切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • ZEMAX光学系统设计实战 光学元件微纳制造与精密检测技术 成像衍射光学元件设计及应用 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 61阅读
    • 1回复

    [求助]H4冲氧不稳，应该怎么排除？ [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线bilong
    技术员
     
    发帖
    182
    光币
    77
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 09-16
    我们有台镀膜机H4电子枪充氧量用的压控，设计充到1.0-2，但每一锅都不太稳定，有时候充到7.5-3，有时候充到8.3-3，也有能充到1.0-2的，H4是手动熔的，一般就镀普通AR,导致分光变来变去，稳定不住 ，请教大佬们，这种情况是药里面杂质多还是压控控制系统有问题？应该怎么排除？
     
    回复
    举报
    分享到
    在线renlgj
    技术员
    发帖
    193
    光币
    62
    光券
    0
    只看该作者 1楼 发表于: 09-16
    坐等分析
    回复
    举报
    发帖 回复
    返回列表