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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 2:/u2K  
    Z3I L8  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 iZu:uMoc  
     设计包括两个步骤: G#g{3}dcK  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 S^)WYF5  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 %,Q;<axzi  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 dd19z%  
    afV P-m4L  
    0JrK/Ma3  
    照明光束参数 eTT^KqE>&  
    @?j@yRe  
    "sSjVu  
    波长:632.8nm 6HB]T)n  
    激光光束直径(1/e2):700um
    sOjF?bCdO  
    s|BX> 1  
    理想输出场参数 D'85VZEFyo  
    /H.(d 4C  
    *+NZQjl'  
    直径:1° D@}St:m}  
    分辨率:≤0.03° Kyyih|{  
    效率:>70% Sn+FV+D  
    杂散光:<20% ''%;EW>  
    c-ttds  
    .O;!W<Ef$  
    2.设计相位函数 EI%M Azj}  
    KuU3DTS85Z  
    e2q pJ4i  
    A4}JZi6@  
     相位的设计请参考会话编辑器 zuU Q."#i  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 fuQ4rt[i  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 Rd .U;>  
    D l4d'&!  
    3.计算GRIN扩散器 3^j~~ "2,w  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 8H&_,;  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 ]VzqQ=U%  
     最大层厚度如下: ,^n-L&  
    Y1m}@k,+M  
    4.计算折射率调制 Zj:a-=  
    NW }>pb9  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 e~tr^$/(  
    %H 8A=  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 ev)rOcOU  
    ',L{CQA?c  
    cZCGnzy  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 N)9pz?*V  
    Y] D7i?3N  
    *(@L+D0N  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 8=lHUn9l  
    HVtr,jg  
    deR$  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 ;"d?_{>7  
    bbE bf !E  
    CsJ)Z%4_  
    :;" aUHU'  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 Eqz4{\   
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 .Z(S4wV  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 Xtu:  
    HA$^ *qn  
    5.X/Y采样介质 V%X:1 8j  
    xn%l  
    o(B<!ji~'  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 ;zfQ3$@9  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 >reaIBT  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 NB|RZf9M  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    ~rVKQ-+4&  
    t(Q&H!~e   
    zbF:R[)  
    [u`17hyX  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 Ov0O#`  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 ~zXG<}n  
     应该选择像素化折射率调制。 n"^/UQ|#j  
    !=~s/{$PE  
    ~!a~C~_  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 ?.rH;:9To  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 t 1Ir4  
    i6!T`Kau  
    6.通过GRIN介质传播 @%I_&!d  
    b7W=HR  
    y(aAp.S>  
    X/- W8  
     通过折射率调制层传播的传播模型: wW6mYgPN%  
    - 薄元近似 7G<KrKal  
    - 分步光束传播方法。 Y|GJp h  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 FqT,4SIR  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。  #{)r*"%  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 2$j Ot}  
    j#Ky0+@V  
    7.模拟结果 .-O@UQx.I  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    c&| '3i+  
    xN{"%>Mx  
    8.结论 rm5T=fNJ  
    &viwo}ls0  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 t?du+:  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。  Gh)sw72  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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