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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 Z@zo~*o  
    pP| @Z{7d`  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 aopPv&jY  
     设计包括两个步骤: t2d sYU/  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 :r q~5hK  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 }yT/UlU  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 |T<aWZb^=  
    [G}dPXD  
    Nc\DXc-N  
    照明光束参数 cY5&1Shb~  
    L`nW&; w'  
    !n-Sh<8  
    波长:632.8nm Hu|Tj<S  
    激光光束直径(1/e2):700um
    _.s ,gX  
    AG,><UP  
    理想输出场参数 ^#R`Uptib  
    6e ?xu8|  
    Ey=2 zo^F  
    直径:1° \IL)~5d  
    分辨率:≤0.03° : @|Rj_S;  
    效率:>70% eo]nkyYDP  
    杂散光:<20% KrGl}|  
    |m's)  
    &~_F2]oM  
    2.设计相位函数 5;)^o3X>  
    :E")Zw&sW3  
    @aS)=|Ls\  
    }g+kU1y  
     相位的设计请参考会话编辑器 .YF1H<gwa  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 $ar^U  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 HyzSHI  
    |ke0G  
    3.计算GRIN扩散器 %+'Ex]B  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 QM(xMq  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 T_*inPf  
     最大层厚度如下: D\Ez~.H  
    >w.;A%|N  
    4.计算折射率调制 0qN`-0Yk  
    "l&SRX?g  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 # xO PF9  
    Jr5S8 c|"  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 m1W) PUy  
    cW*v))@2  
    V?EX`2S  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 a"@f< wU~  
    daSe0:daJ  
    gAqK/9;  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 O:0{vu9AQ  
    Ek<Qz5)  
    PMsb"=Ds  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 $`lWW6>P  
    a_Xwi:e<  
    GFFwk4n1  
    }#s{."  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 6w<rSUd'  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 :)lS9<Y}  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 [63\2{_^v  
    EV( F!&  
    5.X/Y采样介质 uX-^ 9t  
    =][ )|n  
    KJ+6Y9b1  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟  T7nI/y  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 [!)HWgx  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 L-(bw3Yr>  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    zTc;-,  
    !; >s.]  
    Z]B v  
    lrJV"H  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 [RXLR#  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 >N#Nz 0|(  
     应该选择像素化折射率调制。 nT?+^Ruc  
    8y27O  
    #QFz /6  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 e:HORc~U  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 vb^fx$V  
    OB.rETg  
    6.通过GRIN介质传播 *+rfRH]a  
    E_~e/y"-  
    bD{tsxm[9  
    ;B@#,6t/  
     通过折射率调制层传播的传播模型: _&]7  
    - 薄元近似 :fj>JF\[  
    - 分步光束传播方法。 2-@)'6"n  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 2|j=^  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 ^'=[+  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 ^N^G?{EV/#  
    ?1L<VL=b  
    7.模拟结果 ^mL X}E]  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    X{x(p  
    8=$XhC  
    8.结论 \0 ~?i6o  
    ZP~H!  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 HN7tIz@Frc  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 QqQhQGV  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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