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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 :;9F>?VN>0  
    aht[4(XH5  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 K|[*t~59  
     设计包括两个步骤: {N+$Q'  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 @u6B;)'l  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 p;>ec:z3M  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 %V7at7>o  
    cPlZXf  
    oG_~q w|h  
    照明光束参数 , K~}\CR  
    U2W|:~KM  
    MDnua  
    波长:632.8nm \| 8  
    激光光束直径(1/e2):700um
    ``hf=`We  
    FOE4>zE  
    理想输出场参数 Hquc o  
    R\!2l |_  
    W:pIPDx1=!  
    直径:1° #cI{Fe0h  
    分辨率:≤0.03° , s"^kFl  
    效率:>70% _ 9F9W{'  
    杂散光:<20% vg32y /l]S  
    M/"I2m   
    rX2.i7i,  
    2.设计相位函数 u. F9g #  
    z7fp#>uw  
    N 5lDS  
    *Q "wwpl?  
     相位的设计请参考会话编辑器 $Nhs1st*8  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 p8Qk 'F=h  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 *RJG!t*t  
    n{ar gI8wF  
    3.计算GRIN扩散器 x??+~$}\*-  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 t.i 8 2Q  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 f.KN-f8<F  
     最大层厚度如下: Ng2twfSl$  
    pmyXLT  
    4.计算折射率调制 G[uK-U  
    &]|?o_p3W  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 TNe l/   
    K0|FY=#2y  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 "*e$aTZB\  
    2} /aFR  
    0z6R'Kjy A  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 V^bwXr4f  
    ];[}:f  
    7x|9n  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 g}k`o!q  
    E Nh l&J  
    f@wquG'  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 B" 1c  
    JcsHt;  
    /T0F"e)Ci  
    IL#"~D?  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 m$>H u@Va  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 P~>O S5^  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 3Ei#q+7  
    P64PPbP  
    5.X/Y采样介质 ]8_NZHld  
    *K8$eDNZ  
    c_$=-Khk  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 l*Gvf_UH  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 $]/{[@5  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 aFX=C >M  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    t&C1Oo}=3  
    & p  
    *5C7d*'  
    ;#W2|'HD  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 e5ZX   
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 JzQ_{J`k  
     应该选择像素化折射率调制。 oM>l#><nq  
    X:"i4i[}{9  
    n,y ZRY  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 ^eY!U%.  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 y@S$^jk.  
    k_#ak%m/  
    6.通过GRIN介质传播 BO?%'\  
    ? =Z?6fw  
    Y.(PiuG$G  
    Uiw2oi&_  
     通过折射率调制层传播的传播模型: XJ;57n-?  
    - 薄元近似 G5BfNU  
    - 分步光束传播方法。 m]6mGp  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 yLvDMPj  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 2~)`N>@  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 I3L<[-ZE  
    ~w+c8c8pW  
    7.模拟结果 /l ~p=PK  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    BA:VPTZq  
    y%cP1y)  
    8.结论 Z"xvh81P  
    z\W64^'"Z  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 Q~ w|#  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 `g=J%p  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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