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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 |~'IM3Jw(Y  
    5WC+guK7  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 L,mQ   
     设计包括两个步骤: IB# @yH  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 p!sWYui  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 pX&pLaF  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 !PrwH;  
    o&`<+4 i  
    .q[SI$qO/  
    照明光束参数 X>NhZ5\  
    c6nflk.l  
    8>X d2X  
    波长:632.8nm mjWU0Gh%*  
    激光光束直径(1/e2):700um
    ][W_[0v  
    OH5>vV 'i  
    理想输出场参数 h3*Zfl<]  
    w=^`w:5X  
    3 dht!7/  
    直径:1° @;<ht c  
    分辨率:≤0.03° ms!ref4`+  
    效率:>70% d+X}cq=  
    杂散光:<20% UilMv~0  
    \e!vj.PU  
    z"+Mrew  
    2.设计相位函数 L]d-hs  
    ~_Lr=CD;4  
    Nluv/?<  
    ({JHZ6uZ  
     相位的设计请参考会话编辑器 @J5Jpt*IE  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 TF 'U  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 qduWzxB  
    K'X2dG*  
    3.计算GRIN扩散器 taFn![}/!g  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 d?:=PH  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 _~q?_'kx  
     最大层厚度如下: %]I ZLJ  
    hoQs @[  
    4.计算折射率调制 2RN)<\P  
    h$.:Uj8/  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 >. '<J]  
    td4[[ /  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 ax{ ;:fW  
    c)A{p  
    HsnLm67'  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 1gmt2>#v%  
    z]2]XTmWs  
    >nw++[K_  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 $ &P >r  
     )$`wIp  
    (tCUlX2  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 HcedE3Rg  
    -T&.kYqnb$  
    srYJp^sC  
    s/7 A7![  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 05snuNt]-  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。  ~BDu$  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 Mz1G5xcl  
    e"'#\tSG  
    5.X/Y采样介质 ++aL4:  
    7<jZ`qdq_  
    x5QaM.+=J  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 yuDZ~0]R  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 ?{U m  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 o99pHW(E  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    ?W0)nQU  
    &BtK($  
    ^{xeij/  
    hSK;V<$[Z  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 mk3_  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 ' j6gG  
     应该选择像素化折射率调制。 _:X|.W  
    aB]m*~  
    $b<6y/"  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 cZ(elZ0~  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 {@<J_ A  
    u$D*tqxG  
    6.通过GRIN介质传播 N gLU$/y;  
    Iw<jT|y)  
    6m VuyI  
    lip[n;Ir>  
     通过折射率调制层传播的传播模型: Q2A7mGN  
    - 薄元近似 Up:<=Kgci  
    - 分步光束传播方法。 u(OW gbA3  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 ,o^y`l   
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 25NTIzI@@  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 j S;J:$>^  
    n.sbr  
    7.模拟结果 mo1oyQg8  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    CH fVQ|!\  
    :> &fV  
    8.结论 rU;RGz6}  
    }lK3-2Pk  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 k ^ YO%_  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。  Ug:\  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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