1.模拟任务 JO6)-U$7UG hy"\RW 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
Od,qbU4O 设计包括两个步骤:
@O^6&\s> - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
57 - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
,S]7 'UP 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
=R$u[~Xl2X )W
_v:?A9 Tqn@P 照明光束参数 Ig0VW)@ w-L=LWL\ q ,]L$ 波长:632.8nm
ra
g Xn 激光光束直径(1/e2):700um
mLLDE;7|} 8\A#CQ5b 理想输出场参数 sLT3Y}IO uo%)1NS! hH8oyIC 直径:1°
7CURhDdk 分辨率:≤0.03°
~YWQ2] 效率:>70%
6HWE~`ok6 杂散光:<20%
lE(HFal0-( xHLlMn4M ShP^A"Do 2.设计相位函数 ~H<6gN<j(. czgO ;3-C 9`X\6s [uN?
~lp\% 相位的设计请参考会话编辑器
u(F_oZ~ Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
bUdLs.: 设计没有离散相位级的phase-only传输。
0#Y5_i|p :vQrOn18p 3.计算GRIN扩散器 }?_?V&K| GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
sfugY(m 最大折射率调制为△n=+0.05。
CXx*_@}MU 最大层厚度如下:
SBk4_J/_ Z4w!p?Wqa 4.计算折射率调制 ,pQZ@I\z $2M$?4S/T 从IFTA优化文档中显示优化的传输
+`3)o PV) BLf>_bUk 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
V]e 8a"/[{ Vl=l?A8 m6\E$;` 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
B:S>wFE(. jB Z&Ad@e
;LPfXpR 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
pis`$_kmwV Ru!iR#s)! G+"t/?/ 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
DIfaVo/" J~zUp(>K ;oKZ!ND Sc1 8dC0 数据阵列可用于存储折射率调制。
{{D)YldtA 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
"W7K"=X 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
Ls$D$/:q? D4lG[qb 5.X/Y采样介质 /hH
)D5"ap]fX [")o.( GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
~IfJwBn-i 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
j<99FW"@e 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
"ESwA 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
bz2ztH9 n n,V[eW#m'L %G_B^p4 FaQe_; 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
r4XK{KHn 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
Is)u } 应该选择像素化折射率调制。
oim9<_ +\c5]` mAj?>;R2$2 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
j_!F*yul 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
7uS~MW .
y-D16V 6.通过GRIN介质传播 ~ Ei $nV o WrKM XSe=sHEI h-#6av: 通过折射率调制层传播的传播模型:
qo90t{|c - 薄元近似
mPtZO*Fc - 分步光束传播方法。
,.83m%i 对于这个案例,薄元近似足够准确。
X<` 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
&Fzb6/ 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
@uqd.Q ?Wr+Q 7.模拟结果 (
iBl 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
1MP~dRZ$ iZ3IdiZ 8.结论 G~^r)fm_ <
Mn ; VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
\=?a/ 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
c z#rb*b 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。