1.模拟任务 i3%~Gc63 <GNOT"z 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
eAuJ}U[ 设计包括两个步骤:
GDcV1$NA - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
;
zv nDo x - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
w-#0k.T 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
{``}TsN qXhrK
/ RyhR# 照明光束参数
=#V11j O#EBR<CuK \6'A^cE/PX 波长:632.8nm
xw-q)u 激光光束直径(1/e2):700um
>WDpBn: E, v1F! 理想输出场参数 b>7ts_b 19rUvgC{M AO]lXa 直径:1°
|X.z|wKT6 分辨率:≤0.03°
nB]Q^~jX 效率:>70%
8;'n.SC{ 杂散光:<20%
f2u2Ns0Ym {+[gf:Ev IW1\vfe 2.设计相位函数 Kje+Niz7 ~ZNhU;%YW )aC+qhh :3t])mL# 相位的设计请参考会话编辑器
g.]'0)DMW Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
h|H;ZC(B 设计没有离散相位级的phase-only传输。
"EHc&,B` e)xWQ=,C 3.计算GRIN扩散器 bpx=&74,6m GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
1v4kN
- 最大折射率调制为△n=+0.05。
mTPj@F> 最大层厚度如下:
D1n2Z:9 :kVV.a#g 4.计算折射率调制 ks5'Z8X d0=nAZZ 从IFTA优化文档中显示优化的传输
.'a |St (J4utw Z 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
Hj\~sR$L- v wyDY%B"n s z\RmX 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
=c,gK8C nAg(lNOWN
DPwSg\*) 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
f3N:MH-c zEB1Br, U.aa iX7 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
:#/bA& E5(Y*m! r$F]e]Ic\ .vv*bx
数据阵列可用于存储折射率调制。
UW*aSZ/? 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
XOCau.# 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
%5G BMMn 8UIL_nPO 5.X/Y采样介质 RF J ;hh
MuobMD}jqe 5u46Vl{ GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
j;v%4G 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
cDiz!n*.q 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
vb- .^l 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
32iI :u B@]7eVo J,O@T)S@ .A\ \v6@ 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
IDh`0/i] 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
6^|6V 应该选择像素化折射率调制。
yj~"C$s GC[{=]}9U b8.%? _? 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
;J(,F:N 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
LJwM M 2 ?T:RB} 6.通过GRIN介质传播 *Zi%Q[0Me 9|?Lz i)L:VkN CFm1c1%Hg 通过折射率调制层传播的传播模型:
|{)xC= - 薄元近似
el?V2v[ - 分步光束传播方法。
5j,qAay9 对于这个案例,薄元近似足够准确。
&fW=5' 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
Z9&D'n) 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
B)]{]z0+` Qe$>Jv5 7.模拟结果 K$cIVsfr 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
-FN6sNvIh /:`
i%E 8.结论 %^=!s P\4tK<P| VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
huJq#5? 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
'$XHRS/q] 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。