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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 [> Q+=(l  
    $hXhq*5|c  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 {26/SY  
     设计包括两个步骤: JHC 6l  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 g1UP/hNJ\8  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 B&3oo   
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 `7[z%cuK  
    `fYICp  
    .SzP ig  
    照明光束参数 L|A}A[P  
    AwN7/M~'  
    }8`W%_Yk  
    波长:632.8nm GgwO>[T  
    激光光束直径(1/e2):700um
    o`,|{K$H  
    q$x$ 4  
    理想输出场参数 9.)*z-f$  
    {xJq F4  
    D+.< kY.  
    直径:1° 'RZ=A+%X  
    分辨率:≤0.03° _$g6Mj]1z  
    效率:>70% uyZ  
    杂散光:<20% d nRbt{`jP  
    )lh48Ag0t;  
    bS7rG$n [  
    2.设计相位函数 .LMOmc=(  
    F<H[-k*t/  
    PxE0b0eo  
    DO6Tz -%o  
     相位的设计请参考会话编辑器 VAPRI\uM;  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 !'scOWWn  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 PW7{,1te,  
    r?Q`b2Q  
    3.计算GRIN扩散器 ,6T F]6:  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 $$'a  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 gJ;jh7e@  
     最大层厚度如下: tf<}%4G  
    dAg<BK/  
    4.计算折射率调制 *XN|ZGl/  
    1V ?)T  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 ^hL?.xj  
    =T7lv%u  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 gbf2ty  
    B:5NIa  
    4sJM!9eb[  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 %*:X FB  
    sVzU>  
    3jR>   
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 ;&iZ {  
    `wGP31Y.  
    uO]^vP]fT  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 9c pjO  
    0 $Ygt0d  
    *aem5 E`c  
    Jeb"t1.$  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 Xgb ~ED]  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 KH=4A-e,0  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 J]h$4"  
    +,8j]<wpo  
    5.X/Y采样介质 c qWX*&2_  
    #k}x} rn<'  
     <xn96|$  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 "K Or)QD/  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 322)r$!"  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 yW@0Q:  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    <q}w,XU  
    _R/^P>Q?  
    &<Iyb}tA?  
    LA +BH_t&  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 pYxdE|2j  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 :NCY6? [Dz  
     应该选择像素化折射率调制。 h=a-~= 8  
    EdH;P \c  
    pwIu;:O!?  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 \jR('5DcB  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 \N|ma P  
    = n>aJ(=Pd  
    6.通过GRIN介质传播 BdMmeM2h  
    'gD,H X  
    B)L=)N  
    o)B`K."  
     通过折射率调制层传播的传播模型: *m>XtBw.  
    - 薄元近似 wO-](3A-8P  
    - 分步光束传播方法。 e6 &-f  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 $E >)  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 _x'?igy  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 03)R_A  
    Le?yzf  
    7.模拟结果 :c?}~a~JO(  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    Lh_Q@>k  
    S&q(PI_"  
    8.结论 asj*/eC$/i  
    RJ63"F $  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 . a@>1XO  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 n){F FM  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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