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摘要 _2nx^E(pd ASfaX:ke 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 J$!iq|
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xvy.=( 建模任务 q]M0md -gWZwW/lD  '7@R7w!E4H 概述 k'"%.7 $U! 7yba04D) •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。
^I)N. 5 •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 63A.@mL mQ=#nk$~g
 * H9 8 Du `p7=t)5k 光线追迹仿真 3 9|MX21k )Beiu* •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 u4_9)P`]0 •单击go！ yA>n li= •获得了3D光线追迹结果。 -GgA&dh (M
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 T5:G$-qL( 5^KWCS 7@ 光线追迹仿真 T n}s*<=V +H
Usz ? •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 Y#3c }qb •单击go！ pBPl6%C.X- •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 +KEWP\r 2dzrRH
 /OJ`c`>Q: nQ L@hc 场追迹仿真 D ) 'bH5 $a %MOKr •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 {u9}b x'< •单击go！ 65m"J' N"y)Oc a{  gGS=cdlV
k: ;WtBC6j 场追迹仿真（相机探测器） pO.2< Zsh9>]M L •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 I)W`sBL •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 TNr : pE< Uv~QUL3>
 _\HQvH :Xd<74Nu 场追迹仿真（电磁场探测器） TvQo? •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 IyPnp&_ >6pf$0  K!]/(V(}
Q ?/o%`N 场追迹仿真（电磁场探测器） ,-e {(L
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<=Xf •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 CWP2 { :<#nTh_@\'
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