+4<Ij/}p u 3&9R)J1 内容简介 Z_Tu*
F Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
'q+CL&D 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
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薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
PjL"7^Q& 讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
LP_w6fjT K0681_bp 目录 9?4EM^- Preface 1
8KQD
w: 内容简介 2
}jF67c-> 目录 i
^cQTRO| 1 引言 1
|$Y0VC4a 2 光学薄膜基础 2
"RZVv~BD 2.1 一般规则 2
'IR2H{Q 2.2 正交入射规则 3
N~<H` 2.3 斜入射规则 6
_FG?zE 2.4 精确计算 7
FH"u9ygF 2.5 相干性 8
irg%n 2.6 参考文献 10
zkFx2(Hq-f 3 Essential Macleod的快速预览 10
'"#W!p 4 Essential Macleod的特点 32
dd $}FlT 4.1 容量和局限性 33
xPuuG{Sm 4.2 程序在哪里? 33
})zYo 7 4.3 数据文件 35
GqYE=Q 4.4 设计规则 35
)FF3|dZ";K 4.5 材料数据库和
资料库 37
X-xN<S q 4.5.1材料损失 38
3B{B6w}t& 4.5.1材料数据库和导入材料 39
`%PU_;Y5Q 4.5.2 材料库 41
3_AVJv
;N 4.5.3导出材料数据 43
+:JyXFu 4.6 常用单位 43
h[%t7qo= 4.7 插值和外推法 46
;@I4[4ph} 4.8 材料数据的平滑 50
I2U/\ 4.9 更多光学常数模型 54
9DAk|K 4.10 文档的一般编辑规则 55
y'5
y 4.11 撤销和重做 56
_{d0Nm 4.12 设计文档 57
y.pwj~s 4.10.1 公式 58
Klw\ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
GIo7-
6kvm 4.10.3 沉积密度 59
,5tW|=0@ 4.10.4 平行和楔形介质 60
,-55*Rb i 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
H<gC{:S 4.10.4 性能 61
Rn"Raq7Cn* 4.10.5 保存设计和性能 64
8IX:XDEQ 4.10.6 默认设计 64
DH3.4EUWS 4.11 图表 64
/FP;Hsw% 4.11.1 合并曲线图 67
dI[hQxU 4.11.2 自适应绘制 68
yA74Rxl*6 4.11.3 动态绘图 68
{
S]"-x 4.11.4 3D绘图 69
9e`.H0 4.12 导入和导出 73
Oa8lrP`( 4.12.1 剪贴板 73
\(S69@f 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
mBp3_E.t 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
|U~m8e&: 4.13 背景 77
!uoQLiH+ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
|oYqkP| 4.15 生成Rugate 84
e@Cv')]B 4.16 参考文献 91
_8-iO.T+2 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
R:Pw@ 5.1 Jobs 92
Y?1
3_~
K 5.2 创建一个新Job(工作) 93
^rHG#^hA 5.3 输入材料 94
,wyfMOGLt 5.4 设计数据文件夹 95
1c$<z~
5.5 默认设计 95
Q9Y$x{R& 6 细化和合成 97
IvW%n(a8^ 6.1 优化介绍 97
eU[f6OGqC 6.2 细化 (Refinement) 98
`PV+.V} 6.3 合成 (Synthesis) 100
47GL[ofY 6.4 目标和评价函数 101
sHt
PO[h 6.4.1 目标输入 102
fmDn1N-bG 6.4.2 目标 103
F(yx/W>Br_ 6.4.3 特殊的评价函数 104
xaM?
B7 6.5 层锁定和连接 104
$r>\y (W 6.6 细化技术 104
k|O?qE1hP 6.6.1 单纯形 105
E[z8;A^:0 6.6.1.1 单纯形
参数 106
O%w"bEr)N 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
"*ot:;I 6.6.2.1 Optimac参数 108
y<53xZi 6.6.3 模拟退火算法 109
t *8k3" 6.6.3.1
模拟退火参数 109
@[:JQ'R= 6.6.4 共轭梯度 111
w<m)T 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
3@d{C^\ 6.6.5 拟牛顿法 112
,b&-o?.{ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
+IRr&J*P 6.6.6 针合成 113
=LFrV9 6.6.6.1 针合成参数 114
e:h(, 6.6.7 差分进化 114
I6k S1 6.6.8非局部细化 115
R%(ww 6.6.8.1非局部细化参数 115
-<R" 6.7 我应该使用哪种技术? 116
sSh=Idrx 6.7.1 细化 116
S%+$ 6.7.2 合成 117
01/? 6.8 参考文献 117
o(2tRDT\_b 7 导纳图及其他工具 118
kLr6j-X 7.1 简介 118
7]i=eD8 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
3eq VY0q 7.2.1 四分之一
波长规则 119
;yc|=I^ 7.2.2 导纳图 120
l7.W2mg 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
@V9qbr=Z 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
Ab"mX0n 7.5 斜入射导纳图 141
OG M9e! 7.6 对称周期 141
&oA p[] 7.7 参考文献 142
CL~21aslI 8 典型的镀膜实例 143
A7/
R5p 8.1 单层抗反射薄膜 145
z_Nw%V4kr 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
qkM<t?uS 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
H-*"%SJ 8.4 W-膜层 148
uV\ _j3,2 8.5 V-膜层 149
<hYrcOt 8.6 V-膜层高折射基底 150
]>K02SVT: 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
*\UxdL 22 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
@iW^OVpp<8 8.9 四层抗反射薄膜 153
EmaVd+Sw 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
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