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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 7`HKa@  
    thSXri?kl  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 7_`_iymR  
     设计包括两个步骤: u-R;rf5%k  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 o!zo%#0;#)  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 #&sn l  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 :czUOZ_  
    Dop,_94G  
    og`g]Z<I  
    照明光束参数 ^%NjdZuDO  
    ZM_-g4[H  
    ;R7+6  
    波长:632.8nm p4@0Dz`Q  
    激光光束直径(1/e2):700um
    mw*KLMo42  
    GpXU&A'r  
    理想输出场参数 { {+:Vy  
    +r$VrNVs  
    ~|&To >  
    直径:1° 3bagL)'iz  
    分辨率:≤0.03° Rts.jm>[  
    效率:>70% R<Ct{f!  
    杂散光:<20% ggUw4w/e  
    :oytJhxU  
    P.3kcZ   
    2.设计相位函数 +kx#"L:  
    xG|lmYt76  
    S7B?[SPrN[  
    ?'U@oz8 B  
     相位的设计请参考会话编辑器 \Wb3JQ)  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 __i))2  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 (t"e#b(:  
    *R8P brN  
    3.计算GRIN扩散器 oiItQ4{<  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 UQq Qim  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 e/zz.cd){  
     最大层厚度如下: ; g\r Y  
    %Vhj<gN  
    4.计算折射率调制 i([|@Y=  
    =~'y'K]  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 6A-nhvDP  
    "LM[WcDX  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 iz2;xa*  
    'h>CgR^NM1  
    ;M5]XCP k  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 7o9[cq w  
    wj\kx\+  
    \iAs  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 s}?QA cC  
    35Fs/Gf-n  
    i.''\  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 ms#|Y l1/|  
    n8o(>?Kw  
    ^"+Vx9H"{  
    "T.Qb/97@  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 ' [%?j?2r  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 -|GX]jx(Y  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 >uwd3XW5  
    43Ua@KNi  
    5.X/Y采样介质 >Dq&[9,8  
    IhXP~C6  
    ^@;P-0Sy  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 N2&h yM  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 M! uE#|  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 B dxV [SF  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    Z;cA_}5  
    3PEW0b*]Pf  
    U\6Ee-1#_  
    Xd'B0kQaT  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 T26'b .  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 P.kf|,8 L  
     应该选择像素化折射率调制。 h 2C9p2.  
    -Hg,:re2  
    #yOn /  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 eMUs w5=  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 TchByN6oN<  
    ,ZvlK N  
    6.通过GRIN介质传播 Zi.w+V  
    GoPK. E$  
    0f"la=6  
    =]P|!$!}0  
     通过折射率调制层传播的传播模型: Fr1OzS^&(  
    - 薄元近似 6bUcrw/# p  
    - 分步光束传播方法。 K&;/hdS=F  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 %=5m!"F  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 DhT8Kh{  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 bqRO-\vO  
    e4 -7&8N+  
    7.模拟结果 yOyuMZo6  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    r_3=+  
    :YNXS;>)!  
    8.结论 eI+p  
    v.Xmrry  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 >/y+;<MZ  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 :{~TG]4M  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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