1.模拟任务 CI };$4W~ 3Y}X7-|)Z 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
gADEjr*H 设计包括两个步骤:
},G>+ s8h - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
'[nH]N - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
`zJTVi4 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
[N-t6Z* H[a1n' "<: lB0: 4cIj 照明光束参数 -`o22G3w rz@;Zn Jt3]'Nr04@ 波长:632.8nm
m:1f7Z> 激光光束直径(1/e2):700um
8=%%C: zu~E} 理想输出场参数 KF#,Q X~ AE?? &u_s* 直径:1°
w/`I2uYu 分辨率:≤0.03°
N<\U$\i 效率:>70%
AJ*FQo.U 杂散光:<20%
=h4*
^NJ ;be2sTo Ris5)*7 2.设计相位函数 nM)q;9-ni _p~lL<q-K[ %S<0l@=5`l x-:a5Kz! 相位的设计请参考会话编辑器
qDQ$Zq[ Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
UoLvc~n7 设计没有离散相位级的phase-only传输。
=psX2?%L nbpGxUF`] 3.计算GRIN扩散器 k8}*b&+{vz GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
y3 R+060\3 最大折射率调制为△n=+0.05。
F|3 =Cl 最大层厚度如下:
q5irKT*Hs 7>a-`"`O 4.计算折射率调制 _IA@X. )? AQ>8] `e` 从IFTA优化文档中显示优化的传输
="$9
<wt )PRyDC- 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
SYPG.O?I z]NzLz9VfL .."= 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
, 8NY<sFh P+m{hn~%
BnLM ;5
> 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
yX}riXe 1Qi5t?{ F9sVMV 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
#)aUKFX 4v"9I( ?]`kc 1CkBfK 数据阵列可用于存储折射率调制。
_`/:gkZS 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
-/>SdR$D7 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
hcvWf\4'#q .Y8z3O 5.X/Y采样介质 Ut;,Z
H5f>Q0jq
kvzGI>H: GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
,DN>aEu1 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
6gLk?^. 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
jpl"KN?X 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
73kF=*m -.8 nEO3 w&eX)! cr{;gP 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
zFy0SzF 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
RJ ,a}w[9 应该选择像素化折射率调制。
zCvt"!}RRa vI<n~FHt [xF (t @p 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
}n+#o!uEf 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
W0]W[b,:u$ b<