1.模拟任务 x?| JRj%d&^} 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
i
bwnK?ZA 设计包括两个步骤:
j/xL+Y(= - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
!]k $a - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
)v67wn*1A 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
AyMMr_q 5:H9B r:Xui- 照明光束参数 xd H*[ +}@HtjM If_S_A c 波长:632.8nm
cEd!t6Z 激光光束直径(1/e2):700um
8y{<M"v+/ Gm.n@U p 理想输出场参数 8?r
,ylUj 'L2M
W X|7Y|0o 直径:1°
\}e1\MiZ 分辨率:≤0.03°
Oj*3'?<7= 效率:>70%
rE
bC_< 杂散光:<20%
0VB~4NNR ^.J
F?2T/ "3v[\M3 2.设计相位函数 j [h4F"`- (SLAq$gvd )[>b7K$f ccJ@jpXI 相位的设计请参考会话编辑器
x.+}-(`W#~ Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
<Dw`Ur^ X5 设计没有离散相位级的phase-only传输。
[2!K 6 #<bt}Tht 3.计算GRIN扩散器 zZ|Si GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
qlSc[nEk 最大折射率调制为△n=+0.05。
|Y!#` 最大层厚度如下:
!0~$u3[b XX,iT~+- 4.计算折射率调制 cRX0i;zag z1ltc{~Z 从IFTA优化文档中显示优化的传输
pCNihZ~ )dJaF#6j 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
Qc z7IA hp}J_/+4n '@u/] ra: 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
tqE LF V$+xJ m
})|+tZ 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
|Q^ZI +'?p $@d XGEAcN 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
Nf>1`eP E{d Mdz R R><so% m El*{] 数据阵列可用于存储折射率调制。
l/_3H\iM 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
uRQm.8b 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
%lchz/ d^IOB|6Q 5.X/Y采样介质 o*\kg+8
|8h<Ls_ pK#Ze/! GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
S?%V o* Y 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
?MuM _6 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
f8)D| 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
]?xF'3# LKG],1n- #JGy2Hk$^ l0g#&V-- 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
Wy,DA^\ef 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
]6</{b 应该选择像素化折射率调制。
@<\f[Znto %FQMB >/EmC3?b! 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
/g712\?M4 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
LGPy>,! m~#S76!w 6.通过GRIN介质传播 'Ol}nmJ'n l2=.;7IV iqghcY) e%j+,)Ry 通过折射率调制层传播的传播模型:
O1coay - 薄元近似
:N%cIxrqP - 分步光束传播方法。
LS4c|Dv 对于这个案例,薄元近似足够准确。
bc5+}&W 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
,v$gQU2 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
\*!?\Ko`W yEtSyb~GK 7.模拟结果 JTpKF_Za< 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
e6k}-<W*q X^?<, Y)1. 8.结论 xzy7I6X ];^A8? VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
0kpRvdEr- 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
Rs{L 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。