1.模拟任务 Dd| "iA !|B3i_n 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
Rl_.;?v"! 设计包括两个步骤:
tM&n3MWQ - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
`#ul,% - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
ispkj' 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
PzjaCp' ^vpIZjN MZT6g. ny 照明光束参数 G%a] j kg<P t > (lb6]MtTHY 波长:632.8nm
!:(C"}5wM 激光光束直径(1/e2):700um
%a5t15 9 On=u#DxQ 理想输出场参数 rO0ZtC{K "2a$1Wmj( VCjq3/[_ 直径:1°
#(6) ^ ( 分辨率:≤0.03°
=HVfJ"vK 效率:>70%
q( IZJGb 杂散光:<20%
);nz4/V AHwG<k Yp*,Jp1 2.设计相位函数 & g:%*>7P A t{U~^ SSE3tcRRl @g4Shlx| 相位的设计请参考会话编辑器
Z!=L Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
XYjcJ 设计没有离散相位级的phase-only传输。
XYe~G@Q Z 6mCq/$ 3.计算GRIN扩散器 .U9R># GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
6
}! Z" 最大折射率调制为△n=+0.05。
L\YKdUL 最大层厚度如下:
1HhX/fpq }!8nO; 4.计算折射率调制 r}
Lb3`' #$FrFU;ZR 从IFTA优化文档中显示优化的传输
i'HPRY 1 tPVP 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
i^*M^P3m Q"%S~' jv =EheD 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
2Z)4(, QdDObqVdy
EUy(T1Cl&& 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
/v|Onq1Y4 II;Te7~
aG(hs J) 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
yl$F~e1W Stxp3\jEn =q+R
BFWi(58q 数据阵列可用于存储折射率调制。
fG&=Ogy 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
TQf L%JT 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
537?9 U\jb" 5.X/Y采样介质 dv~pddOs
;F5"}x s\gp5MT GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
oQT2S>cm^ 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
@vRwzc\ 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
7?J3ci\ 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
Kb&V!#o) <sX VW nBz`q+V 0C$8g
Y* 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
u7s"0f` 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
$.rzc]s 应该选择像素化折射率调制。
Icx7.Y Fi2xr<7" sI,W%I':d 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
3K>gz:dt 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
ez\eOH6 E]I$}>k 6.通过GRIN介质传播 19c@ `? A]o4Mf0>I gEwd &J VUtXxvH 通过折射率调制层传播的传播模型:
WO X}Sw" - 薄元近似
=']3(6* - 分步光束传播方法。
`Ye8
Q5v"] 对于这个案例,薄元近似足够准确。
:Q_3hK 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
y('k`>C 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
h3!$r~T!a: BRS#Fl: 7.模拟结果 m$wlflt 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
kn"q:aD .Z\Q4x#!Z 8.结论 n~.*1. P $t}<85YCQ VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
f>polxB%N 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
S6xgiem 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。