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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 r8.R?5F@  
    om6'%nXhn  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 aLZza"W  
     设计包括两个步骤: mS)|i+5  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 W&E?#=*X  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 M7U:UV)  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 8T ?=_|  
    xgsEJE  
    fmqHWu*wG  
    照明光束参数 D#VUx9kugv  
    # .1+-^TQk  
    `M0m`Up  
    波长:632.8nm 8YroEX[5l  
    激光光束直径(1/e2):700um
    3d<Z##`{4  
    sw<GlF"  
    理想输出场参数 (^h2 'uB  
    -U&k%X   
    4:1URhE  
    直径:1°  ! @EZ  
    分辨率:≤0.03° mn5y]:;`  
    效率:>70% TsiI5'tx  
    杂散光:<20% 90R z#qrI*  
    Y!!w*G9b  
    2G=prS`s  
    2.设计相位函数 ck0K^o v  
    W(~7e?fO  
    6uNWL `v  
    HLYog+?  
     相位的设计请参考会话编辑器 {tE9m@[AF  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 <L!9as]w  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 94uAt&&b(  
    } O:Y?Wq^  
    3.计算GRIN扩散器 EV=/'f[++  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 JU>F&g/|  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 zDakl*  
     最大层厚度如下: tk]>\}%  
    qYba%g9RN(  
    4.计算折射率调制 !>E$2}Q|]  
    d8N{sT  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 l$1 ]  
    WdtZ{H  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 GXk]u  
    <m"fzT<"  
    @$G{t^&os  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 ~<Eu @8+_  
    ?WEKRl  
    q8m[ S4Q]g  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 :{ 8,O-  
    !xD$U/%c  
    }0okyGg>q  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 }Od=WQv+  
    V*d@@%u**  
    rS|nO_9f  
    %fJ~ 3mu  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 >f\$~cp  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 xj< K6  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 w ]%EJ|'  
    %4$J.6M  
    5.X/Y采样介质 6<t<hP_3O  
    >~}}*yp  
    H`T8ydNXa  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 j|-{*t{/x  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 DeK&_)g| Z  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 xoe/I[P]U  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    8"=E 0(m  
    52P^0<Wq  
    Y@l>4q")  
    8-5g6qAS  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 {3@"}Eh  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 z(dDX%k@  
     应该选择像素化折射率调制。 +*`>7m<^  
    &iTTal.6  
    Ewq7oq5:  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 ET\>cxSp  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 /A82~  
     i|!D  
    6.通过GRIN介质传播 Hfo/\\  
    .VA'W16  
    WQ1K8B4  
    ],|;  
     通过折射率调制层传播的传播模型: Sp-M:,H3H  
    - 薄元近似 |Duf 3u  
    - 分步光束传播方法。 fn3DoD+I  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 JWsOze 8#  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 SYYg 2I  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 Iy;bzHXs  
    dTVh{~/  
    7.模拟结果 gg?O0W{  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    4<btWbk5u*  
    ijeas<  
    8.结论 f>[!Zi*  
    cnL@j_mb  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 $_+.D`vx`  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。  K)P].htw  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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