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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 pO_$8=G+  
    }zO>y%eI  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 f>!H<4 ]  
     设计包括两个步骤: 85}S8\_u  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 K Y=$RO  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 "hbCP4  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 ,pTj'I  
    59@PY!c>  
    T4JG5  
    照明光束参数 =$w QA  
    _k|k$qxE  
    t+l{D#?a  
    波长:632.8nm u6t%*''  
    激光光束直径(1/e2):700um
    ] >4CBm$  
    jap5FG+2  
    理想输出场参数 "XB6k 0.#  
    gb^<6BYUG  
    v;WfcpWq2  
    直径:1° JeXA*U#  
    分辨率:≤0.03° yADX^r(  
    效率:>70% \dHdL\f  
    杂散光:<20% ,Qh9}I7;C  
    '}N4SrU$  
    uBUT84i  
    2.设计相位函数 cHAq[Ebp2!  
    ]=%oBxWAP  
    _g]h \3  
    1G}\IK1+  
     相位的设计请参考会话编辑器 s}93nv*ez  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 {5NE jUu{j  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 Q>yO,H|  
    .5E6 MF  
    3.计算GRIN扩散器 L2Z-seE  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 e` eh;@9p  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 \uyZl2=WWa  
     最大层厚度如下: r @URs;O=  
    9}|t`V"  
    4.计算折射率调制 0 /)OAw"m  
    ~5;2ni8n  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 2~ y<l  
    #GfM!<q<  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 U:fGIEz{ZY  
    }08Sv=XM  
    =KW~k7TaN  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 !F08F>@D  
    h @2.D|c)g  
    w?JM;'<AYQ  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 y6P-:f/&*  
    (J5M+K\H  
     *s%M!YM  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 b\Mb6s  
    YfUo=ku  
    LJwy,-  
    ;XI=Y"h{%  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 !a7YM4D  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 }PX8#C_P  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 e8U6D+jY  
    G7YBo4v  
    5.X/Y采样介质 We@wN:  
    >f:OU,"  
    .F]"%RK[  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 V`_)H  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 vxk~( 3]<)  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 b" kL)DL1L  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    ;6q`c !p7  
    s(r1q$5  
    /& o<kY  
    {S"!c.  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 t $u.  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 `##^@N<P  
     应该选择像素化折射率调制。 I^?hVH  
    a/gr1  
    " XlXu  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 . sv uXB  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 (BZd%!  
    e[g.&*!  
    6.通过GRIN介质传播 W744hq@P%  
    n7,LfO#  
    ADT8A."R[  
    K{`3,U2Wx  
     通过折射率调制层传播的传播模型: nq*D91Q  
    - 薄元近似 hOr4C4  
    - 分步光束传播方法。 >$_@p(w  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 Vb/XT{T;b  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 {TC_ 4Y|8  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 qR^i5JH}u  
    wmaj[e,h  
    7.模拟结果 T-.Bof(?w  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    PHg(O:3WG  
    g acE?bW'  
    8.结论 ~?:Xi_3Lo  
    AfJ.SNE  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 ;s w3MRJ  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 gFw- P#t  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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