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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 i3%~Gc63  
    <GNOT"z  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 eAuJ}U[  
     设计包括两个步骤: GDcV1$NA  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 ; zvnDox  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 w-#0k.T  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 {``}TsN  
    qXhrK /  
    RyhR#  
    照明光束参数 =#V11j  
    O#EBR<CuK  
    \6'A^cE/PX  
    波长:632.8nm xw-q)u  
    激光光束直径(1/e2):700um
    >WDpBn:  
    E, v1F!  
    理想输出场参数 b>7ts_b  
    19rUvgC{M  
    AO]lXa  
    直径:1° |X.z|wKT6  
    分辨率:≤0.03° nB]Q^~jX  
    效率:>70% 8;'n.SC{  
    杂散光:<20% f2u2Ns0Ym  
    {+[gf:Ev  
    IW1\vfe  
    2.设计相位函数 Kje+Niz7  
    ~ZNhU;%YW  
    )aC+qhh  
    :3t])mL#   
     相位的设计请参考会话编辑器 g.]'0)DMW  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 h|H;ZC(B  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 "EHc&,B`  
    e)xWQ=,C  
    3.计算GRIN扩散器 bpx=&74,6m  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 1v4kN -  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 mTPj@F>  
     最大层厚度如下: D1n2Z :9  
    :kVV.a#g  
    4.计算折射率调制 ks5'Z8X  
    d0=nAZZ  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 .'a|St  
    (J4utw Z  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 Hj\~sR$L-  
    v wyDY%B"n  
    s z\RmX  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 =c,gK8C  
    nAg(lNOWN  
    DPwSg\*)  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 f3N:MH-c  
    zEB1Br,  
    U. aa iX7  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 :#/bA&  
    E5(Y*m!  
    r$F]e]Ic\  
    .vv*bx   
     数据阵列可用于存储折射率调制。 UW*aSZ/?  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 XOCau.#  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 %5G BMMn  
    8UIL_nPO  
    5.X/Y采样介质 RFJ;hh  
    MuobMD}jqe  
    5u46Vl{  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 j;v%4G  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 cDiz!n*.q  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 vb- .^l  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    32iI :u  
    B@]7eVo  
    J,O@T)S@  
    .A\\v6@  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 IDh`0/i]  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 6^|6V  
     应该选择像素化折射率调制。 yj~"C$s  
    GC[{=]}9U  
    b8.%?_?  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 ;J(,F:N  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 LJwMM  
    2?T:RB}  
    6.通过GRIN介质传播 *Zi%Q[0Me  
    9|?Lz  
    i)L:VkN  
    CFm1c1%Hg  
     通过折射率调制层传播的传播模型:  |{)xC=  
    - 薄元近似 el?V2v[  
    - 分步光束传播方法。 5j,qAay9  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 &fW=5'  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 Z9&D'n)  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 B)]{]z0+`  
    Qe$>Jv5  
    7.模拟结果 K$cIVsfr  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    -FN6sNvIh  
    /:` i%E  
    8.结论 %^=!s  
    P\4tK<P|  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 huJq#5?  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 '$XHRS/q]  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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