1.模拟任务 _LPHPj^Pg (?c-iKGc 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
2?5>o!C 设计包括两个步骤:
E3i4=!Y - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
eJSxn1GW - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
_^;Z~/. 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
FtZ?C@1/ T|p"0b A ""H?gsL[ 照明光束参数 WM{=CD ^_6|X]tz1T g*Phv|kI 波长:632.8nm
rZF*q2? 激光光束直径(1/e2):700um
;r8X.>P* `gJ(0#ac 理想输出场参数 ;,TFr}p` 7"##]m. nEfK53i_ 直径:1°
GmG5[?) 分辨率:≤0.03°
%*U'@r(A 效率:>70%
]yu:i-SfP 杂散光:<20%
>Q/Dk7 # XkqCZHYkS ;*N5Y}?j' 2.设计相位函数 :Al!1BJQ @,}UWU Bwrx *J =vPj%oLp'a 相位的设计请参考会话编辑器
So;<6~ Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
XG?8s
& 设计没有离散相位级的phase-only传输。
GVz6-T~\> ibw;}^m( 3.计算GRIN扩散器 )1z@ GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
q| 7( 最大折射率调制为△n=+0.05。
LscGTs, 最大层厚度如下:
S@Y39 edD)TpmE, 4.计算折射率调制 7,MR*TO, 9^x> 3Bo 从IFTA优化文档中显示优化的传输
:DNjhZ vIvIfE 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
k!^{eOM =%7-ZH9 [K Qi.u 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
C^){.UGmJ o4;(Zi#Z
~~.}ah/_d 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
b$7 +;I; ~,Qp^"rlW Ni>[D"| 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
NHt\
U9l' 5(2;|I,T h;Qk@F 7=uj2.J6 数据阵列可用于存储折射率调制。
N mG# 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
q)GdD== 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
m~|40) [UR-I0 s!/ 5.X/Y采样介质 l] vm=7:
)+^+sd W)/#0*7 GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
YUb_y^B^ 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
CITc2v3a 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
iscz}E,Y 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
TC('H[
] ]GS bjHsO V9vTsmo( $qiya[&G4 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
Sz~OX6L 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
# _1`)VS 应该选择像素化折射率调制。
~u{uZ(~ OI*H,Z" hp2t"t 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
3$tdwe$S 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
v19-./H^
j W^Yxny 6.通过GRIN介质传播 7$b1<.WX #E?4E1bnB H}!r|nG #WuBL_nZ~ 通过折射率调制层传播的传播模型:
29rX%09T] - 薄元近似
pmM9,6P4@ - 分步光束传播方法。
>z03{=sAN 对于这个案例,薄元近似足够准确。
\bF{-" 7. 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
w
xH7?tsf 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
5R-6ji RN1_S 7.模拟结果 dG{A~Z z 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
:h$$J
lP IPk4
;, 8.结论 )4OxY[2J ixFi{_ VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
+0&/g&a\R 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
`A >@]d 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。