1.模拟任务 r8.R?5F@ om6'%nXhn 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
aLZza"W 设计包括两个步骤:
mS)|i+5 - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
W&E?#=*X - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
M7U:UV) 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
8T ?=_| xgsE JE fmqHWu*wG 照明光束参数 D#VUx9kugv #.1+-^TQk `M0m`Up 波长:632.8nm
8YroEX[5l 激光光束直径(1/e2):700um
3d<Z##`{4 sw<GlF" 理想输出场参数 (^h2'uB -U&k%X 4:1URhE 直径:1°
! @EZ 分辨率:≤0.03°
mn5y]:;` 效率:>70%
TsiI5'tx 杂散光:<20%
90Rz#qrI* Y!!w*G9b 2G=prS`s 2.设计相位函数 ck0K^o v W(~7e?fO 6uNWL `v HLYog+? 相位的设计请参考会话编辑器
{tE9m@[AF Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
<L!9as]w 设计没有离散相位级的phase-only传输。
94uAt&&b( }
O:Y?Wq^ 3.计算GRIN扩散器 EV=/'f[++ GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
JU>F&g/| 最大折射率调制为△n=+0.05。
zDakl*
最大层厚度如下:
tk]>\}% qYba%g9RN( 4.计算折射率调制 !>E$2}Q|] d8N{sT 从IFTA优化文档中显示优化的传输
l$1
] WdtZ{H 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
GXk]u <m"fzT<" @$G{t^&os 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
~<Eu
@8+_ ?WEKRl
q8m[ S4Q]g 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
:{8,O- !xD$U/%c }0okyGg>q 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
}Od=WQv+ V*d@@%u** rS|nO_9 f %fJ~3mu 数据阵列可用于存储折射率调制。
>f\$~cp 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
xj<
K6 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
w ]%EJ|' %4$J.6M 5.X/Y采样介质 6<t<hP_3O
>~}}*yp H`T8ydNXa GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
j|-{*t{/x 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
DeK&_)g| Z 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
xoe/I[P]U 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
8"=E0(m 52P^0<Wq Y@ l>4q") 8-5g6qAS 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
{3@"}Eh 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
z(dDX%k@ 应该选择像素化折射率调制。
+*`>7m<^ &iTTal.6 Ewq7oq5: 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
ET\>cxSp 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
/A82~ i|!D 6.通过GRIN介质传播 Hfo/\\ .VA'W16 WQ1K8B4 ],|; 通过折射率调制层传播的传播模型:
Sp-M:,H3H - 薄元近似
|Duf
3u - 分步光束传播方法。
fn3DoD+I 对于这个案例,薄元近似足够准确。
JWsOze8# 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
SYYg
2I 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
Iy;bzHXs dTVh{~/ 7.模拟结果 gg?O0W{ 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
4<btWbk5u* ijeas< 8.结论 f>[!Zi* cnL@j_mb VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
$_+.D`vx` 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
K)P].htw 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。