1.模拟任务 t$A%*JBKm U
)l,'y2 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
qfK`MhA} 设计包括两个步骤:
hWT[L.>k - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
cdG|m[ - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
m
q{]; 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
V2i@.@$j 7g(F#T?;' =<NljOR4` 照明光束参数 cg*)0U-_( FN%m0"/Z{t Ie4 hhW 波长:632.8nm
[fKUyIY_ 激光光束直径(1/e2):700um
!Z5[QNVaV ~I799Xi 理想输出场参数 e&qh9mlE ,i,q!M{- &ZX{R#[L 直径:1°
r?*NhLG; 分辨率:≤0.03°
EB_NK 效率:>70%
y:h}z). 杂散光:<20%
C,pJ`:P 0#YX=vjX7 OLvcivf 2.设计相位函数 @;H,gEH^ OKvPL=~ rJ!{/3e Eyh51IB. 相位的设计请参考会话编辑器
=T7A]U] Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
^=^z1M2P 设计没有离散相位级的phase-only传输。
*mMEl]+ _+^ 2^TW 3.计算GRIN扩散器 0sh/|`\ GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
p!<$vE 最大折射率调制为△n=+0.05。
nYt/U\n! 最大层厚度如下:
h'$9C Xe^Cn
R 4.计算折射率调制 d'|,[p ]wWPXx[>/ 从IFTA优化文档中显示优化的传输
)5.C]4jol LT,? $I 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
A,)VM9M_l Eb=#9f%y>& 4L73]3& 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
60)iw4<wf D Kw*~0
l?q%?v8 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
4j!]:ra &k1T08C* )
9oH,gZ 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
03iv3/{H E3*\
^Q_ $L2%u8}8: i9D0]3/> 数据阵列可用于存储折射率调制。
j}AFE 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
d.2mT?`# 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
`W-&0|%Ta )Y8",Ig 5.X/Y采样介质 XZ/[v8
@Kgl%[NmX P@]8pIB0d^ GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
@y/wEBb 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
eJo3 MK 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
NKmoG\* 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
-.|4Y#b:& z 8*8OWM P\&! ] C P3<1~ 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
i#%a- I:M 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
&
``d 应该选择像素化折射率调制。
QQpP#F|w t
nS+5F 5eA8niq# 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
IjfxR mV 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
}elH75[64 )!Bd6- 6.通过GRIN介质传播 Zh/Uu6 "W#t;;9Wz ((rv]f{ NA.1QQ;e 通过折射率调制层传播的传播模型:
w~@-9<^K]v - 薄元近似
P=5NKg - 分步光束传播方法。
YOAn4]j 对于这个案例,薄元近似足够准确。
Sc]P<F7N] 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
dtAbc7 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
RA jkH` WM)F0@" 7.模拟结果 @wq#>bm 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
i%#$* {NCF6Mk 8.结论 w18RA#Zo/ b59{)u4F VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
6TH!vuQ1( 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
Lz\UZeq 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。