1.模拟任务 )1de<# qM kC :pal 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
T\}? 设计包括两个步骤:
xOfZ9@VU - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
"`A@_;At` - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
[Ol}GvzJ7 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
ruqx#]- Hz A+Oi o]Ln:k l 照明光束参数 ,UOAGu<_gb wD9Gl.uQ 'dT JE--@ 波长:632.8nm
sqKLz 激光光束直径(1/e2):700um
N%3
G\|~Q
~lg1S 理想输出场参数 J2tD).G o*\cV6 ]{2Eo 直径:1°
0W}iKT[Z 分辨率:≤0.03°
' pnkm0=` 效率:>70%
SM3qPlsF 杂散光:<20%
X{8/]'( UXU!sd D I`
M 2.设计相位函数 NhP&sQO ,ypD0Q 4JOw@/nE zxo0:dyw7 相位的设计请参考会话编辑器
^
W/,Z` Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
,B^NH7A: 设计没有离散相位级的phase-only传输。
| dLA D4% kaKV{;UM 3.计算GRIN扩散器 P:`tL)W_ GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
G/cE2nD 最大折射率调制为△n=+0.05。
2!UNFv#=$ 最大层厚度如下:
NTj: +z0 ~\0uy3% 4.计算折射率调制 Er 4P ="M7F0k 从IFTA优化文档中显示优化的传输
qa|"kRCO S7/0B4[ 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
Py}`k 1t*f \&|zD"* xKol 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
^+v6?%m C^dnkuA
HOEjLwH 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
>_ )~"Ra hqPpRSv' n\U3f M>N 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
&HS6} Obd};&6Q i/Nd 8Gw0;Uu8D 数据阵列可用于存储折射率调制。
O@n1E'S/ 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
j|WuOZm\0 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
M*& tVG =*ZQGM 3w 5.X/Y采样介质 qQL]3qP
$U{\T4 {95z\UE} GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
upD2vtU 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
9}\{0;9 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
2N,<~L`FX' 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
. q=sC?D M- f)\`I Do&em8i
z 7DG{|%\HF 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
|.]:#)^X? 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
3L;GfYr0 应该选择像素化折射率调制。
2J^jSgr50d $#bgt hx'p0HDta 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
o0f{ePZ= 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
k8]uy2R6} Rh:@@4< 6.通过GRIN介质传播 E"E Bj7<s ~y#jq,i/ [sM~B ~@3X&E0S 通过折射率调制层传播的传播模型:
hQm"K~SW= - 薄元近似
aNqhxvwf - 分步光束传播方法。
>bKN$,Qen 对于这个案例,薄元近似足够准确。
}~Am{Er<l 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
kt.y"^ 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
%E!^SF?Y XT n`$}nz 7.模拟结果 [Rqv49n*V 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
:3,aR\ nm!5L[y!0 8.结论 ? qn0]. ~S\Ee 2e> VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
}d,iA FG 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
sT. :"Pj$ 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。