[KcF0%a 1. 建模任务 LI~ofCp 1.1
模拟条件
WNnB
s 模拟区域:0~10
\:mZ)f3K= 边界条件:Periodic
t/$:g9V%FA 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
&0`[R*S 单位长度:0.5
u=QG%O#B
MA`.&MA. (J6>]MZ#) 1.2堆栈
结构 (/i?Fd w. c]
2. 建模过程 $eu-8E' 2.1设置模拟条件
w;p~|!
L,\wB7t (5/>arDn 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 CT0 ~ 9aoGptgN /^pPT6 2.3创建掩膜并生成多畴结构
<=Z`]8 7=@3cw
H 3. 结果分析 NsN =0ff 3.1 指向矢分布和透过率
V48o+ O _&R lR f&2f8@ 3.2所有畴的V-T曲线
)|N_Q} zDohp 5, e.'6q
($3 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
7 (kC|q\4M