1.模拟任务 >._d2.Q' f\_RW;y|m 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
_v&fIo 设计包括两个步骤:
9JFN8Gf*) - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
LGt>=|=bj - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
~&RTLr#\*M 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
y?OP- 27y 9[/0 ZR!8hw8 照明光束参数 HAn{^8"@ tLu&3<% uo`R 波长:632.8nm
e(7#>O%1 激光光束直径(1/e2):700um
brA#p>4]Wf [1rQ'FBB^1 理想输出场参数 ,)`_?^\$f k ]NZ%. \\SQACN 直径:1°
e \Qys<2r 分辨率:≤0.03°
k o@ej^ 效率:>70%
d<-f:}^k0 杂散光:<20%
akvi^]x pyhXET
' n%3!)/$ 2.设计相位函数 ?L }>9$" vx9!KWy} G!j 9D +RJ{)Nec 相位的设计请参考会话编辑器
S1$^ _S
= Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
S#]]h/ 设计没有离散相位级的phase-only传输。
^$ Y9.IH" 4K^cj2X 3.计算GRIN扩散器 SXw r$)4_ GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
lgews" 最大折射率调制为△n=+0.05。
gC?}1]9c 最大层厚度如下:
qcs)
p Y|R=^
=d\ 4.计算折射率调制 O?OAXPK2 ins(RWO 从IFTA优化文档中显示优化的传输
3l=q@72 cb_C2+%8NA 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
QVjHGY*R VgbNZ{qk@ Pk;w.)kT 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
x;[ . ZzQ ZuGSR GX'
P3Ql[2 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
:-{"9cgFR _s;y0$O Rs=Fcvl 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
1>e30Ri,g jV2H61d =%|`gZ i~Tt\UA> 数据阵列可用于存储折射率调制。
OH@"]Nc~ 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
!l*A3qA 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
3uYLA4[-B SNqSp.>-U" 5.X/Y采样介质 30HUY?'K
yu6~:$%H x/<ow4C GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
VVQ~;{L 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
z#+WK|a 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
i$y=tJehi 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
{jD?obs |V5BL<4 -o+t&m s{dm,|?Jl, 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
`p\%ha!,w 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
FJ84'T\~ 应该选择像素化折射率调制。
A'w+Lc.2 _-f LD |va@&;#wf 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
!5d n7Wuj 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
u[qy1M0 k1D7=&i 6.通过GRIN介质传播 Gxd/t#; '5aA+XP| (`4&