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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 )1de<# qM  
    kC : pal  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 T\}?  
     设计包括两个步骤: xOfZ9@VU  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 "`A@_;At`  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 [Ol}GvzJ7  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 ruqx #]-  
    Hz A+Oi  
    o]Ln:kl  
    照明光束参数 ,UOAGu<_gb  
    wD9Gl.uQ  
    'dTJE--@  
    波长:632.8nm sqKLz  
    激光光束直径(1/e2):700um
    N%3 G\|~Q  
    ~lg1S  
    理想输出场参数 J2tD).G  
    o *\c V 6  
    ]{2Eo  
    直径:1° 0W}iKT[Z  
    分辨率:≤0.03° ' pnkm0=`  
    效率:>70% SM3qPlsF  
    杂散光:<20% X{8/]'(  
    UXU!sd  
     D I` M  
    2.设计相位函数 NhP&sQO  
    ,ypD0Q   
    4JOw@/nE  
    zxo0:dyw7  
     相位的设计请参考会话编辑器 ^ W/,Z`  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 ,B^NH7A:  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 |dLA D4%  
    kaKV{;UM  
    3.计算GRIN扩散器 P:`tL)W_  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 G/cE2nD  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 2!UNFv#=$  
     最大层厚度如下: NTj:+z0  
     ~\0uy3%  
    4.计算折射率调制 Er 4P  
    ="M7F0k  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 qa|"kRCO  
    S7/0B4[  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 Py}`k1t*f  
    \&|zD"*  
    xKo l  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 ^+v6?%m  
    C^dnkuA  
    HOEjLwH  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 >_ )~"Ra  
    hqPpRSv'  
    n\U3f M>N  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 &HS6}  
    Obd};&6Q  
    i/Nd  
    8Gw0;Uu8D  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 O@n1E'S/  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 j|WuOZm\0  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 M*& tVG   
    =*ZQGM3w  
    5.X/Y采样介质 qQL]3qP  
    $U{ \T4  
    {95z\UE}  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 upD 2vtU  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 9}\{0;9  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 2N,<~L`FX'  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    . q=sC?D  
    M-  f)\`I  
    Do&em8i z  
    7DG{|%\HF  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 |.]:#)^X?  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 3L;GfYr0  
     应该选择像素化折射率调制。 2J^jSgr50d  
    $#bgt   
    hx'p0HDta  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 o0f{ePZ=  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 k8]uy2R6}  
    Rh:@@4<  
    6.通过GRIN介质传播 E"EBj7<s  
    ~y#jq,i/  
    [sM~B  
    ~@3X&E0S  
     通过折射率调制层传播的传播模型: hQm"K~SW=  
    - 薄元近似 aNqhxvwf  
    - 分步光束传播方法。 >bKN$,Qen  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 }~Am{Er <l  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 kt.y"^  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 %E!^SF?Y  
    XT n`$}nz  
    7.模拟结果 [Rqv49n*V  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    :3,aR\  
    nm!5L[y!0  
    8.结论 ?qn0].  
    ~S\Ee 2e>  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 }d,iA FG  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 sT.:"Pj$  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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