1.模拟任务 Mg^.~8\de 8j%hxAV$ 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
`|d&ta[{ 设计包括两个步骤:
{nyVC%@Y - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
qwmZOR# - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
Z2soy- 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
}2i3 3G9AS#-C pGh A 照明光束参数 MF%>avRj dab[x@#r> ^d[s*,i? 波长:632.8nm
?iQA>P9B 激光光束直径(1/e2):700um
r-SQk>Y} Y/aNrIK7 理想输出场参数 '.&z y# qGgqAF#B JJe?Zu\ 直径:1°
ngC|BLT%h 分辨率:≤0.03°
2(Ez
H 效率:>70%
]/C1pG*o 杂散光:<20%
h=Xr J U3zwC5}BN $xU5vCwAo 2.设计相位函数 )$ +5imi 7
*#pv}Y 2n`OcXCh/ Axtf,x+lH 相位的设计请参考会话编辑器
!Qd4Y= Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
|K%nVcR= 设计没有离散相位级的phase-only传输。
qp@:Zqz8 !ENb \'>J> 3.计算GRIN扩散器 .5PcprE/ GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
B{0m0-l 最大折射率调制为△n=+0.05。
1vF^<{%v 最大层厚度如下:
Im\{b=vT !SFF 79$c 4.计算折射率调制 i C
nWb utz!ElzA 从IFTA优化文档中显示优化的传输
!pNY`sw} 'nFqq:2Xa 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
tE: m&
;I e2v[ma- 3B<$6 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
}FTyRHD| oKJj?%dHK9
N?'V,p
0= 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
U_UX *
5r:SBt|/ aiKZ$KLC 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
n>Rt9 G^]7!:0 4oF8F)ASj 7O)U(<70 数据阵列可用于存储折射率调制。
h>6'M 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
[7~ !M*o9 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
<E(#;F^y [kyF |3k~ 5.X/Y采样介质 hoc$aqP6pp
0.~Pzg >!OD[9 GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
1>"K<6b+ 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
xsx
@aF 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
N%A[}Y0;MW 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
-
T,;Fr' K>h= D! 1oYr O6^>L0' 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
T
#&9| 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
-$E_L:M 应该选择像素化折射率调制。
pr8eRV!x <|M cE Bf;dp`(/ 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
99@uU[&IJ 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
8Vkw
vc oyBBW?m 6.通过GRIN介质传播 JRkC~fv SsDe\"?Q &i8AB{OU t%e}'?#^ 通过折射率调制层传播的传播模型:
/HsJyp+t - 薄元近似
/RuGh8qzP - 分步光束传播方法。
8I)66 对于这个案例,薄元近似足够准确。
a
W`q 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
O!}TZfC 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
Fg)Iw<7_2 .$/Su3]K/ 7.模拟结果 O+Fu zCWj 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
{$,e@nn Wc4F'}s 8.结论 bb#F2r4 8,p nm VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
oZxC.;xJ 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
bwG2= 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。