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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 d=Ihl30m  
    !{- 3:N7  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 H  "/e%  
     设计包括两个步骤: R~ u7;Wv  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 pc(9(. |  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 -cS4B//IK8  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 ]5MR p7  
    @o.i2iG  
    ?q8g<-?  
    照明光束参数 uX!y,a/"  
    I Q`aDo-V  
    kUBHK"}K  
    波长:632.8nm D.JVEKLkU  
    激光光束直径(1/e2):700um
    H0:6zSsc=|  
    2/NWWoKw  
    理想输出场参数 h!3Z%M  
    &~6O;}\  
    l`G:@}P>G  
    直径:1° Y2~{qY  
    分辨率:≤0.03° z^a?t<+  
    效率:>70% tg4&j$  
    杂散光:<20% E<_6O Cz  
    O[J+dWyp  
    ~w% +y  
    2.设计相位函数 !,WRXE&j  
    X=}0+W  
    B}bNl 7 ~  
    RB@gSHOc?  
     相位的设计请参考会话编辑器 ~|jy$*m4A  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 U*l>8  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 DO*C]   
    LA3,e (e  
    3.计算GRIN扩散器 0pG(+fN_9  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 7E t(p'  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 ~DS9{Y  
     最大层厚度如下: lJ2/xE]  
    jYx(  
    4.计算折射率调制 s_+XSH[=f  
    >}tG^)os  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 \M^4DdAy  
    BAed [  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 }tq9 /\  
    OF}_RGKg3  
    :jCaDhK  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 ;0{*V5A  
    oMf h|B  
    2(xKE_|  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 IKj1{nZvDc  
    k!rz8S"  
    f2XD^:Gc  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 5Uz(Bi  
    AE~}^(G`  
    7guxkN#  
    }e|]G,NZO  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 |bUmkw  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 ou4?`JF)-  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 dg<fUQ  
    _JB3+0@  
    5.X/Y采样介质 %8}w!2D S  
    =,9'O/br  
    3mpjSL  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 $l0w{m!P  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 2sq<"TlQXI  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 M6n.uho/  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    ~0:c{v;4  
    cV,URUD  
    VNfx>&`  
    ax}Xsk_  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 g_=ZcGC  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 6FAP *V;  
     应该选择像素化折射率调制。 1EB`6_>y  
    $x0F(|wxt  
    L@uKE jR  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 s)=7tHoqB)  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 P40eK0 e6  
    m\Nc}P_"p  
    6.通过GRIN介质传播 A 2 )%+  
    0}!lN{m?  
    6UTdy1Qq>  
    vN+!l3O  
     通过折射率调制层传播的传播模型: F*u;'K   
    - 薄元近似 S6I8zk)Z4  
    - 分步光束传播方法。 "Y6mM_flq  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 r 6<}S(  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 m5*RB1  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。  }P#gXG  
    fx5vaM!  
    7.模拟结果 z9ZAY!Zhq]  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    =<icHt6s  
    j=LF1dG"  
    8.结论 9 R1]2U$|  
    =XB)sC%  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 ;2~Q97c0  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 D=$<E x^p  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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