1.模拟任务 40ZB;j$l 7 {<lH%Tn 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
r4zS, J;, 设计包括两个步骤:
Kj5f:{Ur - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
MeS$+9jV( - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
\`x'g)z(i 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
`Nr7N#g+u zW.sXV, } 4^UVdz 照明光束参数 iDN,}:<V ,iy zD|W3hL2& 波长:632.8nm
|-<L :% 激光光束直径(1/e2):700um
jz0\F,s 3~'F^=T.Y 理想输出场参数 ?a(3~dh| .?
/J p^!p7B`qe. 直径:1°
:r=_\? 分辨率:≤0.03°
0:p#%Nvg 效率:>70%
nrS_t
y 杂散光:<20%
a#=-Aj- Uk4">]oct ozG:f*{T 2.设计相位函数 tp&iOP6O ,)G,[ih `$HO`d@0*R rG6/h'!| 相位的设计请参考会话编辑器
p
IToy;] Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
\h4y,sl 设计没有离散相位级的phase-only传输。
L&%iY7sC` +V^_ksi\ 3.计算GRIN扩散器 29oEkaX2o GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
V}?5=f' 最大折射率调制为△n=+0.05。
wr(?L7
$+ 最大层厚度如下:
&rubA :z7!X.* 4.计算折射率调制 !T)>q%@ai 5**xU+& 从IFTA优化文档中显示优化的传输
~r3g~MCHS We2=|AB 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
I6_+3}Hm{ lVHJ}(<'p FqfeH_-U 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
)g9qkQ 8q -u{:39y{n
ikC;N5Sw 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
!RI&FcK @,vSRns %qMk&1
将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
"fdG5|NJe V'B 6C#jT @B6[RZ R ;N|6C+y 数据阵列可用于存储折射率调制。
l3,|r QD 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
!*;)]j 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
ak zb<aT vjb{h'v 5.X/Y采样介质
<_~`)t
NbdaP{{ qM)^]2_- GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
5ym
=2U 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
e j~ /sO 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
ofJ@\xS 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
\; ]~K6= (`&g _z;N|Xe c72/e7gV 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
g?ft;kR6S 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
Xs`/q}R 应该选择像素化折射率调制。
oKUJB.PF 01J.XfCd6 t0Uax-E( 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
ty ~U~ 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
<M=K!k 8m iIlB 6.通过GRIN介质传播 *m2:iChY UX6-{
RP E?V:dr rfk';ph 通过折射率调制层传播的传播模型:
Lt)t}0 - 薄元近似
"2)T=vHi# - 分步光束传播方法。
wS4zAu 对于这个案例,薄元近似足够准确。
: v]< h 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
MkQSq
MU= 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
[30< 0 wXP1tM8T 7.模拟结果 qz 'a.]{= 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
n`6vM4rM) z~F!zigNAc 8.结论 qhogcAvE bAgKOfT VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
?/;<32cE, 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
-C\m'T,1 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。