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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 10-30
    1.模拟任务 ys#i@  
    1U,1)<z~u  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 5H9r=a  
     设计包括两个步骤: Z,.G%"i3C  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 kZ=s'QRgL  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 4Ua> Yw0  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 ^`D=GF^tX  
    x{&w?ng  
    2+Wzf)tB  
    照明光束参数 PG]%Bv57  
    zY|klX})  
    M+!x}$ &v  
    波长:632.8nm !(t,FYeH  
    激光光束直径(1/e2):700um
    1>Q'R  
    p)~lL  
    理想输出场参数 ^bLRVp1  
    U/NBFc:[y:  
    $@i"un;  
    直径:1° ]LZ`LL'#Y_  
    分辨率:≤0.03° Hp|}~xjn  
    效率:>70% &''WRgZ}  
    杂散光:<20% y4Er @8I`  
    (7DXRcr<  
    n$:IVX"2b  
    2.设计相位函数 Urgtg37  
    ;;)`c/$  
    ^W7X(LQ*+  
    Ux2U*a ;  
     相位的设计请参考会话编辑器 1w"8~Z:UXV  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 #*>E*#?t  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 :L 3&FA   
    iL7VFo:Q  
    3.计算GRIN扩散器 vJ`.iRU|  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 dXn%lJ  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 vOgC>_x7  
     最大层厚度如下: 8by@iQ  
    |~<N -~.C  
    4.计算折射率调制 AddeaB5<  
    ?U7) XvQ  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 V|>oGtt7  
    T$= 4O9G  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 J`*iZvW#Bx  
    C_LvZ=  
    {k(eNr,  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 >ulY7~wUv  
    (3dPLp:K  
    ueG|*[  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 ~}DQT>7$  
    Yct5V,X^  
    n,O5".aa<  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 4ujvD^  
    jKIc09H|  
    y}08~L?2  
    k8]O65t|  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 9PUes3"v  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 N]YtLa,t  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 9F;S+)H4  
    H0"=Vs,n  
    5.X/Y采样介质 K^t?gt@k}  
    M*pRv  
    fMf&?`V  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 P6U%=xaC  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 [XlB<P=|>  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 TQ9D68 ,  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    <EO<x D=:  
    #:ns64|  
    P|jF6?C  
    Dmdy=&G  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 hF&}lPVtv  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 MQcr^Y_  
     应该选择像素化折射率调制。 kVDe6},D7  
    IJU0[EA]F  
    y:}sD_m0W  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 pz doqAVI  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 ?PPZp6A3L=  
    V7t!?xOL  
    6.通过GRIN介质传播 >adV(V<  
    eR!G[Cw-  
    XT@Mzo49z\  
    #-cTc&$O;  
     通过折射率调制层传播的传播模型: 'i>xf ^  
    - 薄元近似 7]2 2"mc  
    - 分步光束传播方法。 v vE\  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 g.Hio.fVd  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 $;D* n'8Fx  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 Bo\D.a(T  
    CP` XUpX`&  
    7.模拟结果 yqSY9EX7  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    ]re'LC!d  
    =7ydk"xM*  
    8.结论 d$;/T('  
    s'_,:R\VM>  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 PCfo  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 Ttv9" z  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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