"'g[1Li |K?#$~ 内容简介 2,lqsd:xM Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
+\li*G]:J 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
s[8@*/ds 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
2L AYDaS 讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
h/x0]@M& MYBx&]!\ 目录 {_(\`> Preface 1
v7%X@j]ji 内容简介 2
b}T6v 目录 i
tvXW 1 引言 1
T!wo2EzE 2 光学薄膜基础 2
UgWs{y2SE. 2.1 一般规则 2
:Rs^0F8)c 2.2 正交入射规则 3
Xtwun 2.3 斜入射规则 6
%Pksv} 2.4 精确计算 7
i"|$(2 2.5 相干性 8
0y<wvLv2C 2.6 参考文献 10
{]z4k[;.h 3 Essential Macleod的快速预览 10
%/>xO3"T 4 Essential Macleod的特点 32
\4"S7.% | 4.1 容量和局限性 33
vP7K9Kx 4.2 程序在哪里? 33
e4~>G?rM_ 4.3 数据文件 35
}HE6aF62O 4.4 设计规则 35
!*2%"H* 4.5 材料数据库和
资料库 37
LZ@|9!KDw 4.5.1材料损失 38
{0! ~C=P 4.5.1材料数据库和导入材料 39
2_Wg!bq 4.5.2 材料库 41
6#j$GH * 4.5.3导出材料数据 43
0&ByEN99 4.6 常用单位 43
SI:U0gUc 4.7 插值和外推法 46
7iJ&6=/ 4.8 材料数据的平滑 50
JQ:Ri 4.9 更多光学常数模型 54
AmwWH7,g 4.10 文档的一般编辑规则 55
v/ *Y#(X 4.11 撤销和重做 56
E7Cy(LO 4.12 设计文档 57
H:p Z-v* 4.10.1 公式 58
B\g]({E 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
C"lJl k9g^ 4.10.3 沉积密度 59
XC7%vDIt 4.10.4 平行和楔形介质 60
Le"oAA#[ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
\7"@RHcihB 4.10.4 性能 61
h7s;m 4.10.5 保存设计和性能 64
aA- 4.10.6 默认设计 64
"RVcA", 4.11 图表 64
WvHw{^(lF 4.11.1 合并曲线图 67
[i0Hm)Bd3 4.11.2 自适应绘制 68
u * 4.11.3 动态绘图 68
1 nvTce 4.11.4 3D绘图 69
vzF5xp. 4.12 导入和导出 73
s:00yQ 4.12.1 剪贴板 73
smG>sEp2 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
%+ZJhHT 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
+i\&6HGK;- 4.13 背景 77
iJnU% 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
iTW? W\d 4.15 生成Rugate 84
yT{8d.Rh 4.16 参考文献 91
(;VVCAoy 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
,]}?.g 5.1 Jobs 92
E,n}HiAz7V 5.2 创建一个新Job(工作) 93
'WHHc 9rG, 5.3 输入材料 94
~.%K/=wK @ 5.4 设计数据文件夹 95
=66Nw(E. 5.5 默认设计 95
Vtppuu$ 6 细化和合成 97
gn5)SP 8 6.1 优化介绍 97
4/X/>Y1 6.2 细化 (Refinement) 98
Nr2 C@FU:0 6.3 合成 (Synthesis) 100
:V)lbn\ 6.4 目标和评价函数 101
E{HY!L[ 6.4.1 目标输入 102
]a2W e` 6.4.2 目标 103
xoB},Xl$D 6.4.3 特殊的评价函数 104
?=GXqbS" 6.5 层锁定和连接 104
5 ,0d 6.6 细化技术 104
+.RKi! 6.6.1 单纯形 105
@`FCiH M 6.6.1.1 单纯形
参数 106
3Rm#-T s 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
9;Fbnp' 6.6.2.1 Optimac参数 108
b]E|* 6.6.3 模拟退火算法 109
D71;&G]0 6.6.3.1
模拟退火参数 109
@v\*AYr'M 6.6.4 共轭梯度 111
k7tYa;C 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
T^Ab!O 6.6.5 拟牛顿法 112
,2oF:H 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
bYe;b><G 6.6.6 针合成 113
BF{w)=@/' 6.6.6.1 针合成参数 114
)hwV`2>l 6.6.7 差分进化 114
zU6a'tP 6.6.8非局部细化 115
UEak^Mm;=2 6.6.8.1非局部细化参数 115
@eqeN9e 6.7 我应该使用哪种技术? 116
{f9{8-W<u 6.7.1 细化 116
.s/fhk, 6.7.2 合成 117
@{h?+
d 6.8 参考文献 117
ch5s<x#CE 7 导纳图及其他工具 118
7z_;t9Y 7.1 简介 118
\qi|Js*{ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
L]a`"CH:a$ 7.2.1 四分之一
波长规则 119
KCe13! 7.2.2 导纳图 120
bg|!'1bD`5 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
@|yeqy_: 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
doHF|<s 7.5 斜入射导纳图 141
=Cqv= 7.6 对称周期 141
K[
.JlIP 7.7 参考文献 142
9Pd*z>s 8 典型的镀膜实例 143
EoX_KG{ 8.1 单层抗反射薄膜 145
Dc~,D1xWj 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
(Lh#`L?x 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
Z,N$A7SBE 8.4 W-膜层 148
^"8G`B$r 8.5 V-膜层 149
df+t:a 8.6 V-膜层高折射基底 150
6VD1cb\lF 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
4t4olkK3Oa 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
h72UwJ2rw 8.9 四层抗反射薄膜 153
"s
W-_j] 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
!BU)K'mj 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
_9:@Vl]Q@ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
^GN8V-X4y 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
0f ER*.F 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
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