1.模拟任务 `x2Q:&.H` *6oQW 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
!sA[A> 设计包括两个步骤:
)#
le|Rf - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
S3rN]!B+ - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
i#o:V/Z. 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
^W|B Xxo #%t&f"j2 dGU io? 照明光束参数 aV?dy4o$ <<}t&qE%2% QZ!;` ?( 波长:632.8nm
!iBe/yb 激光光束直径(1/e2):700um
n4Od4&r Fdsaf[3[v 理想输出场参数 BFP (2j t .*z)N Ffxf!zS 直径:1°
5 Z+2 分辨率:≤0.03°
cn1UFmT 效率:>70%
x_&=IyU0j 杂散光:<20%
rxZ%vzVQ> $\BRX\6(- ,f
..46G 2.设计相位函数 k*)O]M<, es}j6A1 V7}5Zw1 0'T*l2Z`2 相位的设计请参考会话编辑器
QJ2V&t"3 Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
i;4|UeUl 设计没有离散相位级的phase-only传输。
4FK|y&p4r
*k)v#;B 3.计算GRIN扩散器 ?+{=>{1 GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
4 [2^#t[ 最大折射率调制为△n=+0.05。
6[g~p< 8n} 最大层厚度如下:
6% +s` ts
BPQ 8Ne 4.计算折射率调制 \LX!n!@ N|cWTbi 从IFTA优化文档中显示优化的传输
^B[%|{cO !vNZ-} 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
2
MFGKz O M>H4bU( ?M'_L']N[ 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
Q"UWh~ So &c\Ff
@* a'B=7 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
6- H81y3 *LnY}# B^'Uh+Y 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
Z]-C,8MM ="fq.Tt 99Jk<x
k XEd|<+P1 数据阵列可用于存储折射率调制。
5r1{l%? 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
q^nSYp# 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
~I^}'^Dbb mQ#E{{:H+ 5.X/Y采样介质 Fa]fSqy@;
4h:R+o ^H^ S,&tKDJn GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
= ~{n-rMF 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
}q0lbwYlb 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
4}nsW}jCc 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
9d ZE#l!Q qucw%hJ r =Rnx!E Q8:`;W 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
b?&=gm%oU 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
U'IJwGRP 应该选择像素化折射率调制。
]KX _a1e _H#l&bL@C JI1O( 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
5 fGUJ[F= 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
z?C;z7eT *h ~Y=#`8* 6.通过GRIN介质传播 .BLF7>
M1 f@roRn8p? z!09vDB^ {,r7dxI)` 通过折射率调制层传播的传播模型:
mi~BdBv - 薄元近似
@&f3zq - 分步光束传播方法。
oYWcX9R 对于这个案例,薄元近似足够准确。
C9oF*{ 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
Kgi| 7w 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
!*8x>,/> Rg*zUfu5%o 7.模拟结果 6MC*2}W 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
:P$I;YY=A r.e,!B s 8.结论 ,z}wR::% -e_+x'uF VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
$mA+4ISK 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
B!jINOg 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。