1.模拟任务 |~'IM3Jw(Y 5WC+guK7 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
L,mQ
设计包括两个步骤:
IB#
@yH - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
p!sWYui - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
pX&pLaF 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
!PrwH; o&`<+4
i .q[SI$qO/ 照明光束参数 X>NhZ5\ c6nflk.l 8>X d2X 波长:632.8nm
mjWU0Gh%* 激光光束直径(1/e2):700um
][W_[0v OH5>vV'i 理想输出场参数 h3*Zfl<] w=^`w:5X 3dht!7/ 直径:1°
@;<ht c 分辨率:≤0.03°
ms!r ef4`+ 效率:>70%
d+X}cq= 杂散光:<20%
UilMv~0 \e!vj.PU z "+Mrew 2.设计相位函数 L]d-hs ~_Lr=C D;4 Nluv/?< ({JHZ6uZ 相位的设计请参考会话编辑器
@J5Jpt*IE Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
TF 'U 设计没有离散相位级的phase-only传输。
qduWzxB K'X2dG* 3.计算GRIN扩散器 taFn![}/!g GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
d?:=PH 最大折射率调制为△n=+0.05。
_~q?_'kx 最大层厚度如下:
% ]I ZLJ hoQs
@[ 4.计算折射率调制 2RN)<\ P h$.:Uj8/ 从IFTA优化文档中显示优化的传输
>.'<J] td4[[ / 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
ax{ ;:fW c)A{p HsnLm67' 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
1gmt2>#v% z]2]XTmWs
>nw++[K_ 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
$ &P>r )$`wIp (tCUlX2 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
HcedE3Rg -T&.kYqnb$ srYJp^sC s/7 A7![ 数据阵列可用于存储折射率调制。
05snuNt]- 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
~BDu$ 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
Mz1G5xcl e"'#\tSG 5.X/Y采样介质 + +aL4:
7<jZ`qdq_ x5QaM.+=J GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
yuDZ~0]R 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
?{U
m 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
o99pHW(E 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
?W0)nQU &BtK($ ^{xeij/ hSK;V<$[Z 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
mk3_ 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
' j6gG 应该选择像素化折射率调制。
_:X|.W aB]m*~ $b<6y/" 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
cZ(elZ0~ 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
{@<J_A u$D*tqxG 6.通过GRIN介质传播 N gLU$/y; Iw<j T|y) 6m VuyI lip[n;Ir> 通过折射率调制层传播的传播模型:
Q 2A7mGN - 薄元近似
Up:<=Kgci - 分步光束传播方法。
u(OW gbA3 对于这个案例,薄元近似足够准确。
,o^y`l 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
25NTIzI@@ 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
jS;J:$>^ n.sbr 7.模拟结果 mo1oyQg8 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
CH
fVQ|!\ :> & fV 8.结论 rU;RGz6} }lK3-2Pk VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
k^ YO%_ 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
Ug:\ 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。