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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 QmQ=q7  
    ]i|h(>QWP  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 I,E?h?6Y  
     设计包括两个步骤: *z5.vtfu!  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 U\g/2dM  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 ew>XrT=Zm  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 8o3E0k1  
    vDp8__^  
    S ^!n45l  
    照明光束参数 P}Gj %4/G  
    _zR+i]9   
    ~uj#4>3T  
    波长:632.8nm LD+{o4i  
    激光光束直径(1/e2):700um
    T-'OwCB1q  
    y`L>wq,KU  
    理想输出场参数 y%&q/tk  
    ]3D0R;  
    :N:yLd} &  
    直径:1° S(k3 `;K  
    分辨率:≤0.03° =rMUov h  
    效率:>70% pd:WEI ,  
    杂散光:<20% piJu+tUy  
    `{f}3bO7C  
    >"??!|XG^  
    2.设计相位函数 ^ sOQi6pL  
    *l"T$H   
    NG=@ -eu  
    `"Jj1O@  
     相位的设计请参考会话编辑器 LGq'WU31:)  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 YDIG,%uv  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 2bv=N4ly  
    U&g@.,Y#  
    3.计算GRIN扩散器 1D7nkAy  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 Ab~3{Q]#  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 uFX#`^r`  
     最大层厚度如下: {dhXIs  
    1rNzJ;'  
    4.计算折射率调制 WQx?[tW(U  
    B?OFe'*  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 [T|aw1SoN  
    2Sle#nw3  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 KKb,d0T[  
    E:,/!9n  
    ?so=;gh  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 4(#'_jS  
    kVuUjP6(c  
    ,cXD.y  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 ADz ^\  
    Z|&MKG24  
    fnpYT:%fG  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 M  f}~{+  
    272q1~&  
    9)D6Nm  
    B+$%*%b  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 '@a}H9>}  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 -{KQr1{5UM  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 MH =%-S   
    _no/F2>!/n  
    5.X/Y采样介质 O n8v//=&  
    5u,{6  
    TeMHm ?1^  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 eJrQ\>z]V&  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 55G+;  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 :W"~ {~#?  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    n|6Ic,:[  
    bc7/V#W  
    2\)xpOj  
    _Ym]Mj' ln  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 <S5BDk  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 'HO$C, 1]  
     应该选择像素化折射率调制。 @Y?#Sl*  
    , xw#NG6  
    ~]nRV *^  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 ,D5cjaX<  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 biLs+\C  
    *~2,/D  
    6.通过GRIN介质传播 Tg7an&#  
    ajve~8/&  
    ~Q*%DRd&Z-  
    i9rN9Mq?O  
     通过折射率调制层传播的传播模型: j SHk{T!J  
    - 薄元近似 ['b}QW@Fx  
    - 分步光束传播方法。 {Je[ZQ$  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 gBd]B03  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 bAdn &   
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 .7O*pJ2(H  
    f<-Jg  
    7.模拟结果 LmRy1T,act  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    2"COP>  
    )Fc%+TpKi  
    8.结论 .[YuRLGz  
    H h4WMZJG  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 n#mA/H;wV  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 X enE^e+9  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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