IR#BSfBZ 1. 建模任务 4c[/%e:\- 1.1
模拟条件
$x,EPRNs 模拟区域:0~10
\>G}DGz
边界条件:Periodic
9Q!Z9n"8~) 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
\BN$WV 单位长度:0.5
dMCoN8W
kdp^{zW} k1ja ([Q 1.2堆栈
结构 aO S,%J^? y#th&YC_b 2. 建模过程 n oM=8C&U 2.1设置模拟条件
E@yo/S
PG}Roj
I b`@C #qB 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 T]nAz<l), r)OiiD" <XQwu*_\ 2.3创建掩膜并生成多畴结构
W6_ rSVm jU* D 3. 结果分析 DR,7rT{$ 3.1 指向矢分布和透过率
{f@Q&(g IN.g O6vxp?:^ 3.2所有畴的V-T曲线
P|Gwt& >]_^iD]*t L`X5\D'X 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
Ie|5,qw
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