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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 R|jt mI?  
    ScgaWJ  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 E^)>9f7  
     设计包括两个步骤: /Ria"lLv  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 fd{75J5%  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 *Vbf ;=Mb  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 J <"=c z$  
    XB8g5AxR  
    B#>7;xy>  
    照明光束参数 ;.O#|Z[  
    ju jhK'\  
    v0D~zV"<y  
    波长:632.8nm kq{PM-]l  
    激光光束直径(1/e2):700um
    9; \a|8O  
    K}vP0O}  
    理想输出场参数 \gBsAZE  
    kBh*@gf  
    1BA/$8G  
    直径:1° > FVBn;1  
    分辨率:≤0.03° Hwz.5hV"  
    效率:>70% +f}u.T_#  
    杂散光:<20% 4"om;+\  
    DRDn;j  
    G^G= .9O  
    2.设计相位函数 :7WeR0*%  
    nY>UYSv  
    gMGX)Y ,=/  
    Oc Gg'R7  
     相位的设计请参考会话编辑器 W> +/N4  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 6njwrqo  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 sjZ@}Vk3b  
    DOsQVdH  
    3.计算GRIN扩散器 K&Sz8# +  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 A~@u#]]<n  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 U#qs^f7R  
     最大层厚度如下: hT=6XO od4  
    bAUruTn  
    4.计算折射率调制 L[D<e?j  
    ;R_H8vp  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 fEWXC|"  
    !kTI@103Wd  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 R_vF$X'Ow  
    j>}<FW-N  
    e5s=@-[  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 z0jF.ub  
    <>Nq ]WqA  
    7;8#iS/  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 9'My /A0  
    ;8~tt I  
    ;Y^.SR"  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 x%Fy1.  
    r(VGdG  
    fz[-pJ5[  
    tO@n3"O  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 * NB:"1x  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 1.U9EuI  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 z6Xn9  
    Zv"qA  
    5.X/Y采样介质 =o+js;3  
    # ~I.F4  
    >.76<fni  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 i?+>,r@\p  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 (2l?~CaK  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 tLD(%s_  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    \7d T]VV  
    W]-c`32~S  
    gK6_vS4K)  
    uto E}U7]  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 ?r%kif)  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 79bt%P  
     应该选择像素化折射率调制。 {S Oy-  
    gz~)v\5D/  
    ,K-?M5(n9  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 1UwpLd  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 iiWm>yy  
    }u `~lw(Z  
    6.通过GRIN介质传播 Z{ AF8r  
    YM`I&!n  
    )_H>d<di  
    PX$_."WA  
     通过折射率调制层传播的传播模型: Yo^9Y@WDW  
    - 薄元近似 <`P7^ 'z!  
    - 分步光束传播方法。 d>YX18'<Q  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 h%[1V  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 {I9<W'k{  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 Es^=&2 ''  
    7A6:*  
    7.模拟结果 \:pd+8  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    #FwTV@  
    SU$%nK)  
    8.结论 0%b !ARix  
    d+iV19#i  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 }%lk$g';  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 D3 .$Vl,.  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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