[+dCA 1. 建模任务 |kPgXq6 1.1
模拟条件
%Tp
k1 模拟区域:0~10
v.Bwg7R3 边界条件:Periodic
"gM!/<~ 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
-^CW}IM{ I 单位长度:0.5
<1*.:CL"s
V=8db%^ B+Qf?1f 1.2堆栈
结构 K
$- * 63=&??4 2. 建模过程 N'ER!=l) 2.1设置模拟条件
6LCtWX
9m$"B*&6G
?5nEmG|kO 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 q=5aHH% | 5tbCx!tL aj;x:UqpJ 2.3创建掩膜并生成多畴结构
q<q IT D r(0w{5 3. 结果分析 e3SnC:OWf 3.1 指向矢分布和透过率
XYWyxx5` lOVcXAe} qSr]d`7@ 3.2所有畴的V-T曲线
@rbd`7$% q x)\{By /e>%yq<9B 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
Q/]~`S