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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 SQx):L)P6  
    q;JQs:U!  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 >fQN"(tf  
     设计包括两个步骤: $ 7!GA9Bn  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 mYX) =B{  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 c5pG?jr+d  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 (5 hu W7v  
    u>#'Y+7  
    (1vS)v $L  
    照明光束参数 sJ=B:3jS0  
    wl9icrR>  
     `SrVMb(  
    波长:632.8nm WH*&MIjAr/  
    激光光束直径(1/e2):700um
    2T5ZbXc+x  
    9m4|1)  
    理想输出场参数 /.bwwj_;  
    L4%LE/t|e  
    ^lj>v}4fkW  
    直径:1° cB^lSmu5  
    分辨率:≤0.03° ^` THV  
    效率:>70% *1Q?~  
    杂散光:<20% Vo()J4L  
    va<pHSX&I@  
    =j-{Mxb3  
    2.设计相位函数 .+sIjd  
    $-73}[UA 4  
    g;T`~  
    ML-g"wv  
     相位的设计请参考会话编辑器 >E3OYa?G  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 (B5G?cB9  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 Vv]mME@  
    |n;7fqK  
    3.计算GRIN扩散器 A:(uK>5{Kk  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 d|3[MnU[a  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 #q%/~-Uk  
     最大层厚度如下: NT'Yh  
    l]gf T&  
    4.计算折射率调制 E:AXnnGKO  
    X@rAe37h+  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 lKcnM3n  
    XT)@)c7j  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 %o>1$f]  
    e!#:h4I  
    wB@A?&UY  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 u}$3.]-.?T  
    %|Vq"MW,I  
    XQ>m8K?\d  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 n7vi@^lf(  
    uP:'e8  
    gueCP+a_  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 pB`<4+"9  
    Zr3KzY9  
    ZC"p^~U_e[  
    H`sV\'`!}  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 qmhHHFjQ  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 \TjsXy=:)  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 "Z <1Msz  
    3~ylBJJ  
    5.X/Y采样介质 hz!.|U@,{<  
    0t8-oui  
    [||$1u\%  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 *=rl<?tX  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 {>#Ya;E  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 -4.+&'  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    $P$OWp?b  
    t5S S]  
    ~O!v?2it8q  
    *5^h>Vk/  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 ]'Bz%[C)  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 M%m$ 5[;n  
     应该选择像素化折射率调制。 k 2~j:&p  
    iVE+c"c!2&  
    +NQw ^!0qy  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 rR xqV?>n!  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 ,xGkE7=5  
    ?(Nls.c  
    6.通过GRIN介质传播 /)N[tv2  
    >5\rU[H>  
    r!+)U#8  
    b?z8Yp6  
     通过折射率调制层传播的传播模型: 8D-g%Aj-  
    - 薄元近似 E8/P D  
    - 分步光束传播方法。 {B 34^H:  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 =4G9ev 4  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 \%UA6uj  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 "~tEmMz  
    /p~gm\5Z  
    7.模拟结果 *x$\5;A  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    P:=3;d{v  
    I%|W O*x  
    8.结论 }2}hH0R  
    h/d&P  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 J*.qiUAgW  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 D+tn<\LF  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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