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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 6u^M fOc  
    ek6PMZF:'  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 sp*_;h3'  
     设计包括两个步骤: 3]Rb2$p[=  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 'ms&ty*T  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 d7Lna^  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 T^YdAQeE  
    $rFLhp}  
    @#[<5ld  
    照明光束参数 L2:v#c()#)  
    3n-~+2l  
    tM3eB= .*  
    波长:632.8nm N3 qtq9{  
    激光光束直径(1/e2):700um
    Yg@k +  
    xu[6h?u(h8  
    理想输出场参数 4kZX$ct}  
    mk#xbvvG  
    k@r%>Ul@  
    直径:1° ?h)Z ;,}  
    分辨率:≤0.03° I_66q7U"0  
    效率:>70% luD.3&0n  
    杂散光:<20% #=r:;,,  
    %:rct  
    x#z}A&  
    2.设计相位函数 j?sq i9#  
    }& ;49k  
    YSi[s*.G  
    <RzGxhT  
     相位的设计请参考会话编辑器 r}ZL{uWMW  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 --*Jv"/0  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 Eshc"U  
    It.G-(  
    3.计算GRIN扩散器 \]pRu"  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 =@w,D.5h  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 }S84^2J_  
     最大层厚度如下: aq/'2U 7  
    0c*y~hUVZ  
    4.计算折射率调制 $|~YXH~O  
    Q; DN*  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 5&V0(LT]C  
    3 D<s #  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 Uz(Sv:G  
    _ZUtQ49  
    Qu4Bd|`(k  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 ~RdJP'YF-  
    !Cse,6/Z  
    := OdjfhY  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 I75>$"$<  
    HPM ggRs  
    w7d(|`  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 (6##\}L&9  
    q)S70M_1  
    #gjhs"$~  
    (' yBIb\ue  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 78'HE(*  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 3|1ug92  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 9I3vW]0x[  
    GF(<!PC  
    5.X/Y采样介质 :oRR1k  
    7R W5U'B  
    'n1-?T)  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 'F3cvpc`  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 Z x&gr|)}  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 A UCk]  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    [,;h1m ~iX  
    r3.A!*!  
    xw2dEvjgp%  
    9='a9\((mH  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 ~loJYq'y  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 ~fL:pVp  
     应该选择像素化折射率调制。 Mf [v7\  
    _ U/[n\oC  
    /W4F(3oM  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 pv/LTv  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 X~ca8!Dq  
    <G d?,}\  
    6.通过GRIN介质传播 Ln~Z_!  
    G's >0  
    !nX}\lw  
    \1k(4MWd  
     通过折射率调制层传播的传播模型: ;%u'w;sgq  
    - 薄元近似 fb8"hO]s  
    - 分步光束传播方法。 j+B+>r ^  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 WJCh{Xn%*  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 >GRL5Iow  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 (?luV#{5  
    p72:oX\Q I  
    7.模拟结果 G-5wv  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    Ps<6kQ(  
    L`$m<9w'  
    8.结论 ] T `6Hz!  
    Iud]*5W  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 s06tCwPp  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 M6$9-  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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