1.模拟任务 NIQa{R/H >q4nQ/eP 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
=yfr{5}R 设计包括两个步骤:
:P;#Y7}Y$ - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
mqwN<: - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
JA())0a 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
Q8T4_p[-o 90teXxg=| h.=YAcR0D 照明光束参数 o y}( 1*G7Uh@K} AaKILIIQZ 波长:632.8nm
UV@<55)K 激光光束直径(1/e2):700um
B% BO v]Pw]m5=U 理想输出场参数 K\=bpc"Fy Ab8~'<F$B ]X@/0 直径:1°
{I`B?6K5 分辨率:≤0.03°
7A7K:,c 效率:>70%
2 R 1S>X 杂散光:<20%
g)xzy^2e %|r@q Mp"] = 2.设计相位函数 d<fS52~l u&r@@p. !>gc!8Y'o oa1&9 相位的设计请参考会话编辑器
RSzp-sKB Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
GsE?<3 设计没有离散相位级的phase-only传输。
oKzV!~{0M; e7pN9tXGf 3.计算GRIN扩散器 7q$9\RR5 GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
/8J2,8vZ 最大折射率调制为△n=+0.05。
)<IbQH|_ 最大层厚度如下:
D[:7B:i K#+TCZ, 4.计算折射率调制 &!KJrQ 2ggW4`"c 从IFTA优化文档中显示优化的传输
"x3_cA~ ",Ek| z 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
R*VZ=i E(8O3*= I`DdhMi7 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
QO%>RG %Xkynso~
y)Ip\.KV\ 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
i|.!*/qF \#G`$JD $5%tGFh 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
Ya304Pjd T-f+<Cxf |;9OvR> A $N:m
9R 数据阵列可用于存储折射率调制。
B RD>q4w 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
>(:KEA 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
khc5h^0 /0Zwgxt4?7 5.X/Y采样介质 4>$>XL1
M/Bn^A8@ cf@:rHB} GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
}*IX34 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
:%!=Ej.J 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
vE6/B"b 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
$o{f)'.>n Lr40rLx;u C0KP,JS& tdZ: w 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
eEezd[p 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
cg$7`/U 应该选择像素化折射率调制。
%+>I1G p.8G]pS B7N?"'$i 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
tGv4 S\ 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
j31
Sc3vG nVs0$?} 6.通过GRIN介质传播 > YN<~z- y4P mL ,B!u* QP[w{T 通过折射率调制层传播的传播模型:
lZ/Yp~2S - 薄元近似
Q9FY.KUM - 分步光束传播方法。
b`18y cVME 对于这个案例,薄元近似足够准确。
c1jgBty 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
)v0m7Lv#/ 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
LT:KZ|U9 O_KL#xo 7.模拟结果 t4F 1[P 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
}3M\&}=8 u_zp?Nc 8.结论 0o(/%31] LD]XN'?"W VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
w9c 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
DFqXZfjm 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。