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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 40ZB;j$l  
    7 {<lH%Tn  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 r4zS,J;,  
     设计包括两个步骤: Kj5f:{Ur  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 MeS$+9jV(  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 \`x'g)z(i  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 `Nr7N#g+u  
    zW.sXV,  
    } 4^UVdz  
    照明光束参数 iDN,}:<V  
    ,iy   
    zD|W3hL2&  
    波长:632.8nm |-<L :%  
    激光光束直径(1/e2):700um
    jz0\F,s  
    3~'F^=T.Y  
    理想输出场参数 ?a(3~dh|  
    .? / J  
    p^!p7B`qe.  
    直径:1° : r=_\?  
    分辨率:≤0.03° 0:p#%Nvg  
    效率:>70% nrS_t y  
    杂散光:<20% a#=-Aj-  
    Uk4">]oct  
    ozG:f*{T  
    2.设计相位函数 tp&iOP6O  
    ,)G,[ih  
    `$HO`d@0*R  
    r G6/h'!|  
     相位的设计请参考会话编辑器 p IToy;]  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 \h4y,sl  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 L&%iY7sC`  
    +V^_ksi\  
    3.计算GRIN扩散器 29oEkaX2o  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 V}?5=f'  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 wr(?L7 $+  
     最大层厚度如下: &rubA  
    :z7!X.*  
    4.计算折射率调制 !T)>q%@ai  
    5**xU+&  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 ~r3g~MCHS  
    We2=|AB  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 I6_+3}Hm{  
    lVHJ}(<'p  
    FqfeH_-U  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 )g9qkQ8q  
    -u{:39y{n  
    ikC;N5Sw  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 !RI&FcK  
    @,vSRns  
    %qMk&1  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 "fdG5|NJe  
    V'B 6C#jT  
    @B6[RZR  
    ;N|6C+y  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 l3,|r QD  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 !*;)]j  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 ak zb<aT  
    vjb{h'v  
    5.X/Y采样介质  <_~`)t  
    Nbda P{{  
    qM)^]2_-  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 5ym =2U  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 ej~ /sO  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 ofJ@\xS  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    \;]~K6=  
    (`&g  
    _z;N|Xe  
    c72/e7gV  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 g?ft;kR6S  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 Xs`/q}R  
     应该选择像素化折射率调制。 oKUJB.PF  
    01J.XfCd6  
    t0Uax-E(  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 ty ~U~  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 <M=K!k  
    8mi IlB  
    6.通过GRIN介质传播 *m2:iChY  
    UX6-{ RP  
    E?V:dr  
    rfk';ph  
     通过折射率调制层传播的传播模型: Lt)t}0  
    - 薄元近似 "2)T=vHi#  
    - 分步光束传播方法。 wS4zAu  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 : v]< h  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 MkQSq MU=  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 [30<  0  
    wXP1tM8T  
    7.模拟结果 qz 'a.]{=  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    n`6vM4rM)  
    z~F!zigNAc  
    8.结论 qhogcAvE  
    bAgKOfT  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 ?/;<32cE,  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 -C\m' T,1  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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