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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 _L PHPj^Pg  
    (?c-iKGc  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 2?5>o!C  
     设计包括两个步骤: E3i4=!Y  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 eJSxn1GW  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 _^;Z~/.  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 FtZ?C@1/  
    T |p"0b A  
    ""H?gsL[  
    照明光束参数 WM{=CD  
    ^_6|X]tz1T  
    g*Phv|kI  
    波长:632.8nm rZF*q2?  
    激光光束直径(1/e2):700um
    ;r8X.>P*  
    `gJ(0#ac  
    理想输出场参数 ;,TFr}p`  
    7"##]m.  
    nEfK53i_  
    直径:1° GmG 5[?)  
    分辨率:≤0.03° %*U'@r(A  
    效率:>70% ]yu:i-SfP  
    杂散光:<20% >Q/Dk7#  
    XkqCZHYkS  
    ;*N5Y}?j'  
    2.设计相位函数 :Al!1BJQ  
    @,}UWU  
    Bwrx*J  
    =vPj%oLp'a  
     相位的设计请参考会话编辑器 So;<6~  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 XG?8s &  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 GVz6-T~\>  
    ibw;}^m(  
    3.计算GRIN扩散器 )1z@  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 q| 7(  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 LscGTs,  
     最大层厚度如下: S @Y39  
    edD)TpmE,  
    4.计算折射率调制 7,MR*TO,  
    9^x> 3Bo  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 : DNjhZ  
    vIvIfE  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 k!^{eOM  
    =%7-ZH9  
    [KQi.u  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 C^){.UGmJ  
    o4;(Zi#Z  
    ~~.}ah/_d  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 b$7 +;I;  
    ~,Qp^"rlW  
    Ni>[D"|  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 NHt\ U9l'  
    5(2;|I,T  
    h;Qk @F  
    7=uj2.J6  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 N mG#   
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 q)GdD==  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 m~|40)   
    [UR-I0 s!/  
    5.X/Y采样介质 l]vm=7:  
    )+^+s d  
    W)/#0*7  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 YUb_y^B^  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 CITc2v3a  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 iscz}E,Y  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    TC('H[ ]  
    ]GS bjHsO  
    V9vTsmo(  
    $qiya[&G4  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 Sz~OX6L  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 #_1`)VS  
     应该选择像素化折射率调制。 ~u{uZ(~  
    OI*H,Z "  
    hp2t"t  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 3$tdwe$S  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 v19-./H^ j  
    W^Yxny  
    6.通过GRIN介质传播 7$b1<.WX  
    #E?4E1bnB  
    H}!r|nG  
    #WuBL_nZ~  
     通过折射率调制层传播的传播模型: 29rX%09T]  
    - 薄元近似 pmM9,6P4@  
    - 分步光束传播方法。 >z03{=sAN  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 \bF{-"7.  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 w xH7?tsf  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 5R-6ji  
    RN1_S  
    7.模拟结果 dG{A~Z z  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    :h$$J lP  
    IPk4 ;,  
    8.结论 )4OxY[2J  
    ixFi{_  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 +0&/g&a\R  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 ` A>@]d  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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