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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 i3rvD ch  
    I;uZ/cZ|/  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 fG0rUi(8  
     设计包括两个步骤: ?u'JhZ  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 ,XI,B\eNk  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 ,#gA(B#  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 [~f%z(vI  
    s/`4]B;2U  
    Uc<B)7{'  
    照明光束参数 _GI [SzD  
    `@")R-  
    0Q]x[;!k  
    波长:632.8nm czdNqk.kh  
    激光光束直径(1/e2):700um
    8 6?D  
    PKwHq<vAsB  
    理想输出场参数 frc>0\  
    csH1X/3ha\  
    2ZNTg@o  
    直径:1° ~Jp\'P7*  
    分辨率:≤0.03° v|t^th,  
    效率:>70% n KDX=73  
    杂散光:<20% ,5t.0XqS  
    1,,o_e\nn3  
    9);a0}*5  
    2.设计相位函数 #u|;YC  
    (+CB)nV0IA  
    ra_`NsKF}  
    XZ Z Ml  
     相位的设计请参考会话编辑器 Yt0 l'B%[u  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 Z-Bw?_e_K  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 3::DURkjf  
    )-2OraUm<  
    3.计算GRIN扩散器 c6E@+xU  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 g2:^Z==  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 mBQ6qmK   
     最大层厚度如下: 1wE~dpnx  
    Y]B2-wt-  
    4.计算折射率调制 _9\ ayR>d  
    QmbD%kW`3  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 S[X bb=n  
    WvUe44&^$  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 4=*VXM/  
    5c3 )p^ ]g  
    19 bP0y  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 [M Z'i/  
    cX E42MM  
    l4L&hY^  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 l_>^LFOA  
    t}_qtO7>  
    &" K74  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 (!W:-|[K\  
    _4xX}Z;  
    | 1T2<ZT  
    %I&Hx<H j  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 Tj<W4+p{  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 k3}ymhUf  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 cDm_QYQ  
    I$9 t^82j  
    5.X/Y采样介质 ?9 :{p  
    1ncY"S/VO  
    gSL$silc  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 h&NcN-["  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 psgXJe$  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 #N[nvIi}  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    T AwA)Zg  
    w[~$.FM/  
    l?pZdAE  
    x AkM_<  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 Y>R|Uf.o z  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 F1w~f <  
     应该选择像素化折射率调制。 J0C,K U(  
    b H?dyS6Bx  
    &r/a\t,8n  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 ;oH%d;H  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 TPvS+_<oL{  
    {S'xZ._=  
    6.通过GRIN介质传播 ?VCb@&*  
    kJZBQ<^  
    ncu &<j}U  
    4F??9o8}  
     通过折射率调制层传播的传播模型: N&-d8[~  
    - 薄元近似 x\*`i)su  
    - 分步光束传播方法。 LXJ"ct  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 6^if%62l&  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 ,l.O @  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 9bNjC&:4/]  
    TStu)6%`  
    7.模拟结果 }f;Zx)!  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    O5{ >k  
    b U-Cd  
    8.结论 zX{ [Z  
    .B6$U>>NS^  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 g(;t,Vy,I  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 )DI/y1  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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