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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 E$*I.i_m  
    ;%Jp@'46  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 T%- F,i  
     设计包括两个步骤: Xs*~ [k'  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 c[J#Hc8;  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 -mcLT@  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 b&V=X{V4  
    fM \T^X  
    }evc]?1(  
    照明光束参数 bbS'ZkB\  
    G }TT-  
    kax9RH vku  
    波长:632.8nm 6WI_JbT~  
    激光光束直径(1/e2):700um
    ()3+! };  
    X!nI{PE  
    理想输出场参数 b< Pjmb+  
    :IbrV@gN{@  
    |M0 XLCNd_  
    直径:1° CK'Cf{S  
    分辨率:≤0.03° hq(3%- 7&  
    效率:>70% li,kW`j+t  
    杂散光:<20% >/ HC{.k  
    (|h<{ -L  
    v>7tJ[s  
    2.设计相位函数 ?jz{fU  
    ?AYI   
    t[)z/[ m  
    ]^ZC^z;H  
     相位的设计请参考会话编辑器 9S.R%2xw`  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 'HPw5 L  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 iTqv=  
    LP#CA^*S  
    3.计算GRIN扩散器 p^\>{  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 pl|< g9  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 Z*jhSy  
     最大层厚度如下: !Z<Z"R/  
    (:M6*RV  
    4.计算折射率调制 V4/eGh_T  
    69O?sIk  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 K31Fp;K  
    @b-?KH  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 ^ chlAQz(  
    L$lo5  
    WNlWigwYl  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 3)__b:7J  
    YPGn8A  
    &{ntx~Eq  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 k&yy_r   
    ] M_[*OAb  
    B~LB^ n(>@  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 |44CD3A%  
    j%~UU0(J  
    BU]9eF!>h  
    \AkeC6[D  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 )x?F1/  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 >:KPvq!0  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 ~)sb\o  
    /`:5#O  
    5.X/Y采样介质 [4PG_k[uTJ  
    k<8:  
    +%'0;  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 mZMLDs:  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 c>=[|F{{e  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 -%%2Pz0I  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    f<0-'fGJd  
    +!.=M8[  
    e?RHf_d3T-  
    ?6tuo:gP  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 1fEV^5I  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 lq1pgM?Kf  
     应该选择像素化折射率调制。 "1h|1'S50?  
    kmo3<'j{  
    Z78&IbR  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 B5J=q("P  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 #sAEIk/  
    rw8db'  
    6.通过GRIN介质传播 0Oe@0L%^3"  
    mw?,oiT,)  
    :mY(d6#A>  
    \u",bMQF  
     通过折射率调制层传播的传播模型: +4B>gS[ F  
    - 薄元近似 !mq+Oz~  
    - 分步光束传播方法。 w9c  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 DFqXZfjm  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 L!-T`R8'c  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 "m/0>UU0  
    xjv?Z"X  
    7.模拟结果 %hcY [F<  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    M0"xDvQ  
     $p}7CP  
    8.结论 S(9fGh  
    /v=MGX@r  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 V4ayewVX  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 } Tp!Ub\Cc  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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