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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 apMYBbC  
    - dOT/%Ux  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 GY",AL8f  
     设计包括两个步骤: RYV6hp)|  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 8x9kF]=  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 0%qUTGj  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 |O)deiJRy  
    {4QOUqAu  
    _$'Mx'IC=  
    照明光束参数 {''|iwLr  
    epR~Rlw>2  
    B@;)$1-UT  
    波长:632.8nm %)/f; T6  
    激光光束直径(1/e2):700um
    gZjOlp  
    [[ e| GQ  
    理想输出场参数 g&Z7h4!\  
    &1p8#i  
    F3Y>hs):7  
    直径:1° L, {rMLM%  
    分辨率:≤0.03° P*PL6UQ  
    效率:>70% IPO[J^#Me  
    杂散光:<20% B\ _u${C  
    30_un  
    VM]IL%AN  
    2.设计相位函数 ` (D4gPW  
    &#@>(u: .  
    |)q K g  
    -L9R&r#_e  
     相位的设计请参考会话编辑器 QWHy=(!  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 q.MVF]  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 u 7"VeTz  
    >Mn>P!  
    3.计算GRIN扩散器 HJ qQlEq  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 z@~&Kwf\}  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 v1r_Z($  
     最大层厚度如下: kz0=GKic  
    JblmXqtC  
    4.计算折射率调制 "PyWo  
    ]1?=jlUl  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 |:9Ir^  
    *w/WHQ`xI  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 p08kZ  
    ^5]u BOv  
    0[lsoYUq  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 XocsSs  
    VD24X  
    jJVT_8J  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 o-~~,n\  
    >`89N'lZBm  
    "#pzZ)Zh  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 w(/DTQc~d  
    t<sNc8x  
    ;cI#S%uvpn  
    EqnpMHF  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 dk_,YU'z  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 Dz`k[mI  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 cJ(BiL-uF  
    0e+W/Tq  
    5.X/Y采样介质 =4tO0  
    |3{+6cg  
    5vTv$2@  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 hH%,!tSx  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 r C_d$Jv  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 J&eAL3"GF  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    ImIqD&a-h  
    A&?}w_|9  
    b5j*xZv  
    9ilM@SR  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 eZg$AOpU  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 L=,OZ9aA  
     应该选择像素化折射率调制。 {odA[H  
    McjS)4j&.  
    `=79i$,,t  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 {Eu'v$c!  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 x;u~NKy  
    ! k,<|8(0  
    6.通过GRIN介质传播 d.`&0  
    3DW3LYo{  
    *g1L$FBG  
    #vQ?  
     通过折射率调制层传播的传播模型: LM:)j:gS6  
    - 薄元近似 zmI5"K"'F  
    - 分步光束传播方法。 I!0JG`&  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 :#{-RU@PS  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 EJLQ&oH[  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 as r=m{C"  
    OV[`|<C '  
    7.模拟结果 QH~Jy*\+PX  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    Ky kSFB  
    zDDK  
    8.结论 /s|{by`we4  
    \jyjQ,v)  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 \D?:J3H*]  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 tPU-1by$  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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