 数据阵列可用于存储折射率调制。
wtL=^ 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
owa&HW/_ 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
g9Dynm5 1e9~):C~W 5.X/Y采样介质 (3K,f4S@
^Et^,I:` kxrYA|x GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
AH#a+<;a 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
Bvj 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
_^?_Vb 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
{qSMJja !t 8YPX8d8u o]]tH _`*G71PS 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
K{Nj-Rqd 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
D0_CDdW%7 应该选择像素化折射率调制。
Dm?:j9o]g Jzp|#*~$E iu0'[ 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
vytO8m%U 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
wKpD++k h8k\~/iJ 6.通过GRIN介质传播 .2|(!a9W UZ-pN_!Z: vEE\{1 mWP&N#vwh 通过折射率调制层传播的传播模型:
Q`O~ f<a - 薄元近似
P=P']\`p+ - 分步光束传播方法。
.f[z_%ar 对于这个案例,薄元近似足够准确。
`.~*pT*u 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
@5??`n 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
1JOoICjB !u:;Ew 7.模拟结果 `PLax@]2 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
C%%gCPI^y i}f" 'KW 8.结论 0Bkc93 l"h6e$dP VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
7uu\R=$ 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
V<}chLd, 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。