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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 =4+UX*&i?.  
    ]#))#-&1  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 `;5UlkVZ5  
     设计包括两个步骤: BJ~Q\Si6  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 yBht4"\Al  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 uoaF(F-  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 #y}@FG  
    M ~.w:~Jm  
    Yy>%dL  
    照明光束参数 xWn.vSos  
    LQNu]2  
    g|e^}voRM  
    波长:632.8nm U: gE:tf  
    激光光束直径(1/e2):700um
    [$9sr=3:  
    SM! [ yC  
    理想输出场参数 G:A ~nv9  
    qmOGsj`#  
    H>;km$b +  
    直径:1° -:cS}I  
    分辨率:≤0.03° / D#vs9S  
    效率:>70% cV)fe`Gg  
    杂散光:<20% Pw hs`YGMF  
    %!p14c*J H  
    u#la+/   
    2.设计相位函数 noh3mi  
    SX/yY  
    f9&D0x?  
    /2Y Nu*v  
     相位的设计请参考会话编辑器 >sPu*8D40a  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 "p2 $R*ie  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 k$k (g  
    )0fQ(3oOg  
    3.计算GRIN扩散器 k[y{&f,  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 -H'_%~OV(  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 zUIh8cAoE  
     最大层厚度如下: J Y %B:  
    7b:oz3?PI  
    4.计算折射率调制 /o+, =7hY  
    pk: ruf`)  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 >xJt&jW-  
    a%*W^R9Ls  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 0f;L!.eP  
    ' OdZ[AN  
    Y?ZTl762  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 roj/GZAy"  
    `k^ i#Nc>  
    ;=*b:y Y  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 ;7tOFsV  
    w v9s{I{P  
    h7[VXE  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 1K0 9iB  
    1fViW^l_  
    7ABHgw~?8r  
    }1z= C<  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 s2b!Nib  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 *z` {$hc  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 :}UWy?F  
    5(u7b  
    5.X/Y采样介质 QbxjfW"/+  
    X OJ/$y  
     ItC*[  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 P,CJy|[L  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 s-k~_C>Fw  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 XRJ<1w:  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    R 4E0avt  
    j05ahquI  
     ZMg%/C  
    J);1Tpm  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 L4 x  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 *~prI1e(  
     应该选择像素化折射率调制。 A6q,"BS^d  
    zu*0uL  
    r_FW)Fu^  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 1#aOgvf  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 X~]eQaJ  
    &zb_8y,  
    6.通过GRIN介质传播 AN$}%t"  
    7bQ#M )}  
    1S  0GjR  
    FL(gwfL  
     通过折射率调制层传播的传播模型: O 4l[4,`  
    - 薄元近似 xO"5bj  
    - 分步光束传播方法。 IDdhBdQ  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 1p+2*c  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 czdNqk.kh  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 XH1so1h  
    PKwHq<vAsB  
    7.模拟结果 frc>0\  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    67/hhO  
    75Jh(hd(  
    8.结论 GB^Ch YOb  
    wgkh} b   
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 !@ai=p  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 31Zl"-<#-  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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