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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 ]Alv5?E60  
    ~pv|  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 zWN<"[agc  
     设计包括两个步骤: <_o).hE{  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 Y@jO#6R  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 ~Ox !7Lp  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 .paKV"LJ  
    F.]D\"0`  
    (hB+DPi  
    照明光束参数 r |H 1Yy  
    <$ "   
    HLlp+;CF><  
    波长:632.8nm `>i8$q%  
    激光光束直径(1/e2):700um
    e7n[NVrX  
    t<F*ODn  
    理想输出场参数 ZOAHM1ci  
    4l2/eh]Hc(  
    xF/u('A  
    直径:1° < 5 ?  
    分辨率:≤0.03° -:$#koW  
    效率:>70% *VuiEBG  
    杂散光:<20% |TQ#[9C0  
    iE6?Px9]  
    IqA'Vz,lL  
    2.设计相位函数 d~0k}|>  
    G!G]*p5  
    6Z}8"VJr {  
    _A>?@3La9  
     相位的设计请参考会话编辑器 bjO?k54I  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 ><&>JgM  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 ~W>3EJghR,  
    v,[E*qMN  
    3.计算GRIN扩散器 |E}-j;(  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 ++gWyzD  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 Rj'Tu0l  
     最大层厚度如下: ehpU`vQz  
    rk E;OU  
    4.计算折射率调制 -eQ>3x&3r  
    ^uV=|1<%  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 j5Cf\*B4J  
    hy]8t1894  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。  X_\$hF  
    ,pTj'I  
    O>KrTK-AV  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 D;Bij=  
    J4woZ{d  
    r.JM!x8  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 w$evAPuz^  
    ns&3Dh(IVP  
    l^cz&k=+  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 p=d,kY  
    59l9^<{A  
    K_Q-9j  
    y0R9[ ;b07  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 ~_]i'ii8  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 B>kVJK`X  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 .',d*H))E7  
    GzN /0:b  
    5.X/Y采样介质 =mp"=%  
    <9/?+)  
    N0V`xrS  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 i"h~QEE  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 8o  SL3  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 MwHxn%  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    i6Fvi Zx  
    tt03 gU`  
    mb?r{WCi  
    mD_sf_2>  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 C9j3|]nyL  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 Njmb{L]Cps  
     应该选择像素化折射率调制。 aInh?-  
    <*@!>6mS  
    Swxur+hfH  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 -d]v6q'1  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 KLpFW}  
    tE$oV  
    6.通过GRIN介质传播 *G"}m/j-  
    ?58*#'r  
    89YG `  
    zL Sha\X  
     通过折射率调制层传播的传播模型: }08Sv=XM  
    - 薄元近似 'h#>@v> }  
    - 分步光束传播方法。 iI$;%uY3g  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 _x]q`[Dih  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 [2.;gZj  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 [+wLy3_  
    ,KaO8^PB  
    7.模拟结果 El^V[s'3  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    5,#aN}v#?  
    qM(@wFg  
    8.结论 k0IztFyj:R  
    wl0i3)e:  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 c{{RP6o/j=  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 _ YcIG OL  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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