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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 i.|zKjF'  
    OZ/P@`kN.f  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 }`O_  
     设计包括两个步骤: (BB&ZUdyv  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 ^!={=No]  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 /EN3>25"#  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 #B;~i6h]  
    wkO8  
    X-tc Ud  
    照明光束参数 )zFPf]gz  
    mSw$? >  
    ?,_$;g  
    波长:632.8nm _TB,2 R  
    激光光束直径(1/e2):700um
    *PXlbb  
    xKilTh_.6  
    理想输出场参数 7O_@b$Q  
    j89C~xP6  
    6;LM1 _  
    直径:1° D{Zjo)&tF'  
    分辨率:≤0.03° =~)J:x\F  
    效率:>70% ,rvw E  
    杂散光:<20% x*8lz\w  
    l!U_7)s/  
    2wHvHH!  
    2.设计相位函数 SJYy,F],V"  
    o\_@4hXf  
    X*Ibk-PUM  
    So ?ScX\lG  
     相位的设计请参考会话编辑器 fM[Qn*.  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。  aOS:rC  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 +=XDNSw  
    Kt(Z&@  
    3.计算GRIN扩散器 tBtG- X2  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 ;.=ZwM]C  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 [fN?=,8  
     最大层厚度如下: -h5yg`+1N\  
    ; TaR1e0  
    4.计算折射率调制 ^8,Y1r9`$  
    nqG9$!k^t  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 -`z`K08sT  
    - P;_j,~U  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 0P(U^rkR~  
    =j%B`cJ66_  
    8hx4s(1!  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 TM|M#hMS  
    6g/ <FM  
    NVEjUt/  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 ? o@5PL  
    1_D|;/aI  
    _JlbVe[<  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 |N9::),<  
    B8+J0jdg6%  
    3Un{Q~6h  
    ;Z\1PwT  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 pYtG%<  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 }GIwYh/  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 %M=[h2SN  
    sSisO?F!Z  
    5.X/Y采样介质 #~A(%a  
    (1~d/u?2\  
    w2-:!,X  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 "<c^`#CWuO  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 =0te.io)3O  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 Eei"baw/  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    T3HAr9i%)  
    ' `0kW_'  
    TO&ohATp  
    ]*I:N  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 ` ZO#n  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 uSZCJ#'G  
     应该选择像素化折射率调制。 p2]@yE7w  
    + .Pv:7gh  
    +mM=`[Z`??  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 #6<  X  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 6jv_j[[  
    9"KO!w  
    6.通过GRIN介质传播 \;al@yC=T  
    -__RFxG  
    k[TVu5R  
    VMry$  
     通过折射率调制层传播的传播模型: tUS)1*{_  
    - 薄元近似 (G:A^z  
    - 分步光束传播方法。 |eN#9Bm  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 zV)(i<Q  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 3AKT>Wy =  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 ]Gk;n/! B  
    8v$ 2*$  
    7.模拟结果 Bw;gl^:UG  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    7Hghn"ol  
    F.zx]][JV  
    8.结论 )gOVnA/M  
    &|/@;EA$8  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 )?5027^  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 ~UrKyA  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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