1.模拟任务 \rnG 1o JGNxJ S<] 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
I!0+RP( 设计包括两个步骤:
YaZ"&i - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
9PfU'm|h - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
o 0
#]EMr 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
.t%Vx $U.'K!B X|B;>q 照明光束参数 4g^+y.,r_f tNf" X! t4c#' y 波长:632.8nm
[k{iN1n
激光光束直径(1/e2):700um
Q3{&'|}^2 >"{zrwNq 理想输出场参数 cQ ;Ry!$ xi^e =:;` 4'[ V'c\ 直径:1°
+\$|L+@Z 分辨率:≤0.03°
l%5%oN`4 效率:>70%
]@}BdMlHp 杂散光:<20%
?v~3zHK /%w[q:..h R'HA>?D 2.设计相位函数 0BD((oNg ;<R_j%* ga9:*G!b{) 0lh6b3tdP 相位的设计请参考会话编辑器
>^HTghgRD Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
y%l#lz=6 设计没有离散相位级的phase-only传输。
cyeDZ) r:rJv 3.计算GRIN扩散器 ,T[
+omo GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
%Z0S"B 3 最大折射率调制为△n=+0.05。
9yAu<a 最大层厚度如下:
(,y/nc=GN vs5wxTM 4.计算折射率调制 [mvHa;-w l<%~w
U 从IFTA优化文档中显示优化的传输
tX}S[jdq ,WK$jHG] 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
5FKd{V' g}KZL-p4\m ]arskmB] 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
,X6j$YLWp }Cg~::,"
agD.J)v\ 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
`I{Q,HQ7 CxQ,yd;> >iJuR.:OO 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
(.+n1)L? 'PbA/MN Z"T(8>c;g Ls*=mh~IY 数据阵列可用于存储折射率调制。
aC 0Jfo 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
2MeavTr 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
U#
B VbR.tz 5.X/Y采样介质 :!hH`l}p
y@JYkp>I EBLoRW=8ld GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
XLxr~Yo 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
^SCWT\E 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
RVx<2,[' 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
rM |RGe $c47cJO)W X\RTHlw'] B[V=l<J 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
x0GZ2*vfsb 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
J)NpG9iN 应该选择像素化折射率调制。
s'4p+eJ V1;-5L75 $g;xw?~# 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
ro@BmRMW 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
k0?6.[ku &nProzC 6.通过GRIN介质传播 SiT &p .5xg;Qg\Y UkV] F] 4/|=0TC; 通过折射率调制层传播的传播模型:
g2q=&eI" - 薄元近似
9Z
4R!Q - 分步光束传播方法。
k>`X!
" 对于这个案例,薄元近似足够准确。
] plC 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
-2_$zk*n 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
5yI D% $ 1ZY
Vw 7.模拟结果 bP@_4Dy 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
CG;D (AWR; ?#m5$CFp 8.结论 {5JXg9um (C%'I VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
wQc w# 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
i\G3
u# 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。