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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 F91'5D,u0  
    nM*-Dy3ou  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 z;? 3 2K  
     设计包括两个步骤: E! '|FJ  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 IbFS8 *a\  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 `9IG//  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 9os>k*  
    _]~`t+W'DJ  
    |X:"AH"S  
    照明光束参数 |G^w2"D_Z  
    ?7 Kl)p3  
    p*F.WxB)4  
    波长:632.8nm xY] Y  
    激光光束直径(1/e2):700um
    B}n tD  
    nksx|i l  
    理想输出场参数 Gw 4~  
    0Z.bd=H  
    : b9X?%L~  
    直径:1° t= =+SHGP  
    分辨率:≤0.03° A.0eeX{  
    效率:>70% g\;&Z  
    杂散光:<20% s,&tD WU  
    7f!"vhCXM;  
    v<+5B5"1  
    2.设计相位函数 /G}TPXA  
    RM/q\100  
    #^|"dIZ_M  
    >NL4&MV:  
     相位的设计请参考会话编辑器 VJp; XM  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 !% 'dyj  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 W!@*3U]2R  
    :Kc9k(3&r  
    3.计算GRIN扩散器 tWD5Yh>.?$  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 yHrYSEM  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 Qq,w6ekr  
     最大层厚度如下: $CT 2E  
    -u!{8S~wA  
    4.计算折射率调制 "n,? )  
    IdP"]Sv{<  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 >M~wFs$~  
    &w4~0J>v!  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 UBj"m<  
    )SJ18 no|l  
    QzV Q}  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 X,+M?  
    IYZ$a/{P  
    ZT;8Wvo  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 9d5|rk8VS  
    WoYXXYP/E  
    st91r V$y?  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 Ze?(N~  
    m]XG7:}V0  
    v'fX'/  
    Pl2ZA)[g  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 m+Um^:\jX  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 1MVzu7  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 luPj'd?  
    R]Iv?)Y  
    5.X/Y采样介质 P LHiQ:  
    .=I:cniw\r  
    ONc-jU^  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 yu^n;gWH  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 i.~*G8!DM  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 2.6F5&:($  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    3G r:.V9=  
    kimqm  
    JZc"4qf@OT  
    p bRU"   
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 e#R'_}\yj  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 5:" zs  
     应该选择像素化折射率调制。 -~PiPYX  
    "q<}#]u  
    J.t tJOP  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 0vi)m y;!  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 .+.BNS   
    KV1/!r+*  
    6.通过GRIN介质传播 &@&0n)VTd  
    4/_@F>I_  
    @_:Jm tH<  
    Y\Grf$e  
     通过折射率调制层传播的传播模型: ?H30  
    - 薄元近似 -JMlk:~  
    - 分步光束传播方法。 v +$3Z5  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 3M@!?=| U  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 v \xuq`  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 }\-"L/D?+  
    M@ TXzn!&o  
    7.模拟结果 _,G^#$pH  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    e [}m@a  
    E <O:  
    8.结论 Ho_ 2zx:8b  
    >sfH[b  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 jO5R0^w  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 $$GmundqB  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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