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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 B~O<?@]d  
    (Bpn9}F-V.  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 ^0I"  
     设计包括两个步骤: 7MKZ*f@x;  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 _tQM<~Y]u\  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 "0z4mQ}>N  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 y^ st T^  
    aHitPPlq  
    nVP|{M  
    照明光束参数 VjeF3pmBa  
    =#{q#COK$  
    PbV1FB_  
    波长:632.8nm jF#Dc[*  
    激光光束直径(1/e2):700um
    $L]M3$\9  
    H5jk#^FD  
    理想输出场参数 j:^gmZ;J  
    5OAb6k'  
    ZlcEeG  
    直径:1° -BwZ  
    分辨率:≤0.03° !rZZ/M"i  
    效率:>70% OU?.}qc<wE  
    杂散光:<20% :j32 :/u  
    6y{CM/DC  
    ? Z2`f6;W4  
    2.设计相位函数 xxC2 h3  
    "5\6`\/  
    = ^%*:iT  
    -V'Y^Df  
     相位的设计请参考会话编辑器 vnlHUQLO  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 %."w]fy>P  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 ^=gN >xP  
    b<E78B+Aax  
    3.计算GRIN扩散器 {~'Iu8TvZ  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 | `?J2WGe  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 xd4~[n\hm  
     最大层厚度如下: wS|hc+1  
    ?ihRt+eR~  
    4.计算折射率调制 M~.1:%khM  
    *c(YlfeZ#  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 $?;)uoAg  
    \23m*3"W  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 pMf ?'l  
    ^--8 cLB n  
    ; 2aPhA  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 `"#hhKG  
    ~L_1&q^4!i  
    !&{"tL@.  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 r( bA>L*mk  
    AO(z l*4  
    b4(,ls  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 +u`4@~D#  
    NBw{  
    %@HuAcNi  
    9LSV^[QUH  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 sy(.p^Z  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 j.\0p-,  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 T^#d\2  
    DyUS^iz~o  
    5.X/Y采样介质 c1 j@*6B  
    }V 4u`=  
    y#/P||PM  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 +$#h6V  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 "EZpTy}Ee  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 *rYPjk6g[  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    EZZE(dq@gf  
    \0FwxsL  
    ]VS:5kOj`  
    rrG}; A  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 `4ti?^BNm  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 ({cWb:+r  
     应该选择像素化折射率调制。 m!3D5z]n9  
    1'1>B  
    0y2zjXM;3  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 bR?xz-g%<3  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 tHr4/  
    ` ^;J<l  
    6.通过GRIN介质传播 @c).&7  
    E *782>  
    CQ7NQ^3k  
    eWr6@  
     通过折射率调制层传播的传播模型: 6d3YLb4M$i  
    - 薄元近似 J.]`l\  
    - 分步光束传播方法。 g`)0 wP  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 ;/)$Cm&e  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 @S6@pMo,  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 \$gA2r  
    G?Za/G  
    7.模拟结果 % pAbkb3m  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    j' b0sve|?  
    R^"mGe\LL  
    8.结论 d?V/V'T[  
    HmHM#~5(`  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 d<w]>T5VW  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 9~y:K$NO  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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