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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 \rnG 1o  
    JGNxJ S<]  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 I!0 +RP(  
     设计包括两个步骤:  YaZ "&i  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 9PfU'm|h  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 o 0 #]EMr  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 . t%Vx  
    $U.'K!B  
    X|B;>q  
    照明光束参数 4g^+y.,r_f  
    tNf" X !  
    t4c#' y  
    波长:632.8nm [k{iN1n  
    激光光束直径(1/e2):700um
    Q3{&'|}^2  
    >"{zrwNq  
    理想输出场参数 cQ ;Ry!$  
    xi^e =:;`  
    4'[ V'c\  
    直径:1° +\$|L+@Z  
    分辨率:≤0.03° l%5%oN`4  
    效率:>70% ]@}BdMlHp  
    杂散光:<20% ?v~3zHK  
    /%w[q:..h  
    R'HA>?D  
    2.设计相位函数 0BD((oNg  
    ;<R_j%*  
    ga9:*G!b{)  
    0lh6b3tdP  
     相位的设计请参考会话编辑器 >^HTghgRD  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 y%l#lz=6  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 cyeDZ)  
    r:rJv  
    3.计算GRIN扩散器 ,T[ +omo  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 %Z0S"B 3  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 9yAu<a  
     最大层厚度如下: (,y/nc=GN  
    vs5wxTM  
    4.计算折射率调制 [mvHa;-w  
    l<%~w U  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 tX}S[jdq  
    ,WK$jHG]  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 5FKd{V'  
    g}KZL-p4\m  
    ]arskmB]  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 ,X6j$YLWp  
    }Cg~::,"  
    agD.J)v\  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 `I{Q,HQ7  
    CxQ,yd;>  
    >iJuR.:OO  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 (.+n1)L?  
    'PbA/MN  
    Z"T(8>c;g  
    Ls*=mh~IY  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 aC 0Jfo  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 2MeavTr  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 U# B  
    VbR.tz  
    5.X/Y采样介质 :!h H`l}p  
    y@JYkp>I  
    EBLoRW=8ld  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 XLxr~Yo  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 ^SCWT\E  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 RVx<2,['  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    rM |RGe  
    $c47cJO)W  
    X\RTHlw']  
    B[V=l<J  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 x0GZ2*vfsb  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 J)NpG9iN  
     应该选择像素化折射率调制。 s'4p+eJ  
    V1;-5L75  
    $g;xw?~#  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 ro@BmRMW  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 k0?6.[ku  
    &nP rozC  
    6.通过GRIN介质传播 SiT &p  
    .5xg;Qg\Y  
    UkV] F]  
    4/|=0TC;  
     通过折射率调制层传播的传播模型: g2q=&eI"  
    - 薄元近似 9Z 4R!Q  
    - 分步光束传播方法。 k>`X! "  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。  ]plC  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 -2_$zk*n  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 5yID%  
    $ 1ZY Vw  
    7.模拟结果 bP@ _4Dy  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    CG;D(AWR;  
    ?#m5$CFp  
    8.结论 {5JXg9um  
    (C%'I  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 wQc  w#  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 i\G3 u#  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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