1.模拟任务 ~.%HZzR6& /!?LBtqy 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
MY@&^71i4 设计包括两个步骤:
zd=O;T;. - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
_rwJ:r - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
RTm/-6[N 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
L\PmT c[,h|~K/_? 2aM7zP[Z 照明光束参数 R2Fjv@Egk l&qnqmW< FzJ7 OE| 波长:632.8nm
;ItH2Lw<& 激光光束直径(1/e2):700um
CP~ZIIip" LTTMa-]Yy 理想输出场参数 ;KlYiu aaR& -M@ h)HEexyRg 直径:1°
-[=eVS.2% 分辨率:≤0.03°
5.9<g>C 效率:>70%
Mqr_w!8d 杂散光:<20%
u
S1O-Q>
}~/b%^ }uZs)UQ|$ 2.设计相位函数 RSp wU;o6z "B_3<RSL [k6I#v<& nF,F#V8l 相位的设计请参考会话编辑器
Tnp
P ' Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
Qn!mS[l 设计没有离散相位级的phase-only传输。
lT|Gkm<G N*o{BboK; 3.计算GRIN扩散器 3f[Yk#" GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
)XN_|zCk 最大折射率调制为△n=+0.05。
!ZYPz}&N_ 最大层厚度如下:
=&bI- S(zp_ 4.计算折射率调制 }5;4'l8 6:ettdj 从IFTA优化文档中显示优化的传输
/4&gA5BS] -]Z7^ 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
R~\R>\ [7Lr" QqA=QTZ} 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
e&}W# hmu>s'
.^Sglo 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
ubcB<=xb n)e2? @+gr/Pul^ 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
v675C# l( .XJ'2yKof 6 c_#"4 UM oj9/- 数据阵列可用于存储折射率调制。
Q(bOar5 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
Q^(CqQo!< 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
8xPt1Sotq[ ]r
Uj<[O 5.X/Y采样介质 0k]ApW
6"Uu;Q t'n@yX_ GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
vK',!1]y 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
5\+*ml 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
Xs0)4U 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
x4MmBVqp }[AaI # XF!L.' zH |oY{TQ<<d 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
lsz3'!%Y) 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
UA>=#
$ 应该选择像素化折射率调制。
-?Cr&!*B m2PUU/8B/ >y3FU1w5d 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
${f<} 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
fAsb:P S!(3-{nC 6.通过GRIN介质传播 TSB2]uH &jE\D^>ko F.[%0b E Tagf7tw4 通过折射率调制层传播的传播模型:
_@DOH2lXJ - 薄元近似
scg&"s - 分步光束传播方法。
6TP
/0o) 对于这个案例,薄元近似足够准确。
-D`1z?zHra 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
L@N%S Sf 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
&6eo;8
`U EF0v!XW 7.模拟结果 Pb5yz-?
角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
FZ"n6hWA }y(t')= 9 8.结论 w!F>fcm AO-5>r VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
;UQGi}?CD 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
? i{?Q, 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。