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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 {pV\]E\]  
    :jJ;&t^^  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 ?$ft3p}  
     设计包括两个步骤: 0`LR!X  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 8RA]h?$$J  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 8|Q=9mmWOh  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 n!Ic.T3PA  
    yFD3:;}  
    ^PNE6  
    照明光束参数 t#fbagTON  
    y@T 0 jI  
    ^:Mal[IR  
    波长:632.8nm }!&Vcf  
    激光光束直径(1/e2):700um
    )&nfV5@"  
    k\ 2.\Lwb  
    理想输出场参数 q& :UP  
    z'W8t|m}Pb  
    6> fQe8Y  
    直径:1° H}nPaw]G  
    分辨率:≤0.03° xw>\6VNt  
    效率:>70% @hb K  
    杂散光:<20% 8zOoVO  
    Epl\(  
    cE|Z=}4I7  
    2.设计相位函数 75^U<Hz-3{  
    &=KNKE`  
    2;v1YKY  
    ;Nd,K C0k  
     相位的设计请参考会话编辑器 <kmH^ viX  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 bzl-|+!yB  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 (3_m[N\F  
    ,?3)L   
    3.计算GRIN扩散器 3 7F&s  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 h@^d Vg  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 1+{V^) V?  
     最大层厚度如下: e hgUp =  
    ~!PaBS3A  
    4.计算折射率调制 *(?tf{  
    ]1^F  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 &ody[k?'  
    q2 pq~LI  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 k|r+/gIV  
    LE'8R~4.<  
    $GMva}@G`  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 `veq/!  
    k)a3j{{  
    f3p)Q<H>`(  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 2i4&*& A  
    Uyuvmt>  
    ;PA^.RB  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 q#6K'=AC  
    Y*KP1=Md  
    @[s+5_9nk  
    cD6T4  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 Jtv~n  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 *!wBn  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 Hy*_4r  
    k>'c4ay290  
    5.X/Y采样介质 IHrG!owf  
    ^w tr~D|  
    /_?y]Ly[r  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟  av!'UZP  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 nXg:lCI-uu  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 J/{!_M-  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    )[Bl3+'  
    x =7qC#+)  
    <* vWcCS1  
    *oW^P~m/  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 #cF ?a5  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 iVQ)hs W/  
     应该选择像素化折射率调制。 3lw8%QD>  
    s^QXCmb$8  
    s4&JBm(33N  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 1p DL()t  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 v=Y) A?  
    F s{}bQyQ  
    6.通过GRIN介质传播 O^_$cq  
    d*===~  
    NmH:/xU?^  
    jW!x!8=  
     通过折射率调制层传播的传播模型: ]6*+i $  
    - 薄元近似 Yqz B="  
    - 分步光束传播方法。 50?5xSEM0_  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 ,iy;L_N  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 FL/395 <:  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 XSv)=]{  
    03$lgDQ  
    7.模拟结果 ;"1  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    4_i6q u(4  
    zNo(|;19  
    8.结论 ]CnqPLqL  
    H+O^el  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 >+3tOv3:  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 %ylpn7I\6  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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