1.模拟任务 Ebq5P$ Dnd 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
~&KfJ 设计包括两个步骤:
4!monaB"e - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
9Y/c<gbY - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
*,
{b]6v 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
bAW;2
NB z?yADYr9 ^&cI+xZ2Y 照明光束参数 gzC\6ca d<Z`)hI{K D|+H!f{k 波长:632.8nm
@AyC0} 激光光束直径(1/e2):700um
3Um\?fj>}( c[j3_fn1] 理想输出场参数 dXdU4YJX .Q?AzU,2D 40 :YJ_n 直径:1°
4uTYuaCNs 分辨率:≤0.03°
=e ;\I/ 效率:>70%
}>p)|YT"/ 杂散光:<20%
\x|(`;{ FoEZ1O< f[dwu39k 2.设计相位函数 0TVO'$Gvi VW'e&v1 . YjsaTdZ!& `T~M:\^D 相位的设计请参考会话编辑器
m=opY~&h Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
@9QHv 设计没有离散相位级的phase-only传输。
Z9! goI us5`?XeX] 3.计算GRIN扩散器 S"}FsS;k<? GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
}uZhoA 最大折射率调制为△n=+0.05。
~(yh0V 最大层厚度如下:
Y$'fds4P 4>,
<b1Y 4.计算折射率调制 d;'@4NX5+ ZPMX19 从IFTA优化文档中显示优化的传输
m_St"`6 . j)J4[j 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
qOk4qbl[ E8?Q>%_ @gTpiV2 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
x.45!8Zb 27Lya!/
X|8Yz3:o 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
KsHovv-A M/B_-8B_D Que)kjp 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
m2 N
?Fg 46$u}"E ;rk}\M$+ =D3Y
q? 数据阵列可用于存储折射率调制。
W]rXt,{& 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
Mu{mj4Y{ 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
5+ VdZ'@ iRPd=) 5.X/Y采样介质 f2yc]I<lr~
nY(jN D tCA |sN GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
TmO\!` 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
FJ#V"|} 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
qQVqS7 t 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
lW7kBCsz# _}Z*%sT vwP516EM 9]hc{\ 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
|F6C&GNYT 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
s$`evX7D 应该选择像素化折射率调制。
:Z`4ea"w t}TtWI rWa7"<`p 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
a1om8! C 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
%OW[rbE. Tk+\Biq
6.通过GRIN介质传播 n>! E ] +IJpqFH 9}3W0F; zW+Y{^hf 通过折射率调制层传播的传播模型:
MA"iM+Ar - 薄元近似
\Z57U NI - 分步光束传播方法。
pk"JcUzR 对于这个案例,薄元近似足够准确。
qf7.Sh 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
"hQV\|!\ 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
{|>~#a49h tT'd] 7.模拟结果 %yptML9 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
c*6o{x}K ZwG+ rTW 8.结论 orTTjV]_m =m-_0xo VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
[i&z_e) 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
~ocd4,d= 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。