1.模拟任务 zF[kb%o gI~Ru8 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
Y,RBTH 设计包括两个步骤:
3WZ]9v{k - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
>V2Tr$m j - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
ypM0}pdvTp 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
lEL&tZ} +!\$SOaR{ IP~*_R"bM 照明光束参数 ^vS+xq|4" EtjN :p|$ aF7" 4^ P 波长:632.8nm
9XImgeAs 激光光束直径(1/e2):700um
rK;F]ei l`G .lM( 理想输出场参数 .>%(bH8S e|Rd# ^a#Vp 直径:1°
y, @I6 分辨率:≤0.03°
M<hX!B 效率:>70%
8<#X]I_eP+ 杂散光:<20%
~Wp>tnl ln-+=jk N2[EdOJT_ 2.设计相位函数 n@<+D`[.V h W\q tn&~~G~# [1K\
_ 相位的设计请参考会话编辑器
*^e06xc: Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
0l=g$G
\% 设计没有离散相位级的phase-only传输。
9(g?{ 6v| xs y5" 3.计算GRIN扩散器 :_E=&4&g GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
T~@$WM( 最大折射率调制为△n=+0.05。
c193Or'6Y 最大层厚度如下:
gM~dPM| ^}vL ZA 4.计算折射率调制 $a|C/s+}7> mcvd/ 从IFTA优化文档中显示优化的传输
tfW*(oU OPHf9T3H 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
f}Mx\dc 7<;87t]] I/:M~ b 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
k`ulDQu %2>ya>/M
&Jw]3U5J 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
OIPJN8V ?hu}wl) QS.t_5<U 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
Q'xZ\t S?TyC";! r/E'#5 Q F*Lm=^: 数据阵列可用于存储折射率调制。
&}%rZU 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
ig|ol*~ 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
E{+V_.tlu cYHHCaCS 5.X/Y采样介质 &cy@Be}|T
|]FJfMX 4mNg(w=NF GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
M{\W$xPL) 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
92zo+bc 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
7L68voC@U 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
F#d`nZ=M 8~Avg6, R)4L]ZF "\0&1C(G 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
B+W 4r9# 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
L9L!V"So1k 应该选择像素化折射率调制。
}s i{ ^0"W/ ';<gc5EK 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
HjG!pO{ 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
i%RN0UO^ gG5@ KD6k 6.通过GRIN介质传播 8&T6 L O)&|9xw 8)n799<. Z:51Q 通过折射率调制层传播的传播模型:
F/1B>2$` - 薄元近似
#bk[Zj& - 分步光束传播方法。
dk}T&qZ~p 对于这个案例,薄元近似足够准确。
v(PwE B] 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
="X2AuK%1$ 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
Hqsj5j2i ibe#Y 7.模拟结果 =/_tQR~ 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
w, uyN 6KT]3*B 8.结论 g~,"C8-H xz9xt VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
cPQUR^!5 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
7&ty!PpD 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。