1.模拟任务 =2tl149m/z <CM}g4Y 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
P;~P:qKd 设计包括两个步骤:
6(
~DS9 - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
P6([[mmG - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
+ug[TV 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
AOVoOd+6 *Jm U",X ?[~)D}] j 照明光束参数 h6Q-+_5 +/Vi" ;DN:AgXP 波长:632.8nm
-mPrmapb3 激光光束直径(1/e2):700um
`ek On@T0 ;x~[om21; 理想输出场参数 l0g`;BI_ /{7we$+,p y|0I3n]e 直径:1°
QnPgp(d< 分辨率:≤0.03°
cc|"^-j-7 效率:>70%
9CW8l0 杂散光:<20%
RI2Or9. ZPolE_P7 OcLFVD= 2.设计相位函数 #Ies
yNKZ d;c<" + 8OW504AD KJLK]lf}d 相位的设计请参考会话编辑器
4 fxD$%9 Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
JHCV7$RS 设计没有离散相位级的phase-only传输。
{aRZBIv `9yR,Xk=l 3.计算GRIN扩散器 |}y6U< I GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
{x8UL7{ 最大折射率调制为△n=+0.05。
x w%'R- 最大层厚度如下:
uY5Gn.Y ;zl/ 4.计算折射率调制 ^"?b!=n! J@I-tS 从IFTA优化文档中显示优化的传输
>RMp`HxDf Fo1|O&> 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
;*8nd-\ l.wf= / >5|;8v-r
生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
0Q_@2 1q[vNP=g&
$CYB&|d 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
)5M9Ro7 rLm:qu(F1 c*"TmDY 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
`xO&!DN -}?ud3f< 2\,vq
R G2x5% ` 数据阵列可用于存储折射率调制。
\I4*|6kA 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
8'kA",P 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
3C8W]yw/s Jc#()4 5.X/Y采样介质 XU}sbbwu
$*Q_3]AY] e!5nz_J1} GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
1Jx|0YmO 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
0*.>
>rI 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
Yjr6/&ML 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
vkXdKL(q B!hrr t7%!~s=,M TZ7{cekQ 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
Yz?1]<X 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
uT}Jw 应该选择像素化折射率调制。
S>]Jc$ h69: Tj! Rp 2~d 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
j;O{Hvvz 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
[Q/')5b Ge|& H]W 6.通过GRIN介质传播 <9S?wju4W' U/B1/96lJ up~l4]b+ z:aT5D 通过折射率调制层传播的传播模型:
X^#.4:>. - 薄元近似
,T{(t@ - 分步光束传播方法。
m4@y58n= 对于这个案例,薄元近似足够准确。
dJ#.
m 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
=#i#IF42? 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
GRC=G&G 3:rH1vG.m 7.模拟结果 2&W(@wT$ 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
]]s_ 8u3 b&g9A{t 8.结论 N
b(f bp6 La`+ VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
%<e\s6|P: 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
eB:obz
可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。