4<Y?#bm' 1. 建模任务 fI|1@e1 1.1
模拟条件
#n7{ 3) 模拟区域:0~10
[n"<(~ 边界条件:Periodic
+W1rm$Q 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
,rdM{ r 单位长度:0.5
OG+ $F
|eqDT,4 D5p22WY 1.2堆栈
结构 4jW{IGW nr^p H. 2. 建模过程 r__M1
!3 2.1设置模拟条件
40E[cGz$*
E$wB bm ?xet:#R' 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 hMQaT-v 6uyf !jbjrzv9 2.3创建掩膜并生成多畴结构
>gE_?%a[ 9s)oC$\ 3. 结果分析 V_pBM 3.1 指向矢分布和透过率
'zb7:[[7% i&$uG[&P h]#)41y< 3.2所有畴的V-T曲线
P33E\O vn<S" C0%%@
2+ 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
]@>|y2