1.模拟任务 E$*I.i_m ;%Jp@'46 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
T%-F,i 设计包括两个步骤:
Xs*~[k' - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
c[J#Hc8; - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
-mcLT@ 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
b&V=X{V4 fM
\T^X }evc]?1( 照明光束参数 bbS'ZkB\ G
}TT- kax9RHvku 波长:632.8nm
6WI_JbT~ 激光光束直径(1/e2):700um
()3+!};
X!nI{PE 理想输出场参数 b<Pjmb+ :IbrV@gN{@ |M0 XLCNd_ 直径:1°
CK'Cf{S 分辨率:≤0.03°
hq(3%- 7& 效率:>70%
li,kW`j+t 杂散光:<20%
>/
HC{.k (|h<{ -L v>7t J[s 2.设计相位函数 ?jz{fU ?AYI t[)z/[m ]^ZC^z;H 相位的设计请参考会话编辑器
9S.R%2xw` Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
'HPw5 L 设计没有离散相位级的phase-only传输。
iTqv= LP#CA^*S 3.计算GRIN扩散器
p^\>{ GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
pl|<g9 最大折射率调制为△n=+0.05。
Z*jhSy 最大层厚度如下:
!Z<Z"R/ (:M6*RV 4.计算折射率调制 V4/eGh_T 69O?sIk 从IFTA优化文档中显示优化的传输
K31Fp;K @b-?KH 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
^
chlAQz( L$lo5 WNlWigwYl 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
3)__b:7J YPGn8A
&{ntx~Eq 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
k&yy_r
]
M_[*OAb B~LB^
n(>@ 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
|44CD3A% j%~UU0(J BU]9eF!>h \A keC 6[D 数据阵列可用于存储折射率调制。
)x?F1/ 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
>:KPvq!0 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
~)sb\o
/`:5#O 5.X/Y采样介质 [4PG_k[uTJ
k<8: +% '0; GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
mZMLDs: 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
c>=[|F{{e 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
-%%2Pz0I 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
f<0-'fGJd +!.=M8[ e?RHf_d3T- ?6tuo:gP 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
1fEV^5I 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
lq1pgM ?Kf 应该选择像素化折射率调制。
"1h|1'S50? kmo3<'j{ Z78&Ib