1.模拟任务 F91'5D,u0 nM*-Dy3ou 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
z;? 32K 设计包括两个步骤:
E! '|FJ - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
IbFS8 *a\ - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
`9IG// 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
9os>k* _]~`t+W'DJ |X :"AH"S 照明光束参数 |G^w2"D_Z ?7Kl)p3 p*F.WxB)4 波长:632.8nm
xY]Y 激光光束直径(1/e2):700um
B}n
tD nksx|i l 理想输出场参数
Gw4~ 0Z. bd=H : b9X?%L~ 直径:1°
t=
=+SHGP 分辨率:≤0.03°
A.0eeX{ 效率:>70%
g\;&Z 杂散光:<20%
s,&tD
WU 7f!"vhCXM; v<+5B5"1 2.设计相位函数 /G}TPXA RM/q\100 #^|"dIZ_M >NL4&MV: 相位的设计请参考会话编辑器
VJp; XM Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
!% ' dyj 设计没有离散相位级的phase-only传输。
W!@*3U]2R :Kc9k(3&r 3.计算GRIN扩散器 tWD5Yh>.?$ GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
yHrYSEM 最大折射率调制为△n=+0.05。
Qq,w6ekr 最大层厚度如下:
$CT2E -u!{8S~wA 4.计算折射率调制 "n,?) IdP"]Sv{< 从IFTA优化文档中显示优化的传输
>M~wFs$~ &w4~0J>v! 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
UBj"m< )SJ18 no|l QzV
Q} 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
X,+M? IYZ$a/{P
ZT;8Wvo 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
9d5|rk8VS WoYXXYP/E st91rV$y? 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
Ze?(N~ m]XG7:}V0 v'fX'/ Pl2ZA)[g 数据阵列可用于存储折射率调制。
m+Um^:\jX 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
1MVzu7 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
luPj'd? R]Iv?)Y 5.X/Y采样介质 P LHiQ:
.=I:cniw\r ONc-jU^ GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
yu^n;gWH 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
i.~*G8!DM 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
2.6F5&:($ 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
3Gr:.V9= kim qm JZc"4qf@OT p bRU" 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
e#R'_}\yj 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
5:"zs 应该选择像素化折射率调制。
-~PiPYX "q<}#] u J.t tJOP 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
0vi)my;! 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
.+.BNS KV1/!r+* 6.通过GRIN介质传播 &@&0n)VTd 4/_@ F>I_ @_:Jm
tH< Y\Grf$e 通过折射率调制层传播的传播模型:
?H30 - 薄元近似
-JMlk:~ - 分步光束传播方法。
v +$3Z5 对于这个案例,薄元近似足够准确。
3M@!?=|U 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
v \xuq` 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
}\-"L/D?+ M@TXzn!&o 7.模拟结果 _,G^#$pH 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
e
[}m@a E <O:
8.结论 Ho_ 2zx:8b >sfH[b VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
jO5R0^w 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
$$GmundqB 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。