1.模拟任务 x%;Q
/7&$ $j~oB:3n7 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
o6} +5 设计包括两个步骤:
; md{T' - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
h= 3156M - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
GM/3*S$c 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
>e4 =](c7HEQf n},~2 照明光束参数 RfT#kh/5 vWJhSpC[ zr0_SCh;2 波长:632.8nm
#"M 'Cs 激光光束直径(1/e2):700um
Q7y6</4f y\
nR0m 理想输出场参数 u+]v.Mt Kis\Rg l|-TGjsX 直径:1°
5JbPB!5; 分辨率:≤0.03°
zXB]Bf3TH 效率:>70%
z]k=sk 杂散光:<20%
M} IRagm O=1uF ?l_>rSly5 2.设计相位函数 b8J\Lm|J hfY
Ieb#91 Z_qs_/y t|*PC 相位的设计请参考会话编辑器
^g,[#Rh Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
4/{Io &| 设计没有离散相位级的phase-only传输。
~Exd_c9 S^
?OKqS 3.计算GRIN扩散器 LnJ/t(KV GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
`07u}]d8 最大折射率调制为△n=+0.05。
R]%ZqT{PS 最大层厚度如下:
]xfAdBi p[e|N;W8A 4.计算折射率调制 ]{OEU]I@ r^P}xGGK 从IFTA优化文档中显示优化的传输
{6<7M NQ<~$+{ 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
DYH-5yX7 f8! PeQ? ,{c9Lv%@J 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
a4,bP*H Sv-}w$
[pbX_ 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
Iz2K vi0% jsI nJ4h9`[>V 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
?ZSG4La\ !EM21Sc QB@qzgEJ!, w2~(/RgO 数据阵列可用于存储折射率调制。
_]tR1T5e 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
,ewg3mYHC& 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
*|Re,cY n/s!S & 5.X/Y采样介质 <uL?7P
UL[4sv6\9 C[rYVa
. GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
Qd!;CoOmZs 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
#'<I!G 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
hzPx8sO 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
Xr M[8a 9Pd~ mo#4jtCE P1
(8foZA 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
da!N0\.1T 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
N>Y`>5 应该选择像素化折射率调制。
`+B+RQl}[ {<~XwJ. ItKwB+my 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
h1K
3A5 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
^i-%FY_i5} 'A!Dg 6.通过GRIN介质传播 )dF(5,y) A
i9*w?C (L|SE4 Di *+Cz;gK 通过折射率调制层传播的传播模型:
y%TR2CvT - 薄元近似
.1I];Cy0D - 分步光束传播方法。
~uC4>+dk 对于这个案例,薄元近似足够准确。
yc]ni.Hz 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
Q(k$HP 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
8)"KPr63M ![abDT5![ 7.模拟结果
{yt]7^ 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
&O0+\A9tP tt J,rM 8.结论 7R))(- >w
j7Y` VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
TWx<) 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
.[2MPjg 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。