1.模拟任务 a5G/[[cwTV iX\W;V 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
)Af~B'OUd 设计包括两个步骤:
N 75:5 - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
X=C1/4wU - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
Ssk}e=] 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
sN("+ sZ.n {Ha8]y +78CvjG 照明光束参数 <40rYr$/J TO-$B8*nq 9 fMau 波长:632.8nm
XO <y+ 激光光束直径(1/e2):700um
1jX3ey~ 5Q=P4w!' 理想输出场参数 &
/4k7X}y ,TRTRb; 5E0eyW 直径:1°
z]3 `*/B 分辨率:≤0.03°
Erk?}E 效率:>70%
#oJ5k8Wy 杂散光:<20%
Od?qz1 oDcKtB+2 W>b(Om_% 2.设计相位函数 mm5$>
[%U +
S4fGT VtOZ%h[# 'q * Bdx 相位的设计请参考会话编辑器
R<x'l=,D( Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
-TZ p
FT" 设计没有离散相位级的phase-only传输。
2Dd|~{% MZ+e}|!4, 3.计算GRIN扩散器 >E,U>@+ GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
kcDyuM` 最大折射率调制为△n=+0.05。
GTv#nnC 最大层厚度如下:
I-agZag% 7E!7"2e
a 4.计算折射率调制 .q][? mW3 !K?qgM 从IFTA优化文档中显示优化的传输
al+ #y)+ 4Z*U}w) 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
TPE:e)GO M/z}p BGr.yEy 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
p*5\+WO>!( d`d0N5\
\ (p{t 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
{RB-lfrWs .qob_dRA !6}O.Nu 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
u
=gt<1U =e?$ M !jqWwi V\K<$?oUb 数据阵列可用于存储折射率调制。
0Aa`p3.) 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
$OVXk'cc 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
S-+M;@'Rl wY"o`oZ 5.X/Y采样介质 -=698h*
bAr` E YRlDX:oX~ GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
^nVl (^{ 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
Y\2|x*KwvF 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
V^Rkt%JY 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
6D;^uM2N s=Q(C[%I E2B>b[ 8dK0o>|} 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
*^ \FIUd 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
uIMe 应该选择像素化折射率调制。
S'B6jJK2x hY<{t.ws wcDjg&:=ml 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
TFDm5XJ 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
&@ 3m-Z }jSj+* 6.通过GRIN介质传播 W4YE~ (Y(E% dRvin[R8 r+<{S\ Q 通过折射率调制层传播的传播模型:
rsa&Oo
D> - 薄元近似
#t!}K_ - 分步光束传播方法。
.]Mn^2#j 对于这个案例,薄元近似足够准确。
xn}BB}s{t 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
ep(g`e 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
VF0dE !NKmx=I] 7.模拟结果 pJ,@Y> 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
\Btk;ivg !PUp>( 8.结论 rn.\tDeA p
SN~DvR VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
lu UYo 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
y,+[$u7h 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。