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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 zF[kb%o  
    gI~R u8  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 Y,RBTH  
     设计包括两个步骤: 3WZ]9v{k  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 >V2Tr$m j  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 ypM0}pdvTp  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 lEL&tZ}  
    +!\$SOaR{  
    IP~*_R"bM  
    照明光束参数 ^vS+xq|4"  
    EtjN :p|$  
    aF7" 4^P  
    波长:632.8nm 9XImgeAs  
    激光光束直径(1/e2):700um
    rK;F]ei  
    l`G .lM(  
    理想输出场参数 .>%(bH8S  
    e|Rd#  
    ^ a#Vp  
    直径:1° y, @I6  
    分辨率:≤0.03° M<hX !B  
    效率:>70% 8<#X]I_eP+  
    杂散光:<20% ~W p>tnl  
    ln-+=jk  
    N2[EdOJT_  
    2.设计相位函数 n@<+D`[.V  
    h W\q  
    tn&~~G~#  
    [1K\ _  
     相位的设计请参考会话编辑器 *^e06xc:  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 0l=g$G \%  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 9(g?{6v|  
    xs y5"  
    3.计算GRIN扩散器 :_E=&4&g  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 T~@$WM(  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 c193Or'6Y  
     最大层厚度如下: gM~ dPM|  
    ^}vLZA  
    4.计算折射率调制 $a|C/s+}7>  
    mcvd/  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 tfW*(oU  
    OPH f9T3H  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 f}Mx\dc  
    7<;87t]]  
    I/:M~ b  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 k`ulDQu  
    %2>ya>/M  
    &Jw]3U5J  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 OIP JN8V  
    ?hu}wl)  
    QS.t_5<U  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 Q'xZ\t  
    S?TyC";!  
    r/E'#5 Q  
    F*Lm=^:  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 &} %rZU  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 ig|o l*~  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 E{+V_.tlu  
    cYHHCaCS  
    5.X/Y采样介质 &cy @Be}|T  
    |]FJfMX  
    4mNg(w=NF  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 M{\W$xPL)  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 92zo+bc  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 7L68voC@U  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    F#d`nZ=M  
    8~Avg6,  
    R)4L]ZF  
    "\0&1C(G  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 B+W 4r9#  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 L9L!V"So1k  
     应该选择像素化折射率调制。 }s i{  
    ^0" W/  
    ';<gc5EK  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 HjG!pO{  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 i%RN0UO^  
    gG5@ KD6k  
    6.通过GRIN介质传播 8&T6  
    L O)&|9xw  
    8)n799<.  
    Z :51Q  
     通过折射率调制层传播的传播模型: F/1B>2$`  
    - 薄元近似 #bk[Zj&  
    - 分步光束传播方法。 dk}T&qZ~p  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 v(PwE B]  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 ="X2AuK%1$  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 Hqsj5j2i  
    ibe#Y  
    7.模拟结果 =/_tQR~  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    w,uyN  
    6KT]3*B   
    8.结论 g~,"C8-H  
    xz9x t  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 cPQUR^!5  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 7&ty!PpD  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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