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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 p"EQ6_f  
    #9uNJla  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 9E~=/Q=  
     设计包括两个步骤: FWcE\;%yVg  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 6a5 1bj!f  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 cl:h 'aG  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 }w ^Hm3Y^&  
    p3>p1tC  
    s ki'I  
    照明光束参数 =S7Xj`/  
    9;KQ3.Fa}q  
    h BD .IB  
    波长:632.8nm musZCg$  
    激光光束直径(1/e2):700um
    *o <S{  
    ]JF>a_2wG  
    理想输出场参数 M|nTO  
    feSd%  
    xsn2Qn/P  
    直径:1° Ry9kGdqO  
    分辨率:≤0.03° p(o"K@I  
    效率:>70% 1\K%^<QY  
    杂散光:<20% ZqH.$nXP  
    8i"v7}  
    w ;+x g  
    2.设计相位函数 Tl>D=Vnhh  
    `5,46_  
    |Xz-rgkQ  
    [vCZoG8+>  
     相位的设计请参考会话编辑器 \2F{r<A\@  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 o6L\39v_  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 KG7 ~)g  
    ObJgJr  
    3.计算GRIN扩散器 r$<-2lW  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 *9Eep~ 6  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 wj$l 093  
     最大层厚度如下: ,`kag~bZ  
    !0i6:2nw  
    4.计算折射率调制 W>$2BsO  
    g{0a]'ph  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 4h% G %>j  
    5eS0 B{,c  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 {yFCGCs  
    Ik W 8$>  
    V?pqKQL0  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 zY_?$9l0  
    ,i0Dw"/u  
    C]/]ot0%t  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 39Nz>Nu:  
    i"0]L5=P  
    &!Sq6<!v2  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 !j8.JP}!)  
    (@wgNA-P  
    DAYR=s  
    .tRp  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 -;T!d  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 ITpo:"X g  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 LdAWCBLS  
    I$yFCdXr  
    5.X/Y采样介质 e'"2yA8dh"  
    ">zK1t5=  
    `4GEq2%  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 zoh%^8? o  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。  al#BfcZW  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 !Q/oj Q  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    R -#40  
    w8(8n&5  
    @q(sig00nr  
    UQ[!k 6  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 0[\sz>@  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 S1d^mu  
     应该选择像素化折射率调制。 ,#/%Fn%T  
    Ufw_GYxan  
    ]{.iv_I  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 D5Z@6RVt  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 E}qW'  
    *P:!lO\|  
    6.通过GRIN介质传播 As}3VBd  
    /-FvC^Fj  
    #3 ~#`&  
    r$Gz  
     通过折射率调制层传播的传播模型: }Mv$Up  
    - 薄元近似 |XGj97#M  
    - 分步光束传播方法。 @XJzM]*w&  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 =\ek;d0Tqb  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 '?gF9:  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 eE=}^6)(*  
    v~B "Il  
    7.模拟结果  U))2?#  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    V7S[rI<<r  
    FN+x<VXo(  
    8.结论 &eA!h  
    w %2|Po5  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 /s~(? =qYH  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 4{v?<x8  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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