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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 q'awV5y  
    Kf7v_T /  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 #EdsB  
     设计包括两个步骤: eMC0 )B  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 VN9C@ ;'$  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 ,t_Fo-i7vI  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 %phv<AW  
    KFMEY\6\h  
    {]\!vG6  
    照明光束参数 oVSq#I4  
    YV0K&d  
    {$mj9?n=v  
    波长:632.8nm FsYsQ_,R3  
    激光光束直径(1/e2):700um
    (Q09$  
    .)eX(2j\  
    理想输出场参数 j;']L}R  
    9fL48f$  
    Lcyj, R  
    直径:1° \hwz;V.J"  
    分辨率:≤0.03° %,M(-G5j;  
    效率:>70% =-qv[;%& 6  
    杂散光:<20%  P7GF"/  
    (7g1eEK%  
    Q@lJ|  
    2.设计相位函数 x p#+{}  
    Ll L8Q  
    bJE$>  
    M(2c{TT  
     相位的设计请参考会话编辑器 i`1QR@11  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 Vi~F Q  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 { +%S{=j  
    ?g$dz?^CK&  
    3.计算GRIN扩散器 :8~*NSEFd  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 Rg6e7JVu  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 GUyc1{6  
     最大层厚度如下: /# M|V6n  
    wb }W;C@  
    4.计算折射率调制 f`j RLo*L  
     ? h$>7|  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 vO)nqtw  
    ^r<bi%@C$  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 H[{ch t h  
    @"m? #  
    v?7.)2XcX  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 c!BiGw,;  
    hD>O LoO  
    U9KnW]O%"  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 5"[Qs|VjA6  
    TY=BP!s  
    m*BtD-{  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 }>w;(R  
    *HwTq[y  
    q lL6wzq,  
    l\yFx  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 #isBE}sT{  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 j!;?=s  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 .s_wP  
    H! ZPP8]j>  
    5.X/Y采样介质 ?hS n)  
    3H%oTgWk  
    g|PVOY+|^  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 7K`A2  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 3`&2 -  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 7 3k3(rZ  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    _AQ :<0/#  
    l|fOi A*K  
    :_tsS)Q2m  
    5vL]Y)l  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 {O6f1LuH  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 :Q\b$=,:  
     应该选择像素化折射率调制。 w$7*za2  
    4b8!LzKS  
    n2R{$^JxO  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 6P' m0  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 m?_S&/+*  
    Gt[!q\^?  
    6.通过GRIN介质传播 f4zd(J  
    & h9ji[  
    3_IuK 6K2  
    i`Es7 }  
     通过折射率调制层传播的传播模型: v"L<{HN  
    - 薄元近似 }abM:O "Y  
    - 分步光束传播方法。 ~?dPF;.6_  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 _.Y?BAQ  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 +GWeu0b(~  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 @7%nMTZ@&v  
    POc< G^  
    7.模拟结果 kzGD *  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    VuFH >8n  
    `I<*R0Qe  
    8.结论 UGEC_  
    7vV3"uns  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 .8CR \-  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 JPgV7+{b[  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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