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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 bTI|F]^!  
    v&6-a*<Z  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 [F+}V,  
     设计包括两个步骤: i}cRi&2[  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 % aP!hy  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 l5~os>  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 y5vvu>nd  
    u2tfF  
    EfqX y>W  
    照明光束参数 T~-ycVc  
    m&d|t>3<  
    %[GsD9_-  
    波长:632.8nm |44Ploz2b  
    激光光束直径(1/e2):700um
    aEB_#1  
    91/Q9xY  
    理想输出场参数 A@`}c,G  
    kBS9tKBWg  
    n3WlZ!$  
    直径:1° ::`HQ@^  
    分辨率:≤0.03° %mW{n8W3{  
    效率:>70% !M(xG%M-V  
    杂散光:<20% Ao 'l"-  
    rm7ANMB:  
    EAUEQk?9  
    2.设计相位函数 VG5i{1  0  
    5%"V[lDx@  
    [+^1.N  
    IW5,7.  
     相位的设计请参考会话编辑器 GblA9F7  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 *tA1az-jO  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 [+Iz@0q  
    Q3'llOx  
    3.计算GRIN扩散器 @NR>{Eg  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 y RqL9t  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 #<fRE"v:Q  
     最大层厚度如下: [NTzcSN.  
    q])K,)  
    4.计算折射率调制 Xg6Jh``  
    1er TldX  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 1C+13LE$U  
    {p2!|A&a  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 hE{K=Tz$  
    v&\Q8!r_  
    <sbu;dQ`  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 70d1ReQ  
    Z-%\ <zT  
    =IZT(8  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 "x0^#AVg  
    s S+MqBh&I  
    gT. sj d  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 VD*6g%p  
    `7E;VL^Y1  
    , >a&"V^k  
    "Fr.fhh'~  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 bL`TySX  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 kt#fMd$  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 dFxIF;C>/  
    l:~/<`o  
    5.X/Y采样介质 k=$TGqQY?  
    c^xIm'eob  
    LVM%"sd?  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 BKCiIfkZ  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 b#%hY{$j  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 P;.W+WN  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    ^LnTOdAE  
    g/d<Zfq<{  
    #lo6c;*m5  
    6Igz:eX  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 2QcOR4_V  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 5DU6rks%  
     应该选择像素化折射率调制。 #P9~}JB3,  
    lN)C2 2  
    n+9=1Oo"  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 R_cA:3qc~  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 tKuwpT1Qc  
    J1U/.`Oy  
    6.通过GRIN介质传播 p$c6<'UqH  
    EWhK0Vej=  
    HyQJXw?A:  
    e2Pcm_Ahv*  
     通过折射率调制层传播的传播模型: NR6#g,+7  
    - 薄元近似 C==hox7b  
    - 分步光束传播方法。 cl3K<'D  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 Qy<P463A(l  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 ?zMHP#i  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 79j+vH!zh  
    p`dU2gV  
    7.模拟结果 Et_bH%0  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    Y]_ruDIW  
     _"yh.N&  
    8.结论 -7[@R;FS  
    2zA4vZkbcw  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 ?!:ha;n  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 tS5hv@9cWx  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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