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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 ;DC0LJ  
    X$ /3  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 ||`w MWq  
     设计包括两个步骤: +n,8o:fU:  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 F Paj p  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 1GOa'bxm  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 |r}%AN6+  
    g ywI@QD%#  
    `Kym{og  
    照明光束参数 UgJlXB|a%2  
    mI9h| n  
    zmr=iK  
    波长:632.8nm e7,iO#@:m  
    激光光束直径(1/e2):700um
    pC8(>gV<h  
    :U)e 8  
    理想输出场参数 7S] h:q%%  
    N#7] xL  
    eoEb\zJ  
    直径:1° eVU:.fx  
    分辨率:≤0.03° EyBdL  
    效率:>70% M|n)LyL  
    杂散光:<20% U&u7d$ANP  
    Ub3,x~V  
    q{U -kuui  
    2.设计相位函数 OzO_E8Kb\  
    /@3+zpaw X  
    GbP!l;a  
    @;rVB  
     相位的设计请参考会话编辑器 GGJ_,S*  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 1/cb;:h>  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 '')G6-c/  
    cYbO)?mC_  
    3.计算GRIN扩散器 .z[+sy_  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 ,1~Zqprn  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 Phb<##OB  
     最大层厚度如下: "*7I~.7U(*  
    A:D\!5=  
    4.计算折射率调制 <U~P-c tN  
    ZM|>Va/X  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 3\4Cg()  
    E32z(:7M  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 +Og O<P  
    {;p /V\   
    66|lQE&n  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 Rw/G =zV@2  
    9&d BL0  
    {#[a4@B0  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 W2<X 5'  
    yBl<E$=  
    kBONP^xI  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 _p_F v>>:  
    }K*ri  
    VqbiZOZ@  
    wZC'BLD  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 s]I],>}RU  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 PN'8"8`{  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 &a|oJ'clz  
    #-@{rgH  
    5.X/Y采样介质 -"cN9RF  
    [ =9R5.)c  
    $< aBawLZO  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 QqwX Fk  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 `Ch6"= t  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 a6]!4  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    ScTqnY$v  
    @i`gR%  
    r[,KE.^6~#  
    b~Ruhi[E  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 5sE^MS1  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 G{"1  I  
     应该选择像素化折射率调制。 TtvS|09p;  
    MO D4O4z&  
    -0]aOT--  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 RhJ<<T.2  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 A]J^{h0 k  
    2Z97Tq  
    6.通过GRIN介质传播 tS9m8(Hr%Q  
    $` oA$E3  
     jPs+i  
    -?]ltn9!  
     通过折射率调制层传播的传播模型: YL. z|{\e  
    - 薄元近似 "/ "qg  
    - 分步光束传播方法。 oF>GWst TR  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 q-RGplx  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 %*gO<U4L]  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 zm"\D vN)  
    [yyV`&  
    7.模拟结果 vr  vzV  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    l6 WcnJ  
    xC{NIOYn'  
    8.结论 ~mp$P+M(%p  
    9s!/yiP5  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 _qg6( X  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 joA+  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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