1.模拟任务 9R99,um$ u,JUMH]@ 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
+ctJV> 设计包括两个步骤:
X}Fqif4A - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
4l@aga - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
yJ*g ; 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
&HtG&RvQf
tPChVnB 42=/$V 照明光束参数 vu~7Z;y(<j _Jn@+NoO ss4YeZa 波长:632.8nm
\u*[mrX_B: 激光光束直径(1/e2):700um
kZ'wXtBYe $msf~M* 理想输出场参数 scPvuHzl GI%9Tif h*V~.H 直径:1°
wPvYnhr|G- 分辨率:≤0.03°
xTy)qN]P 效率:>70%
-/R?D1kOq 杂散光:<20%
)v %tyU 7 b8pWM I+rLKGZC 2.设计相位函数 /%AA\`:6 }1|FES jZ0/@zOf &%4A3.qE 相位的设计请参考会话编辑器
m0N{%Mf- Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
[bjP-pX 设计没有离散相位级的phase-only传输。
l%#z {-51rAyi 3.计算GRIN扩散器 K1t>5zm GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
X<d`!,bn@
最大折射率调制为△n=+0.05。
^TT_BAI 最大层厚度如下:
g2 tM!IRQ ?>q5Abp[ 4.计算折射率调制 vvP]tRZ )PvB^n 从IFTA优化文档中显示优化的传输
GriFb]ml" Muok">#3. 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
5UvqE_ ;O {"\H6 v\R-G 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
:z2G
a s'$3bLcb
_f@nUv*
乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
ZL'krV G"U^]$(+K m{by% 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
"]B%V!@ uHPd!#] ft?c&h;At !JbWxGN`jn 数据阵列可用于存储折射率调制。
V L;<+C~ 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
[{6fyd; 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
G=&nwSL z0?IQzR^T 5.X/Y采样介质 `vD.5
QW2SFpE T]2= GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
TH*}Ja^/ 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
VVk8z6W 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
Q:j)F|uhc 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
]\*_} &e99P{\D Zo@ #pk 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
Xn%O .yM6 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
<P#:dS%r 应该选择像素化折射率调制。
^AC2 zC r?HbApV P 5?|yYQM0tK 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
B:(a?X-7 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
P9q ZjBS 5-POYug 6.通过GRIN介质传播 vAfYONU *V{Y.`\ 41I2t(H @z abg`:E 通过折射率调制层传播的传播模型:
[!U!
Z'i - 薄元近似
m=V69
a# - 分步光束传播方法。
Cps'l 对于这个案例,薄元近似足够准确。
Uac.8wQh 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
t<MO~_`! 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
63c\1]YB. L+_
JKc 7.模拟结果 #^xj"}o@ 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
!G;|~|fMV 5QZ}KNJ|t~ 8.结论 EC7)M}H q:9CFAX0= VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
*`V r P 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
K,dEa<p 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。