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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 9R99,um$  
    u,JUMH]@  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 +ctJV>  
     设计包括两个步骤: X }Fqif4A  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 4l@aga  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 yJ*g ;  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 &HtG&RvQf  
     tPChVnB  
    42=/$V  
    照明光束参数 vu~7Z;y(<j  
    _Jn@+NoO  
    ss4YeZa  
    波长:632.8nm \u*[mrX_B:  
    激光光束直径(1/e2):700um
    kZ'wXtBYe  
    $msf~M*  
    理想输出场参数 scPvuHzl  
    GI%9Tif  
    h* V~.H  
    直径:1° wPvYnhr|G-  
    分辨率:≤0.03° xTy)qN]P  
    效率:>70% -/R?D1kOq  
    杂散光:<20% )v %tyU  
    7 b 8pWM  
    I+rLKGZC  
    2.设计相位函数 /%AA\`: 6  
    }1|FES  
    jZ0/@zOf  
    &%4A3.qE  
     相位的设计请参考会话编辑器 m0N{%Mf-  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 [bjP-pX  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 l%# z  
    {-51rAyi  
    3.计算GRIN扩散器 K1t>5zm  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 X<d`!,bn@  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 ^TT_B AI  
     最大层厚度如下: g2 tM!IRQ  
    ?>q5Abp[  
    4.计算折射率调制 vvP]tRZ  
    )Pv B^n  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 GriFb]ml"  
    Muok">#3.  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 5UvqE_  
    ;O {"\H6  
    v\R-G  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 :z2G a  
    s'$3bLcb  
    _f@nUv*  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 Z L'krV  
    G"U^ ]$(+K  
    m{by%  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 "]B%V!@  
    uHPd!# ]  
    ft?c&h;At  
    !JbWxGN`jn  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 V L;<+C~  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 [{6fyd;  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 G=&nwSL  
    z0?IQzR^T  
    5.X/Y采样介质 `vD.5  
    QW2SFpE  
    T]2=  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 TH*}Ja^/  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 VVk8z6 W  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 Q: j)F|uhc  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    ]\*_}  
    &e99P{\D  
    Zo@  
    #pk  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 Xn%O .yM6  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 <P#:dS%r  
     应该选择像素化折射率调制。 ^AC2  zC  
    r?HbApV P  
    5?|yYQM0tK  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 B:(a?X-7  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 P9 qZjBS  
    5-POY ug  
    6.通过GRIN介质传播 vAfYONU  
    *V{Y.`\  
    41I2t(H @z  
    abg` : E  
     通过折射率调制层传播的传播模型: [!U! Z'i  
    - 薄元近似 m=V69 a#  
    - 分步光束传播方法。 Cps' l  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 Uac.8wQh  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 t<MO~_`!  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 63c\1]YB.  
    L+_ JKc  
    7.模拟结果 #^xj"}o@  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    !G;|~|fMV  
    5QZ}KNJ|t~  
    8.结论 EC7)M}H  
    q:9CFAX0=  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 *`V r P  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 K,dEa<p  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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