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摘要 5LT{]&`9 &x}a 光栅结构广泛用于光谱仪、近眼显示系统等多种应用。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态方法(FMM)以简易的方式提供对任意光栅结构的严格分析。在光栅工具箱中,可以通过使用堆栈内的各种接口或/和介质来配置光栅结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面是人性化的,并且可用于生成更复杂的光栅结构。 本用例中,介绍了基于界面的光栅结构的配置具体操作流程。 PMDx5-{A/t 0;*1g47\ t%<@k)hd~G R7/"ye:7J 本用例展示了...... DP rFB y •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构,例如: cU,]^/0Y - 矩形光栅界面 3NEbCILF - 过渡点列表界面 B2QC#R - 锯齿光栅界面 $'SWH+G - 正弦光栅界面 kIHfLwh9N
•如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。 T.1*32cX p Rt=5WZ 光栅工具箱初始化 .t/XW++ •初始化 L*2YAIG - 开始 <2cl1Fb 光栅 we<m%pf 通用光栅光路图 mL!)(Bb •注意:使用特殊类型的光栅,例如: 矩形形状, 'USol< 可直接选择特定的光路图。 3SRz14/W_R 29]T:I1d[ l;4},N ,tdV-9N[O 光栅结构设置 n'<FH<x •首先,必须定义基板(基块“Base Block”)的厚度和材料。 <&n\)R4C1 Vb0((c%& •在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈(stack)中定义。 eq0&8/= •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。 ;~&F}!pQ uG1)cm
B} D^(Nijl9U }L.xt88 •例如,选择第一个界面上的堆栈。 B~/:["zTh& beLT4~Z= 堆栈编辑器 MHs2UN
•在堆栈编辑器(Stack Editor)中,可以从目录中添加或插入界面。 dgLE/r? •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。 S4/CL4= HZp}<7NR(7 2}Ga aCu 8
D! 矩形光栅界面 K{eq'F5M Ga5O&`h •一种可能的界面是矩形光栅界面。 IMaa#8, •此类界面适用于简单二元结构的配置。 <cQ)*~hN •在此示例中,由银制成的光栅位于玻璃基板上。 0n5{Wr$ •为此,增加了一个平面界面,以便将光栅结构与基块分开。 :'*;>P
.( •在堆栈编辑器的视图中,根据折射率(黑暗表示更高),其他颜色表示不同的材料。 f(Vr &X /%E X4
W sW'SR -O.q$D=as 矩形光栅界面 idWYpU>gC •请注意:界面的顺序始终从基板表面开始计算。 {+CW_ce •所选界面在视图中以红色突出显示。 Eiqx1ZM 5Jo><P a •此外,此处无法定义光栅前方的介质(指最后一个接界面后面的介质)。 它自动取自光栅元件前面的材料。 oPSucz&s •可以在光路编辑器(Light Path Editor)中更改此材质。 HAq 'CE3
|x\%K •堆栈周期(Stack Period)允许控制整个配置的周期。 f+#^Lngo •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。 ElJM.
a •如果是简单的光栅结构,建议选择“取决于界面周期”(Dependent from Period of Interface)选项,并选择适当的周期性界面索引。 C&Nga
`J 2g>4fZ LxWnPi ^ V)[ta`9 :~K c"Pg F` /mcyf 矩形光栅界面参数 3v~804kWB •矩形光栅界面由以下参数定义 blbL49; - 狭缝宽度(绝对或相对) BCH{0w^D - 光栅周期 u4
##*m - 调制深度 YNEPu:5J •可以选择设置横向移位和旋转。 JQ-O=8] 99GzhX_ T(Q(7 mmE!!J`B 高级选项和信息 Q-scL>IkCb •在传播菜单中,有几个高级选项可用。 T8nOb9Nrj •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。 (XF"ckma •可以设置总级次数或衰逝波级次数 A .]o&S} (evanescent orders)。 1}O&q6\"J •如果考虑金属光栅,这项功能非常实用。 xa7~{ E, •相反,在介质光栅的情况下,默认设置就足够了。 k!9LJ%Xh rA<>k/a
'@~\(SH ;,d^=:S6@ •高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。 +4 8a..4sN •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。 1N8:,bpsT •此外,有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。 "])yV
•分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。 $~$NQe!/ 7w}PYp1Z'~ T7F )'Mx<
=6PTT$, 过渡点列表界面 58TH|Rj+I •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。 0rnne
L •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。 yeI((2L@E2 •同样,平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。 33O O%rWi ssf.ef$ !CJh6X! 过渡点列表参数 S6Er#)k •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。 @m#1[n; •上限(Upper Limit)必须设置为大于所需光栅周期一半的值,但在周期性结构的情况下自动设置。 E5>y?N qFqK.u puv/+!q W~EDLL Z •必须在周期化(Periodization)选项卡中设置此界面的周期。 \J]qd4tF •此处,可以定义x方向和y方向的周期。 17hFwo` •在这种情况下,可以忽略内部和外部定义区域的设置,因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。 _'CYS3-P3 8eAc 5by #CRAQ#:45( (z8^^j[ 高级选项及信息 =Gl6~lJ{_ •同样,可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。 Cf~H9 Bu%TTbnz_G ]]R!MnU:$ \Z?.Po`!j 正弦光栅界面 G7|CwzMg •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。 Mk:k0,z •此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。 >q+q];=( •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: ")gd)_FOS - 脊的材料:基板的材料 n ]K`ofjl^ - 凹槽材料:光栅前面的材料 ZxvqLu E%+ aqA)f $e99[y@ JDa=+\_ 正弦光栅界面参数 { \r1A - 正弦光栅界面也由以下参数定义: l(o;O.dLt •光栅周期 GnCO{"n •调制深度 8 !{;yz - 可以选择设置横向移位和旋转。
!623; - 由于这是光栅界面(类似于矩形和锯齿借口),因此不必选择周期。 P&6hk6# 1u%e7 :!fP~(R'm equ|v~@y 高级选项和信息 dg(fD>+ •同样,可以在高级设置选项卡中调整和研究分解结构的数据。 "OdR"M(G\ 2r0u[ Y{Yp N ~qjnV 高级选项及信息 Ts~MkO •如果增加层数(例如,增加2倍),则离散化变得光滑。 {6/Yu:; +nLsiC{& ?E6*Ef 锯齿光栅界面 6+Y^A})(F- •另一种可用于光栅配置的界面是锯齿光栅界面。 WNE=|z#| •此界面允许配置闪耀结构的光栅。 Q5!"tF p •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: 0EA<ip - 脊的材料:基板的材料 RD$"ft]Vc - 凹槽材料:光栅前面的材料 ^")SU(` j/C.='?% >$%rs c}^ Msk^H7 锯齿光栅界面参数 .b3cn •锯齿光栅界面也由以下参数定义: e>GX]tK - 光栅周期 dx<KZR$!V - 调制深度 )q+Qtz6D •此外,闪耀的方向可以是通过设定倾斜度进行调整。 f0<'IgN •可以选择设置横向移位和旋转。
Z>O2 •由于这是光栅界面(类似矩形和正弦型),因此不必选择周期。 F74^HQ*J `.0WK SccaX
P s}O9[_v 高级选项和信息 [r)Hm/_=|U •同样,可以在高级设置中调整和研究分解结构的数据。 qMHI-h_A IM^K]$q$47 探测器位置的注释 DGQGV[9%4C 关于探测器位置的注释 ]V `L\ •在VirtualLab中,探测器默认位于基板后面的空气中。 LKEf#mp •如果光栅包含在复杂的光学装置中,则必须这样做。 fD1a)Az •但是,完美的平面和平行基板可能会产生一些干涉效应,而实际情况并非如此。 byyzXRO; •因此,为了计算光栅效率,应将探测器设置在基板材料内(同样适用于大多数光栅评估软件)。 O6P{+xj$ •可以避免这些干涉效应的不良影响。 `Dn"<-9: &idPO{G
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