1.模拟任务 wC}anq>> ;S7MP`o@ 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
x32hO; 设计包括两个步骤:
5.q2<a : - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
^"(CZvq - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
a{GPAzO+ 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
`gDpb.=Y [h
{zT)[ 7b_t%G" 照明光束参数 .-awl1 W (1^AzE%U+Z RpOGY{[)[ 波长:632.8nm
P\pHos 激光光束直径(1/e2):700um
+? E~F Y[R veF 理想输出场参数 wa\Yc,R <v>^#/.0 '=Nb`n3% 直径:1°
RXxi7^ U 分辨率:≤0.03°
>7V96jL$Y 效率:>70%
TwH%P2)x 杂散光:<20%
- 0R5g3^*/ _zvCc% o^&u?F9 2.设计相位函数 MHeUh[%( ($pN OGH O2g9<H PV$)k>H- 相位的设计请参考会话编辑器
zkt`7Pg;J Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
Kkcb'aDR 设计没有离散相位级的phase-only传输。
?<)4_ EmNJ_xY 3.计算GRIN扩散器 (H5nz': GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
e=Ko4Ao2y 最大折射率调制为△n=+0.05。
R/ix,GC 最大层厚度如下:
kw{dvE\K ~"|MwR!0 4.计算折射率调制 6
<XQ'tM]N M15Ce)oB1( 从IFTA优化文档中显示优化的传输
)O\w'|$G "jV:L 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
7^)8DwAl SQ'\K d= |>|f?^ 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
QOiPDu=8z {*mf Is
(KxI* 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
PkX4 ! ]8@s+N VaP9&tWXj 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
epN>;e z S!WG|75B >x?x3 #SX ,+2!&"zD 数据阵列可用于存储折射率调制。
idsBw!DB 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
Znr6,[U+q 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
tV?- Nm$Ba.Rg 5.X/Y采样介质 5"sd
)qSjI_qt5
#zmt x0 GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
GmhfBW? 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
Y"H'BT!b} 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
=&T%Jm} 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
n( RQre 3JYhF)G CWBlDz \-Vja{J] 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
M(
w'TE@ 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
5
w-Pq&q 应该选择像素化折射率调制。
^?M# |> (aC~0
#4 B]2m(0Y>>v 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
<+y%k~(" 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
ycq+C8J+Ep !$u:[T_8 6.通过GRIN介质传播 0oK_u Y
4g E)3Ah! =kzuU1s kB`
@M>[ 通过折射率调制层传播的传播模型:
~=GwNo_ - 薄元近似
[KQ#b - 分步光束传播方法。
+Y?)? 对于这个案例,薄元近似足够准确。
2dsXG$-W2 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
KvjsibI/Y 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
gV}c4>v( FEH+ PKSc 7.模拟结果 (H^)wDb 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
E"%dO 8n/8uRIR 8.结论 vpq"mpfkh j>8S,b=% VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
.oS[ DTn5S 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
?;]Xc~ 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。