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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 Dd| "iA  
    !|B3i_n  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 Rl_.;?v"!  
     设计包括两个步骤: tM&n3MWQ  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 `#u l,%  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。  ispkj'  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 PzjaCp'  
    ^vpIZjN  
    MZT6g.ny  
    照明光束参数 G%a] j  
    kg<P t >  
    (lb6]MtTHY  
    波长:632.8nm !:(C"}5wM  
    激光光束直径(1/e2):700um
    %a5t15 9  
    On=u#DxQ  
    理想输出场参数 rO0ZtC{K  
    "2a$1Wmj(  
    VCjq3/[_  
    直径:1° #(6) ^ (  
    分辨率:≤0.03° =HVfJ"vK  
    效率:>70% q(IZJGb  
    杂散光:<20% );nz4/V  
    AHwG<k  
    Yp*,Jp1  
    2.设计相位函数 & g:%*>7P  
    A t{U~^  
    SSE3tcRRl  
    @g4Shlx|  
     相位的设计请参考会话编辑器 Z!= L   
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 XYjcJ  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 XYe~G@Q Z  
    6 mCq/$  
    3.计算GRIN扩散器 .U9 R> #  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 6 }!Z"  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 L\YKdUL  
     最大层厚度如下: 1HhX/fpq  
    }!8nO;  
    4.计算折射率调制 r} Lb3`'  
    #$FrFU;ZR  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 i'HPRY  
    1 tPVP  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 i^*M^P3m  
    Q"%S~&#'  
    jv =EheD  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 2Z)4(,  
    QdDObqVdy  
    EUy(T1Cl&&  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 /v|Onq1Y4  
    II;Te7~  
    aG(hs J)  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 yl$F~e1W  
    Stxp3\jEn  
    =q+R   
    BFWi(58q  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 fG&=Ogy  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 TQf L%JT  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 537?9  
    U\jb"  
    5.X/Y采样介质 dv~pddOs  
    ;F5"}x  
    s\gp5MT  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 oQT2S>cm^  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 @vRwzc\   
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 7?J3ci\  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    Kb&V!#o)  
    <sX VW  
    nBz`q+V  
    0C$8g Y*  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 u7s"0f`  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 $.rzc]s  
     应该选择像素化折射率调制。 Icx7.Y  
    Fi2xr<7"  
    sI,W%I':d  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 3K>gz:dt  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 ez\eOH6  
    E]I$}>k  
    6.通过GRIN介质传播 19c@`?  
    A]o4Mf0>I  
    gEwd &J  
    VUtXxvH  
     通过折射率调制层传播的传播模型: WOX}Sw"  
    - 薄元近似 =']3(6*  
    - 分步光束传播方法。 `Ye8 Q5v"]  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 :Q_3hK  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 y('k`>C  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 h3!$r~T!a:  
    BRS#Fl:  
    7.模拟结果 m$wlflt  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    kn"q:aD  
    .Z\Q4x#!Z  
    8.结论 n~.*1. P  
    $t}<85YCQ  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 f>polxB%N  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 S6xgiem  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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