1.模拟任务 B~O<?@]d (Bpn9}F-V. 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
^0I" 设计包括两个步骤:
7MKZ*f@x; - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
_tQM<~Y]u\ - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
"0z4mQ}>N 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
y^
st
T^ aHitPPlq nVP|{M 照明光束参数 VjeF3pmBa =#{q#COK$ PbV1FB_ 波长:632.8nm
jF#Dc[* 激光光束直径(1/e2):700um
$L ]M3$\9 H5jk#^FD 理想输出场参数 j:^gmZ;J 5OAb6k' ZlcEeG 直径:1°
-BwZ 分辨率:≤0.03°
!rZZ/M"i 效率:>70%
OU?.}qc<wE 杂散光:<20%
:j32 :/u 6y{CM/DC ? Z2`f6;W4 2.设计相位函数 xxC2 h3 "5\6`\/ = ^%*: iT -V'Y^Df 相位的设计请参考会话编辑器
vnlHUQLO Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
%."w]fy>P 设计没有离散相位级的phase-only传输。
^=gN >xP b<E78B+Aax 3.计算GRIN扩散器 {~'Iu8TvZ GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
| `?J2WGe 最大折射率调制为△n=+0.05。
xd4~[n\hm 最大层厚度如下:
wS|hc+1 ?ihRt+eR~ 4.计算折射率调制 M~.1:%khM *c(YlfeZ# 从IFTA优化文档中显示优化的传输
$?;)uoAg \23m*3"W 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
pMf
?'l ^--8
cLB
n ;2aPhA 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
`"#hhKG ~L_1&q^4!i
!&{"tL@. 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
r( bA>L*mk AO(zl*4 b4(,ls 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
+u`4@~D# NBw{ %@HuAcNi 9LSV^[QUH 数据阵列可用于存储折射率调制。
sy(.p^Z 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
j.\0p-, 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
T^#d\2 DyUS^iz~o 5.X/Y采样介质 c1
j@*6B
}V 4u`= y#/P||PM GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
+$#h6V 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
"EZpTy}Ee 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
*rYPjk6g[ 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
EZZE(dq@gf \0FwxsL ]VS:5kOj` rrG}; A 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
`4ti?^BNm 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
({cWb:+r 应该选择像素化折射率调制。
m!3D5z]n9 1'1>B 0y2zjXM;3 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
bR?xz-g%<3 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
tHr4/
` ^;J<l 6.通过GRIN介质传播 @c).&7 E
*782> CQ7NQ^3k eWr6@ 通过折射率调制层传播的传播模型:
6d3YLb4M$i - 薄元近似
J.]`l\ - 分步光束传播方法。
g`)0
wP 对于这个案例,薄元近似足够准确。
;/)$Cm &e 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
@S6@pMo, 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
\$gA2r G?Za/G 7.模拟结果 % pAbkb3m 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
j' b0sve|? R^"mGe\LL 8.结论 d?V/V'T[ HmHM#~5(` VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
d<w]>T5VW 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
9~y:K$NO 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。