1.模拟任务 p "EQ6_f #9uNJla 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
9E~=/Q= 设计包括两个步骤:
FWcE\;%yVg - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
6a51bj!f - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
cl:h'aG 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
}w^Hm3Y^& p3>p1tC s ki'I 照明光束参数 =S7Xj`/ 9;KQ3.Fa}q h BD .IB 波长:632.8nm
musZCg$ 激光光束直径(1/e2):700um
*o <S{ ]JF>a_2wG 理想输出场参数 M|nTO feSd% xsn2Qn/P 直径:1°
Ry9kGdqO 分辨率:≤0.03°
p(o"K@I 效率:>70%
1\K%^<QY 杂散光:<20%
ZqH.$nXP 8i"v7} w ;+x g 2.设计相位函数 Tl>D=Vnhh `5,46_ |Xz-rgkQ [vCZoG8+> 相位的设计请参考会话编辑器
\2F{r<A\@ Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
o6L\39v_ 设计没有离散相位级的phase-only传输。
KG7 ~)g ObJgJr 3.计算GRIN扩散器 r$<-2lW GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
*9Eep~ 6 最大折射率调制为△n=+0.05。
wj$l 093 最大层厚度如下:
,`kag~bZ !0i6:2nw 4.计算折射率调制 W>$2BsO g{0a]'ph 从IFTA优化文档中显示优化的传输
4h% G %>j 5eS0
B{,c 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
{yFCGCs IkW8$> V?pqKQL0 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
zY_?$9l0 ,i0Dw"/u
C]/]ot0%t 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
39Nz>Nu: i" 0]L5=P &!Sq6<!v2 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
!j8.JP}!) (@wgNA-P DAYR=s .tRp 数据阵列可用于存储折射率调制。
-;T!d 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
ITpo:"X g 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
LdAWCBLS I$yFCd Xr 5.X/Y采样介质 e'"2yA8dh"
">zK1t5= `4GEq2% GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
zoh%^8?o 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
al#BfcZW 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
!Q/oj
Q 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
R
-#40 w8(8n&5 @q(sig00nr UQ[!k 6 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
0[\sz>@ 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
S1d^mu 应该选择像素化折射率调制。
,#/%Fn%T Ufw_GYxan ]{.iv_I 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
D5Z@6RVt 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
E}qW' *P:!lO\| 6.通过GRIN介质传播 As}3VBd /-FvC^Fj #3~ #`& r$Gz 通过折射率调制层传播的传播模型:
}Mv$Up - 薄元近似
| XGj97#M - 分步光束传播方法。
@XJzM]*w& 对于这个案例,薄元近似足够准确。
=\ek;d0Tqb 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
'?gF9: 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
eE=}^6)(* v~B
"Il 7.模拟结果 U))2?# 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
V7S[rI<<r FN+x<VXo( 8.结论 &eA!h w%2|Po5 VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
/s~(? =qYH 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
4{v?<x8 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。