1.模拟任务 =4+UX*&i?. ]#))#-&1 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
`;5UlkVZ5 设计包括两个步骤:
BJ~Q\Si6 - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
yBht4"\Al - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
uoaF(F- 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
#y}@FG M ~.w:~Jm Yy>%dL 照明光束参数 xWn.vSos LQNu]2 g|e^}voRM 波长:632.8nm
U:gE:t f 激光光束直径(1/e2):700um
[$9 sr=3: SM![ yC 理想输出场参数 G:A~nv9 qmOGsj`# H>;km$b + 直径:1°
-:cS}I 分辨率:≤0.03°
/ D#vs9S 效率:>70%
cV)fe`Gg 杂散光:<20%
Pw
hs`YGMF %!p14c*J H u#la+/
2.设计相位函数 noh3mi SX/yY f9&D0x? /2Y
Nu*v 相位的设计请参考会话编辑器
>sPu*8D40a Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
"p2 $R*ie 设计没有离散相位级的phase-only传输。
k$k(g )0fQ(3oOg 3.计算GRIN扩散器 k[y{&f, GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
-H'_%~OV( 最大折射率调制为△n=+0.05。
zUIh8cAoE 最大层厚度如下:
J
Y %B: 7b:oz3 ?PI 4.计算折射率调制 /o+,
=7hY pk: ruf`) 从IFTA优化文档中显示优化的传输
>xJt&jW- a%*W^R9Ls 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
0f;L!.eP ' OdZ[AN Y?ZTl762 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
roj/GZAy" `k^
i#Nc>
;=*b:y Y 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
;7tOFsV w v9s{I{P h7[VXE 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
1K09iB 1fViW^l_ 7ABHgw~?8r }1z=
C< 数据阵列可用于存储折射率调制。
s2b!Nib 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
*z` {$hc 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
:}UWy?F 5(u7b 5.X/Y采样介质 QbxjfW"/+
XOJ/$y ItC*[ GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
P,CJy|[L 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
s-k~_C>Fw 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
XRJ<1w: 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
R4E0avt j05ahquI ZMg%/C J);1Tpm 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
L4
x 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
*~prI1e( 应该选择像素化折射率调制。
A6q,"BS^d zu*0uL r_FW)F u^ 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
1#aOgvf 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
X~]eQaJ &zb_8y, 6.通过GRIN介质传播
AN$}%t" 7bQ#M )} 1S
0GjR FL(gwfL 通过折射率调制层传播的传播模型:
O 4l[4,` - 薄元近似
xO"5bj - 分步光束传播方法。
IDdhBdQ 对于这个案例,薄元近似足够准确。
1p+2*c 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
czdNqk.kh 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
XH1so1h PKwHq<vAsB 7.模拟结果 frc>0\ 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
67/hhO 75Jh(hd( 8.结论 GB^Ch YOb wgkh}b
VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
!@ai=p 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
31Zl"-<#- 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。