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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 OO dSKf8  
    "xmP6=1  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 }?F`t[+  
     设计包括两个步骤: 1"7Sy3  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 g]c[O*NTL  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 le+R16Z  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 5!YA o\S  
    n<sd!xmqFx  
    {rfF'@[  
    照明光束参数 3f " %G\  
    n79QJl/  
    znJhP}(  
    波长:632.8nm n\Fp[9+Z\  
    激光光束直径(1/e2):700um
    Jj~EiA  
    tWTKgbj(  
    理想输出场参数 EN{]Qb06A  
    8dD2  
    8.' #?]a  
    直径:1° Jd\apBIf  
    分辨率:≤0.03° LE5.b]tv2  
    效率:>70% WwH+E]^e+  
    杂散光:<20% taGU  
    >3 yk#U|7}  
    Spo?i.#  
    2.设计相位函数 Zwcy4>8  
    ] Z8Vj7~  
    H>9CW<8  
    `l2O?U-@  
     相位的设计请参考会话编辑器 t }IkK=f  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 I;5R2" 3  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 ~\x:<)  
    } VJfJ/  
    3.计算GRIN扩散器 .=m,hu~  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 /bj <Ft\  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 Go,N>HN  
     最大层厚度如下: H&r,FmI@  
    3lV^B[$  
    4.计算折射率调制 f\'{3I29  
    izh<I0  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 @(P=Eh  
    8WE{5#oi  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 %Qg+R26U  
    +&zYZA8v  
    LjL[V'JL  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 nJPyM/p  
    1qV@qz  
    H|cNH=  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 >!_Xgw  
    R52I= a5,*  
    $$:ZX  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 r{L4]|(utY  
    G-9iowS/A  
    omWJJ|b~  
    VMoSLFp^R  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 \!]Ua.e<  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 s1|/S\   
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 pJN${  
    ,=?{("+  
    5.X/Y采样介质 _gKe%J&  
    XeBP`\>Ve  
    OL_{_K(w  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 olLfko4$*V  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 XZw6Xtn  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 Y>jiXl?&  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    p ?wI9GY  
    Z|RY2P>E  
    O;7)Hjwt  
    s=?g\oR  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 ]*7Y~dO  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 ?\8?%Qk  
     应该选择像素化折射率调制。 N'xSG`,Mg  
    1-RIN}CSd  
    EyY.KxCB  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 ]kG(G%r|M  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 zE;bBwy&  
    E^U0f/5 m  
    6.通过GRIN介质传播 ?5kHa_^  
    !mXxAo  
    |yo\R{&6  
    +a^F\8H  
     通过折射率调制层传播的传播模型: m7T)m0  
    - 薄元近似 p}[zt#v  
    - 分步光束传播方法。 pRSOYTebP  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 !|c|o*t{  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 Ts~L:3oaQ  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 l }XU 59  
    ja=F7Usb  
    7.模拟结果 Zw wqSyuGf  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    !%dN<%Ah  
    .f+TZDUO  
    8.结论 u{["50~  
    q&:=<+2"  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 ah~Y eJp  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 vFEQ7 qI  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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