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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 P9Yy9_a|x  
    <P[T!gST  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 - O98pi  
     设计包括两个步骤: XgN` 7!Z  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 :K`ESq!8u  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 O4\Z!R60g  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 K5ZC:Ks  
    6fH@wQ"wN  
    k(>h^  
    照明光束参数 fqX"Lus `=  
    3`d}~v{  
    'FlJpA}  
    波长:632.8nm E1dD7r\  
    激光光束直径(1/e2):700um
    8KB>6[H!wE  
    4 %PfrJ  
    理想输出场参数 ;__9TN  
    +d+@u)6  
    1_fZm+oW!  
    直径:1° _It,%<3  
    分辨率:≤0.03° (Fq5IGs  
    效率:>70% K 8n4oz#z  
    杂散光:<20% T{V/+RM  
    iLP7!j  
    H9h@sSg  
    2.设计相位函数 1c3TN#|)W  
    I}e 3zf>  
    U~h'*nV&  
    [U}+sTQ  
     相位的设计请参考会话编辑器 _Jwq`]Z  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 IDkWGh  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 +4[^!q* H  
    rg0m a  
    3.计算GRIN扩散器 Fc~'TBf,,`  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 &PkLp4mQ  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 Nx{$}  
     最大层厚度如下: 4h5g'!9-g  
    Z3>N<u8)  
    4.计算折射率调制 h\plQ[T  
    I1[g&9,  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 SH*C"  
    7.DtdyM  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 $0bjKy  
    W_m"ySQs  
    vN 2u34  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 [: xiZ  
    &] \X]p  
    J]m{ b09F  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 da1]mb=4 5  
    d,8mY/S>w  
    $P1O>x>LIL  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 b-3*Nl_%  
    pO8ePc@=D  
    f|y:vpd%  
    'J,T{s1J  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 _qb Ih  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 I^oE4o  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 )c l5B{1P  
    p>_;^&>&  
    5.X/Y采样介质 sA gKg=)  
    PrudhUI^  
    :4^\3~i1X  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 mxb06u _  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 spasB=E  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 M$0u1~K  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    \rVQQ|l   
    )lJao  
    odg<q$34  
    O?<&+(uMTT  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 ?$e9<lsQq)  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 p{PE@KO:  
     应该选择像素化折射率调制。 '#(v=|J  
    Rb(SBa  
    9;?UvOI;  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 [F5h   
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 wvrrMGU)a  
    a>mm+L 8y  
    6.通过GRIN介质传播 PMfkA!.Y  
    q~o,WZG  
    z>w`ZD}XY  
    c5|:,wkx  
     通过折射率调制层传播的传播模型: w[6J `   
    - 薄元近似 l2;CQ7  
    - 分步光束传播方法。 QdLYCR4f  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 &Q}*+Y]G  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 Mwgu93?  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 G;f/Tch  
    rp5(pV 7*  
    7.模拟结果 F @Te@n  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    tK k#LWB  
    -{`@=U  
    8.结论 w`l{LHrR  
    JWA@+u*k  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 Fq9Q+RNMZL  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 8u!"#S#>a  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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