1.模拟任务 E}AOtY5a 56gpAc 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
?PVJeFH 设计包括两个步骤:
ddvSi6 - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
o#3?")>| - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
uT'_}cw 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
F}3<q VH[r@Pn K*iy ^} 照明光束参数 e~R;
2bk :K.%^ag=j ?#;
oqH< 波长:632.8nm
Z0&^U#] 激光光束直径(1/e2):700um
%x@
D i`; NbOeF7cq+ 理想输出场参数 rt">xVl PN9^ sLx= Z|;<:RKWY 直径:1°
K$OxeJP?F 分辨率:≤0.03°
M
S
3?#b 效率:>70%
}
8ZCWmd 杂散光:<20%
0\v98g<[+ HUqG)t*c1 Td#D\d\R 2.设计相位函数 3jF#f'* r=GF*i[3 UjibQl3:m &:}e`u@5| 相位的设计请参考会话编辑器
#qkokV6` Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
z'@j9vT 设计没有离散相位级的phase-only传输。
^0"^Xk* RC7|@a 3.计算GRIN扩散器 0dS}pd">k GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
'J^ M`/ 最大折射率调制为△n=+0.05。
E)==!T@E 最大层厚度如下:
QZy+` FTM(y CN 4.计算折射率调制 is=sV:j: 5G .Fi21
b 从IFTA优化文档中显示优化的传输
[]HMUL]" .d<
+-w2Mu 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
gcYx-gA} hUirvDvX H I/]s^aL 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
!sda6?& _;mN1Te
blxAy 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
e$F]t*)Xa n8(B%KF y*2R#jTA 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
z0J$9hEg89 p.KX[I d,=Kv rkhQoYZ[ 数据阵列可用于存储折射率调制。
xe^*\6Y 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
CU=}]Y 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
!:e|M|T'I* 9k\`3SE 5.X/Y采样介质 }* iag\
B{|g+c% |\ Nj GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
a%*l]S0z" 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
VM{`CJ2 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
u2HkAPhD 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
@rs(`4QEh
#.O,JG#H htc& !m xGbr>OqkTX 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
MWf ]U 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
e;b,7Qw 应该选择像素化折射率调制。
f`<j(.{9F w+VeT @ UnNvlkjq9 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
yu"Ii-9z 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
dDH+`;$. g-'y_'%0G 6.通过GRIN介质传播 D|I(2%aC h"VQFqQy 0
eZfHW& &{QB}r 通过折射率调制层传播的传播模型:
d7N;Fa3yL - 薄元近似
XfA3Ez,} - 分步光束传播方法。
`}o4 &$ 对于这个案例,薄元近似足够准确。
`NA[zH,w3 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
G%)?jg@EA 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
Wd4fIegk g+/%r91hZ 7.模拟结果 4mOw[}@A 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
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5^ 5@c,iU-L 8.结论 g!n1]- 1 >JT{~SRB|Y VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
a?' 3 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
2{s ND 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。