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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 E8.xmTq  
    = g)G!  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 Z'sO9Sg8>  
     设计包括两个步骤: y:+s*x6Vg  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 ~_Mz05J-\_  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 2i~qihx5^  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 g"Z X1X  
    R9z^=QKcH  
    f~D> *<L4-  
    照明光束参数 pJ1Q~tI  
    U)N_/  
    NCM&6<_  
    波长:632.8nm +t XOP|X  
    激光光束直径(1/e2):700um
    b(~ gQM  
    1$Pn;jg:  
    理想输出场参数 D%Y{(l+X  
    jHx<}<  
    W}5H'D  
    直径:1° qm)KO 4  
    分辨率:≤0.03° ,\K1cW~U5  
    效率:>70% IlcFW  
    杂散光:<20% b]h]h1~hHH  
    k(;c<Z{?1  
    ~xg1mS9d  
    2.设计相位函数 Y Hv85y  
    oGLSk (T&I  
    \ns#l@B  
    I!;#Nk>  
     相位的设计请参考会话编辑器 e1RtoNF^  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 %8V/QimHU  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。  -'|pt,)  
    THmX=K4=?  
    3.计算GRIN扩散器 4JHFn [%  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 ~4mgYzOmD`  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 4{\h53j$  
     最大层厚度如下: Tdr^~dcQ  
    M9@#W"  
    4.计算折射率调制 F=hfbCF5x  
    gi7As$+E  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 I^{PnrB  
    G'z&U?Ng  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 j]"Yz t~u  
    <L__;j1Wx  
    .Wq`q F(;  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 WbS2w @8  
    wo[W1?|s  
    BV&}(9z  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 <)]B$~(a  
    By@<N [I@  
    F^=|NlU&%  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 >29eu^~nh  
    T!hU37g h?  
    h@z(yB j:0  
    |Js96>B:  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 4.3Bz1p&#  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 nFlj`k<]Y  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 I@ch 5vl4  
    =ot`V; Q>  
    5.X/Y采样介质 flLC\   
    n\ma5"n0=\  
    ?|:!PF*L~z  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 XQk9 U  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 C/[2?[  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 ~"5WQK`@  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    `ge{KB;*n#  
    'W$jHs  
    WW;S  
    Ah &D5,3  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 6yF4%Sz9  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 7fl'nCo\"  
     应该选择像素化折射率调制。 / GJ"##<  
    ?/{ qRz'C<  
    A{;b^ IK  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 /wCeeG,<  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 /PIU@$DV  
    jjz<V(Sk  
    6.通过GRIN介质传播 g B<p  
    B\}E v&  
    8\y%J!b  
    m7e$ Z  
     通过折射率调制层传播的传播模型: gW6lMyiLb  
    - 薄元近似 d?&?$qf[  
    - 分步光束传播方法。 U;6~]0^K  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 Vk$zA<sw"  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 c?eV8h1G  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 "F|OJ@ M  
    *Yvfp{B  
    7.模拟结果 X<(h)&E  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    '8k\a{t_z  
    r,MgIv(L  
    8.结论 Tc\^=e^N?  
    ?i(Tc!  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 q`}Q[Li  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 2X)E3V/*  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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