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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 CI };$4W~  
    3Y}X7-|)Z  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 gADEjr*H  
     设计包括两个步骤: },G>+ s8h  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 '[nH] N  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 `zJTVi4  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 [N-t6Z*  
    H[a1n' "<:  
    lB0: 4cIj  
    照明光束参数 -`o22G3w  
    rz @;Zn  
    Jt3]'Nr04@  
    波长:632.8nm m:1f7Z>  
    激光光束直径(1/e2):700um
    8=%%C:  
    zu~E}  
    理想输出场参数 KF#,Q  
    X~ AE??  
    &u_s*  
    直径:1° w/`I2uYu  
    分辨率:≤0.03° N<\U$\i  
    效率:>70% AJ*FQo.U  
    杂散光:<20% =h4* ^NJ  
    ;be2sTo  
    Ris5) *7  
    2.设计相位函数 nM)q;9-ni  
    _p~lL<q-K[  
    %S<0l@=5`l  
    x-:a5Kz!  
     相位的设计请参考会话编辑器 q DQ$Zq[  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 UoLvc~n7  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 =psX2?%L  
    nbpGxUF`]  
    3.计算GRIN扩散器 k8}*b&+{vz  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 y3 R+060\3  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 F|3 =Cl  
     最大层厚度如下: q5irKT*Hs  
    7>a-`"`O  
    4.计算折射率调制 _IA@X. )?  
    AQ>8]`e`  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 ="$9 <wt  
    )PRyDC-  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 SYPG.O?I  
    z]NzLz9VfL  
    .."=  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 , 8NY<sFh  
    P+m{hn~%  
    BnLM;5 >  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 yX}riXe  
    1Qi5t?{  
    F9sVMV  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 #)aUKFX  
    4v"9I(  
    ?]`kc  
    1CkBfK  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 _`/: gkZS  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 -/>SdR$D7  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 hcvWf\4'#q  
    .Y8z3O  
    5.X/Y采样介质 Ut;, Z  
    H5f>Q0jq  
    kvzGI>H:  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 ,DN>aEu1  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 6gLk?^.  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 jpl"KN?X  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    73kF=*m  
    -.8 nEO3  
    w&eX)!  
    cr{;gP  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 zFy0Sz F  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 RJ ,a}w[9  
     应该选择像素化折射率调制。 zCvt"!}RRa  
    vI<n~FHt  
    [xF(t @p  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 }n+#o!uEf  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 W0]W[b,:u$  
    b<|l* \  
    6.通过GRIN介质传播 SjT8 eH #  
    jl;%?bx  
    -lKk.Y.}r  
    tpJe1J<  
     通过折射率调制层传播的传播模型: !TJCQ[Aa }  
    - 薄元近似 > .L\>  
    - 分步光束传播方法。 T)"B35  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 ~bSPtH ]6d  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。  #K8kz  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 1}A1P&2>  
    481SDG[b  
    7.模拟结果 Cv@ZzILyoK  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    n%o"n?e  
    $ e<&7  
    8.结论 ?0>% a$`  
    ;aJBx  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 c$.h]&~dN  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 g$c\(isY;  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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