1.模拟任务 d=Ihl30m !{- 3:N7 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
H "/e% 设计包括两个步骤:
R~u7;Wv - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
pc(9(. | - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
-cS4B//IK8 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
]5MRp7 @o.i2iG ?q8g<-? 照明光束参数 uX!y,a/" IQ`aDo-V kUBHK"}K 波长:632.8nm
D.JVEKLkU 激光光束直径(1/e2):700um
H0:6zSsc=| 2/NWWoKw 理想输出场参数 h!3Z%M &~6O;}\ l`G:@}P>G 直径:1°
Y2~{q Y 分辨率:≤0.03°
z^a?t<+ 效率:>70%
tg4&j$ 杂散光:<20%
E<_6OCz O[J+dWyp ~w%+y 2.设计相位函数 !,WRXE&j X=}0+W B}bNl 7
~ RB@gSHOc? 相位的设计请参考会话编辑器
~|jy$*m4A Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
U*l>8 设计没有离散相位级的phase-only传输。
DO*C] LA3,e (e 3.计算GRIN扩散器 0pG(+fN_9 GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
7Et(p' 最大折射率调制为△n=+0.05。
~DS9{Y 最大层厚度如下:
lJ2/xE ] jYx( 4.计算折射率调制 s_+XSH[=f >}tG^ )os 从IFTA优化文档中显示优化的传输
\M^4Dd Ay BAed [ 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
}tq9 /\ OF}_RGKg3 :jCaDhK 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
;0{*V5A oMf h|B
2(x KE_| 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
IKj1{nZvDc k !r z8S" f2XD^:Gc 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
5Uz(Bi AE~}^(G` 7guxkN# }e|]G,NZO 数据阵列可用于存储折射率调制。
|bUmkw 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
ou4?`JF)- 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
dg<fUQ _JB3+0@ 5.X/Y采样介质 %8}w!2D S
=,9'O/br 3mpjSL GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
$l0w {m!P 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
2sq<"TlQXI 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
M6n.uho/ 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
~0:c{v;4 cV,URUD VNfx>&` ax }Xsk_ 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
g_=ZcGC 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
6FAP *V; 应该选择像素化折射率调制。
1EB`6_>y $x0F(|wxt L@uKE jR 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
s)=7tHoqB) 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
P40eK0e6 m\Nc}P_"p 6.通过GRIN介质传播 A
2 )%+ 0}!lN{m? 6UTdy1Qq> vN+!l3O 通过折射率调制层传播的传播模型:
F*u;'K - 薄元近似
S6I8zk)Z4 - 分步光束传播方法。
"Y6mM_flq 对于这个案例,薄元近似足够准确。
r6<}S( 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
m5*RB1 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
}P#gXG fx5vaM! 7.模拟结果 z9ZAY!Zhq] 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
=<icHt6s j=LF1dG" 8.结论 9 R1]2U$| =X B)sC% VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
;2~Q97c0 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
D=$<Ex^p 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。