K.z}%a 1. 建模任务 aYj3a;EmU 1.1
模拟条件
WejY
b;KS 模拟区域:0~10
,XA;S5FE 边界条件:Periodic
#Y18z5vo 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
~!A,I 9 单位长度:0.5
Pucf0 # iqoPD4A 6U/wFT!7$ 1.2堆栈
结构 D9LwYftZ XPEjMm'*b3 2. 建模过程 iuHG9 #n 2.1设置模拟条件
<aHK{*'3 s{q2C}=$?D kcYR:;y 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 g{J3Ba 8Peqm?{5Y5 _>`0!mG 2.3创建掩膜并生成多畴结构
hsE!3[[ -%N (X8 3. 结果分析 ~b7Nzzfo 3.1 指向矢分布和透过率
gR( c; z H \*v' NfO0^^" 3.2所有畴的V-T曲线
m|7g{vHVV WWO jyj q/3}8BJ 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
^Ue.9#9T&g