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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 Ebq5P$  
    Dnd  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 ~&KfJ  
     设计包括两个步骤: 4!monaB"e  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 9Y/c<gbY  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 *, {b]6v  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 bAW;2 NB  
    z?yADYr9  
    ^&cI+xZ2Y  
    照明光束参数 gzC\6ca  
    d<Z`)hI{K  
    D|+H!f{k  
    波长:632.8nm @A yC0}  
    激光光束直径(1/e2):700um
    3Um\?fj>}(  
    c[j3_fn1]  
    理想输出场参数 dXdU4YJ X  
    .Q?AzU,2D  
    40:YJ_n  
    直径:1° 4uTYuaCNs  
    分辨率:≤0.03° =e ;\I/  
    效率:>70% }>p)|Y T"/  
    杂散光:<20% \x|(`;{  
    F oEZ1O<  
    f[dwu39k  
    2.设计相位函数 0TVO'$Gvi  
    VW'e&v1.  
    YjsaTdZ!&  
    `T~M:\^D  
     相位的设计请参考会话编辑器 m =opY~&h  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 @9QHv  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 Z9!goI  
    us5`?XeX]  
    3.计算GRIN扩散器 S"}FsS;k<?  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 }uZh oA  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 ~(yh0V  
     最大层厚度如下: Y$'fds4P  
    4>, <b1Y  
    4.计算折射率调制 d;'@4NX5+  
    ZPMX19  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 m_St"`6 .  
    j)J4[j  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 qOk4qbl[  
    E8?Q>%_  
    @gTpiV2  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 x.45!8Zb  
    27 Lya!/  
    X|8Y z3:o  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 KsHovv-A  
    M/B_-8B_D  
    Que)kjp  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 m2N ?Fg  
    46$u}"E  
    ;rk}\M$+  
    =D3Y q?  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 W]rXt,{ &  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 Mu{mj4Y{  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。  5+VdZ'@  
    iRPd=)  
    5.X/Y采样介质 f2yc]I<lr~  
    nY(jN D  
    tCA |sN  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 TmO\!`  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 FJ#V"|}  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 qQVqS7 t  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    lW7kBCsz#  
    _}Z*%sT  
    vwP516EM  
    9]hc{\  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 |F6C&GNYT  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 s$`evX7D  
     应该选择像素化折射率调制。 :Z`4ea"w  
    t}TtWI  
    rWa7"<`p  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 a1om8!C  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 %OW[rbE.  
    Tk+\Biq   
    6.通过GRIN介质传播 n>!E ]  
    +IJpqFH  
    9}3W0F;  
    zW+Y{^hf  
     通过折射率调制层传播的传播模型: MA"iM+Ar  
    - 薄元近似 \Z57UNI  
    - 分步光束传播方法。 pk"JcUzR  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 qf7.Sh  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 "hQV\|!\  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 {|> ~#a49h  
    tT'd]  
    7.模拟结果 %yptML9  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    c*6o{x}K  
    ZwG+rTW  
    8.结论 orTTjV]_m  
    =m-_0xo  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 [i&z_e)  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 ~ocd4,d=  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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