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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 x%;Q /7&$  
    $j~oB:3n7  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 o6} +5  
     设计包括两个步骤: ; md{T'  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 h=3156M  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 GM/3*S$c  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 >e4  
    =](c7HEQf  
    n},~2  
    照明光束参数 RfT#kh/5  
    vWJhSpC[  
    zr0_SCh;2  
    波长:632.8nm #"M 'Cs  
    激光光束直径(1/e2):700um
    Q7y6</4f  
    y\ nR0m  
    理想输出场参数 u+]v. Mt  
    Kis\Rg  
    l|-TGjsX  
    直径:1° 5JbPB!5;  
    分辨率:≤0.03° zXB]Bf3TH  
    效率:>70% z]k=sk  
    杂散光:<20% M} IRagm  
    O=1uF  
    ?l_>rSly5  
    2.设计相位函数 b8 J\Lm|J  
    hfY Ieb#91  
    Z_qs_/y  
    t|*PC   
     相位的设计请参考会话编辑器 ^g,[#Rh  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 4/{Io &|  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 ~Exd_c9  
    S^ ?OKqS  
    3.计算GRIN扩散器 LnJ/t(KV  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 `07u}]d8  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 R]%ZqT{PS  
     最大层厚度如下: ]xfAdBi  
    p[e|N;W8A  
    4.计算折射率调制  ]{OEU]I@  
    r^P}xGGK  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 {6<7M  
    NQ<~$+{  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 DYH-5yX7  
    f8! PeQ?  
    ,{c9Lv%@J  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 a4,bP*H  
    Sv-}w$  
    [pbX_  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。  Iz2K  
    vi0% jsI  
    nJ4h9`[>V  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 ?ZSG4La\  
    !EM21Sc  
    QB@qzgEJ!,  
    w2~(/RgO  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 _]tR1T5e  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 ,ewg3mYHC&  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 *|Re,cY  
    n/s!S &  
    5.X/Y采样介质 <uL?7P  
    UL[4sv6\9  
    C[r YVa .  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 Qd!;CoOmZs  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 #'<I!G  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 hzPx8sO  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    Xr M[8a  
    9Pd~  
    mo#4jtCE  
    P1 (8foZA  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 da!N0\.1T  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 N>Y`>5  
     应该选择像素化折射率调制。 `+B+RQl}[  
    {<~XwJ.  
    ItKwB+my  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 h1K 3A5  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 ^i-%FY_i5}  
    'A !Dg  
    6.通过GRIN介质传播 )dF(5,y)  
    A i9*w?C  
    (L|SE4  
    Di*+Cz;gK  
     通过折射率调制层传播的传播模型: y%TR2CvT  
    - 薄元近似 .1I];Cy0D  
    - 分步光束传播方法。 ~uC4>+dk  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 yc]ni.Hz  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 Q(k$HP  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 8)"KPr63M  
    ![abDT5![  
    7.模拟结果 {yt]7^  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    &O0+\A9tP  
    tt J,rM  
    8.结论 7R) )(-  
    >w j7Y`  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。  TWx<)  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 .[2MPjg  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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