1.模拟任务 SQx):L)P6 q;JQs:U! 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
>fQN"(tf 设计包括两个步骤:
$
7!GA9Bn - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
mYX) =B{ - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
c5pG?jr+d 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
(5
hu
W7v u>#'Y+7 (1vS)v
$L 照明光束参数 sJ=B:3jS0 wl9icrR>
`SrVMb( 波长:632.8nm
WH*&MIjAr/ 激光光束直径(1/e2):700um
2T5ZbXc+x 9m4|1) 理想输出场参数 /.bwwj_; L4%LE/t|e ^lj>v}4fkW 直径:1°
cB^lSmu5 分辨率:≤0.03°
^`THV 效率:>70%
*1Q?~ 杂散光:<20%
Vo()J4L va<pHSX&I@ =j-{Mxb3 2.设计相位函数 .+sIjd $-73}[UA 4 g;T`~
ML-g"wv 相位的设计请参考会话编辑器
>E3OYa?G Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
(B5G?cB9 设计没有离散相位级的phase-only传输。
Vv]mME@ |n;7fqK 3.计算GRIN扩散器 A:(uK>5{Kk GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
d|3[MnU[a 最大折射率调制为△n=+0.05。
#q%/~-Uk 最大层厚度如下:
NT 'Y h l]gfT& 4.计算折射率调制 E:AXnnGKO X@rAe37h+ 从IFTA优化文档中显示优化的传输
lKcnM3n
XT)@)c7j 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
%o>1$f] e!#:h4I wB@A?&UY 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
u}$3.]-.?T %|Vq"MW,I
XQ>m8K?\d 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
n7vi@^lf( uP:'e8 gueCP+a_ 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
pB`<4+"9 Zr3KzY9 ZC"p^~U_e[ H`sV\'`!} 数据阵列可用于存储折射率调制。
qmhHHFjQ 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
\TjsXy=:) 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
"Z
<1Msz 3~ylBJJ 5.X/Y采样介质 hz!.|U@,{<
0t8-oui [||$1u\% GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
*=rl<?tX 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
{>#Ya;E 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
-4.+&' 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
$P$OWp?b t5S S] ~O!v?2it8q *5^h>Vk/ 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
]'Bz%[C) 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
M%m$5[;n 应该选择像素化折射率调制。
k2~j:&p iVE+c"c!2& +NQw^!0qy 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
rRxqV?>n! 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
,xGkE7=5 ?(Nls.c 6.通过GRIN介质传播 /) N[tv2 >5\rU[H> r!+)U#8 b?z 8Yp6 通过折射率调制层传播的传播模型:
8D-g%Aj- - 薄元近似
E8/P D - 分步光束传播方法。
{B34^H: 对于这个案例,薄元近似足够准确。
=4G9ev
4 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
\%UA6uj 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
"~tEmMz /p~gm\5Z 7.模拟结果 *x$\5;A 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
P:=3;d{v I%|W
O*x 8.结论 }2}hH0R h/d&P VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
J*.qiUAgW 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
D+tn<\LF 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。