!w:pb7+G o:lMRP~ 内容简介 $x(p:+TI\4 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
x3 01uf[ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
<ua! ]~ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
NdM \RD_R 讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
ZtX\E+mC (iY2d_FQ[ 目录 ]1|OQYG Preface 1
}}4uLGu) 内容简介 2
rh6 e 目录 i
4+F@BxpB 1 引言 1
C@9K`N[* 2 光学薄膜基础 2
D1Q]Z63, 2.1 一般规则 2
(%*~5%l\ 2.2 正交入射规则 3
O]Q8&( 2.3 斜入射规则 6
fq !CB]C 2.4 精确计算 7
*xDV8iu_ 2.5 相干性 8
:qtg `zM/4 2.6 参考文献 10
hj=k[t|g} 3 Essential Macleod的快速预览 10
<P-AlHYV- 4 Essential Macleod的特点 32
XZj3x',; 4.1 容量和局限性 33
f:ep~5] G 4.2 程序在哪里? 33
])vqXjN6" 4.3 数据文件 35
8n/[oDc] 4.4 设计规则 35
+Q+!# 4.5 材料数据库和
资料库 37
)4jS} 4.5.1材料损失 38
Q VWVZ >l 4.5.1材料数据库和导入材料 39
FES0lw{G# 4.5.2 材料库 41
{ &pBy 4.5.3导出材料数据 43
L:Me 4.6 常用单位 43
E4xybVo@ 4.7 插值和外推法 46
$QaEU="Z 4.8 材料数据的平滑 50
rz5@E 4.9 更多光学常数模型 54
A2I\T,Z 4.10 文档的一般编辑规则 55
FF#?x@N: 4.11 撤销和重做 56
z"V`8D 4.12 设计文档 57
\;!g@?CA 4.10.1 公式 58
E=qfI>2U& 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
2o~UA\:+= 4.10.3 沉积密度 59
{/!Yavx 4.10.4 平行和楔形介质 60
9oVprd>%@ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
K(_8oB784 4.10.4 性能 61
@Pf['BF" 4.10.5 保存设计和性能 64
,/UuXX 4.10.6 默认设计 64
QMwV6cA 4.11 图表 64
}\vw>iHPX@ 4.11.1 合并曲线图 67
vJ uL+'[i 4.11.2 自适应绘制 68
n/+G^:~_ 4.11.3 动态绘图 68
>%85S >e 4.11.4 3D绘图 69
Uk4G9}I 4.12 导入和导出 73
aTE;Gy,W 4.12.1 剪贴板 73
Sh 7ob2 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
NeniQeR 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
^PowL: 4.13 背景 77
3q`Uq`t4mR 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
36yIfC, 4.15 生成Rugate 84
1"U.-I@ 4.16 参考文献 91
)D
':bWP 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
gOk um_ 5.1 Jobs 92
i
[6oqZ 5.2 创建一个新Job(工作) 93
FyRr/0C> 5.3 输入材料 94
]!cLFXa 5.4 设计数据文件夹 95
'UB"z{w% 5.5 默认设计 95
I 3dUI~}u 6 细化和合成 97
u$+nl~p[& 6.1 优化介绍 97
[.>g.p,; 6.2 细化 (Refinement) 98
pY(S]i 6.3 合成 (Synthesis) 100
mlbSs_LT^ 6.4 目标和评价函数 101
[k7 ;^A5/ 6.4.1 目标输入 102
ZnD(RM 6.4.2 目标 103
u7bji>j 6.4.3 特殊的评价函数 104
\n0MqXs# 6.5 层锁定和连接 104
UsdUMt!u 6.6 细化技术 104
&p.7SPQ8/ 6.6.1 单纯形 105
4_o+gG%HaM 6.6.1.1 单纯形
参数 106
: W0;U 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
ivPX_#QI 6.6.2.1 Optimac参数 108
}1Pv6L(o) 6.6.3 模拟退火算法 109
P^'}3*8S 6.6.3.1
模拟退火参数 109
=v~$&@ 6.6.4 共轭梯度 111
n)R[T.E)+ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
{AAi x 6.6.5 拟牛顿法 112
`qa>6`\ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
2yndna- 6.6.6 针合成 113
\,yg@R 6.6.6.1 针合成参数 114
TJkWL2r0c 6.6.7 差分进化 114
pe-%`1iC0> 6.6.8非局部细化 115
fx/If 6.6.8.1非局部细化参数 115
^-7-jZ@jz 6.7 我应该使用哪种技术? 116
x!A5j
$k0 6.7.1 细化 116
eLk:">kj 6.7.2 合成 117
|=EwZmj-c 6.8 参考文献 117
B[[1= 7 导纳图及其他工具 118
'o-J)+oa 7.1 简介 118
Is}?:ET 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
qX*Xo[Xp 7.2.1 四分之一
波长规则 119
?f=7F
% 7.2.2 导纳图 120
CpC6vA.R 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
10$:^ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
_)^`+{N< 7.5 斜入射导纳图 141
kI/%|L%6D 7.6 对称周期 141
Sigu p#.p 7.7 参考文献 142
)Tad]Hd"W 8 典型的镀膜实例 143
HG[gJ7 8.1 单层抗反射薄膜 145
QjyJmW("Z 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
*jo1? 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
$
Bdxu 8.4 W-膜层 148
Owm2/ 8.5 V-膜层 149
2Q[q)u 8.6 V-膜层高折射基底 150
#5_pE1 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
a,\GOy(q{ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
d4A3DTW 8.9 四层抗反射薄膜 153
kud2O>> 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
gYfOa`k 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
|~YhN'OJ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
t}Kzh` 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
X*rB`M7, 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
x DX_s:A 8.15十五层宽带抗反射膜 159
L&qY709 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
T1fX[R ^\ 8.17 1/4波长堆栈 162
R|dSjE s 8.18 陷波滤波器 163
vmT6^G 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
Aq{7WA 8.20 褶皱 165
-.hH,zm 8.21 消偏振分光器1 169
{;?bC' 8.22 消偏振分光器2 171
StM)lVeF 8.23 消偏振立体分光器 172
T( sEk 8.24 消偏振截止滤光片 173
]=m0@JTbG 8.25 立体偏振分束器1 174
'K3%@,O 8.26 立方偏振分束器2 177
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