1.模拟任务 :;9F>?VN>0 aht[4(XH5 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
K|[*t~59 设计包括两个步骤:
{N+$Q' - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
@u6B;)'l - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
p;>ec:z3M 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
%V7at7>o cPlZXf oG_~q
w|h 照明光束参数 ,
K~}\CR U2W|:~KM MDn ua 波长:632.8nm
\| 8 激光光束直径(1/e2):700um
``hf=`We FOE4>zE 理想输出场参数 Hquc
o R\!2l|_ W:pIPDx1=! 直径:1°
#cI{Fe0h 分辨率:≤0.03°
,s"^kFl 效率:>70%
_9F9W{' 杂散光:<20%
vg32y /l]S M /"I2m
rX2.i7i, 2.设计相位函数 u. F9g
# z7fp#>uw N5lDS *Q
"wwpl? 相位的设计请参考会话编辑器
$Nhs1st*8 Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
p8Qk'F=h 设计没有离散相位级的phase-only传输。
*RJG!t*t n{argI8wF 3.计算GRIN扩散器 x??+~$}\*- GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
t.i 8
2Q 最大折射率调制为△n=+0.05。
f.KN-f8<F 最大层厚度如下:
Ng2twfSl$ pmyXLT 4.计算折射率调制 G[uK -U &]|?o_p3W 从IFTA优化文档中显示优化的传输
TNe l/ K0|FY=#2y 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
"*e$aTZB\ 2} /aFR 0z6R'Kjy A 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
V^bwXr4f ];[}:f
7x|9n 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
g}k`o!q E Nhl&J f@wquG' 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
B"1c JcsHt; /T0F"e)Ci IL#"~D? 数据阵列可用于存储折射率调制。
m$>H u@Va 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
P~ >OS5^ 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
3Ei#q+7 P64PPbP 5.X/Y采样介质 ]8_NZHld
*K8$eDNZ c_$=-Khk GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
l*Gvf_UH 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
$]/{[@5 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
aFX=C>M 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
t&C1Oo}=3 &
p *5C7d*' ;#W2|'HD 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
e5ZX 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
JzQ_{J`k 应该选择像素化折射率调制。
oM>l#><nq X:"i4i[}{9 n,y ZRY 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
^eY!U%. 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
y@S$^jk. k_#ak%m/ 6.通过GRIN介质传播 BO?%'\ ?=Z?6fw Y.(PiuG$G Uiw2oi&_ 通过折射率调制层传播的传播模型:
XJ;57n-? - 薄元近似
G5BfNU - 分步光束传播方法。
m]6mGp 对于这个案例,薄元近似足够准确。
yLvDMPj 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
2~)`N>@ 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
I3L<[-ZE ~w+c8c8pW 7.模拟结果 /l~p=PK 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
BA:VPTZq y%cP1y) 8.结论 Z"xvh81P z\W64^'"Z VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
Q~
w|# 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
`g=J%p 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。