切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • 610阅读
    • 0回复

    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

    上一主题 下一主题
    离线infotek
     
    发帖
    6421
    光币
    26250
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 x?|   
    JR j%d&^}  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 i bwnK?ZA  
     设计包括两个步骤: j/xL+Y(=  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 !]k$a  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 )v67wn*1A  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 AyMMr_q  
    5:H9B  
    r:Xui-  
    照明光束参数 xdH*[  
    +}@HtjM  
    If_S_A c  
    波长:632.8nm cEd!t6Z  
    激光光束直径(1/e2):700um
    8y{<M"v+/  
    Gm.n@U p  
    理想输出场参数 8?r ,ylUj  
    'L2M  W  
    X|7Y|0o  
    直径:1° \}e1\MiZ  
    分辨率:≤0.03° Oj*3'?<7=  
    效率:>70% rE bC_<  
    杂散光:<20% 0VB~4NNR  
    ^.J F?2T/  
    "3v[\M3  
    2.设计相位函数 j[h4F"`-  
    (SLAq$gvd  
    )[>b7K$f  
    ccJ@jpXI  
     相位的设计请参考会话编辑器 x.+}-(`W#~  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 <Dw`Ur^X5  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 [2!K 6  
    #<bt}Tht  
    3.计算GRIN扩散器 zZ|Si  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 qlSc[nEk  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 |Y!#`  
     最大层厚度如下: !0~$u3[b  
    XX,iT~+-  
    4.计算折射率调制 cRX0i;zag  
    z1ltc{~Z  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 pCNihZ~  
    )dJaF#6j  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 Qcz7IA  
    hp}J_/+4n  
    '@u/] ra:  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 tqE LF  
    V$+xJ  m  
    })|+tZ  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 |Q^Z I  
    +'?p $@d  
     XGEAcN  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 Nf>1`eP  
    E {d Mdz  
    RR><so%  
    m El*{]  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 l/_3H\iM  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 uRQm.8b  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 %lchz /  
    d^IOB|6Q  
    5.X/Y采样介质 o*\kg+8  
    |8h<Ls_  
    pK#Ze/!  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 S?%V o* Y  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 ?MuM _6  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 f8)D|  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    ]?xF'3#  
    LKG],1n-  
    #JGy2Hk$^  
    l0g#&V--  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 Wy,DA^\ef  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 ]6</{b  
     应该选择像素化折射率调制。 @<\f[Znto  
    %FQMB  
    >/EmC3?b!  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 /g712\?M4  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 LGPy>,!  
    m~#S76!w  
    6.通过GRIN介质传播 'Ol}nmJ'n  
    l2=.;7 IV  
    iqghcY)  
    e%j+,)Ry  
     通过折射率调制层传播的传播模型: O1coay  
    - 薄元近似 :N%cIxrqP  
    - 分步光束传播方法。 LS4c|Dv  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 bc5+}&W  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 ,v$gQU2  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 \*!?\Ko`W  
    yEtSyb~GK  
    7.模拟结果 JTpKF_Za<  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    e6k}-<W*q  
    X^?<, Y)1.  
    8.结论 xzy7I6X  
    ];^A8?  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 0kpRvdEr-  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 Rs{L  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
    分享到