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C+(~9@| 内容简介 $)RNKMZC}A Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
{@tv>!WW 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
[k6nW:C 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
l-ct?T_@ 讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
hRty [ .G+Pe'4a 目录 AwslWkd= Preface 1
>2,Gy-&"0 内容简介 2
'bo~%WA]n 目录 i
pek%08VSEU 1 引言 1
=li | 2 光学薄膜基础 2
" )V130< 2.1 一般规则 2
Q($Z%1S 2.2 正交入射规则 3
sVJ!FC 2.3 斜入射规则 6
B<~ NS)w 2.4 精确计算 7
'UMXq~RMe 2.5 相干性 8
;_^fk&+ 2.6 参考文献 10
r8,romE$ 3 Essential Macleod的快速预览 10
J41G&$j( 4 Essential Macleod的特点 32
`67[O4$< 4.1 容量和局限性 33
;gs
^%z 4.2 程序在哪里? 33
!zPa_`P 4.3 数据文件 35
j{NNSi3 4.4 设计规则 35
xA9:*>+> 4.5 材料数据库和
资料库 37
ox%9Ph 4.5.1材料损失 38
[o.B 4.5.1材料数据库和导入材料 39
5g9; +}X; 4.5.2 材料库 41
# g_Bx 4.5.3导出材料数据 43
/w]!wM 4.6 常用单位 43
lKlU-4 4.7 插值和外推法 46
NMww>80 4.8 材料数据的平滑 50
'3<fsK= 4.9 更多光学常数模型 54
Pv<24:ao 4.10 文档的一般编辑规则 55
Ay
!G1; 4.11 撤销和重做 56
cCa|YW^j 4.12 设计文档 57
7^Ns&Q 4.10.1 公式 58
(ZY@$'' 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
^D<r 4.10.3 沉积密度 59
4E+hRKuo, 4.10.4 平行和楔形介质 60
}J7zTj~{ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
m+#iR}*1L 4.10.4 性能 61
zkO<-w 4.10.5 保存设计和性能 64
xCYE
B}o9r 4.10.6 默认设计 64
i:Zm*+Gi 4.11 图表 64
CYKr\DA 4.11.1 合并曲线图 67
%zSuK8kxV 4.11.2 自适应绘制 68
8
O 67 4.11.3 动态绘图 68
;q:jl~ 4.11.4 3D绘图 69
'w14sr% 4.12 导入和导出 73
@"o@}9=d 4.12.1 剪贴板 73
x3u4v~ "- 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
'&sE=. 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
/__PSK 4.13 背景 77
2hee./F` 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
IN,(yaC 4.15 生成Rugate 84
*bxzCI7b 4.16 参考文献 91
XEdzpkB 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
|gsE2vV 5.1 Jobs 92
=&},;VOh 5.2 创建一个新Job(工作) 93
4T?h 5.3 输入材料 94
tOOchu?= 5.4 设计数据文件夹 95
aDehqP6vf 5.5 默认设计 95
yB3; 6 细化和合成 97
NHl|x4Zpw 6.1 优化介绍 97
A.D{.a 6.2 细化 (Refinement) 98
lt_']QqU 6.3 合成 (Synthesis) 100
1Jj Y! 6.4 目标和评价函数 101
jZ%TJ0(H 6.4.1 目标输入 102
YG8>czC 6.4.2 目标 103
iR\Hv'| 6.4.3 特殊的评价函数 104
[2dn\z28 6.5 层锁定和连接 104
e{KByFl 6.6 细化技术 104
4&HXkRs: 6.6.1 单纯形 105
W,K%c= 6.6.1.1 单纯形
参数 106
?]rPRV 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
l9Q(xuhv 6.6.2.1 Optimac参数 108
E7Ulnvd 6.6.3 模拟退火算法 109
!=y]Sv~h 6.6.3.1
模拟退火参数 109
[y0O{,lI 6.6.4 共轭梯度 111
?\#N9+{W 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
wP57Pf0 6.6.5 拟牛顿法 112
o=RM-tR`v 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
m] W5+ 6.6.6 针合成 113
i[ $0a4 6.6.6.1 针合成参数 114
>j{z> 6.6.7 差分进化 114
{>"NyY 6.6.8非局部细化 115
Uh'#izm[l 6.6.8.1非局部细化参数 115
C_ \q?> 6.7 我应该使用哪种技术? 116
"7v-`i 6.7.1 细化 116
}'OHE(s 6.7.2 合成 117
+`sv91c 6.8 参考文献 117
l?iSxqdT 7 导纳图及其他工具 118
^T.E+2=>z 7.1 简介 118
:iiw3#] 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
WsFk:h'r 7.2.1 四分之一
波长规则 119
'SYo_! 7.2.2 导纳图 120
,KJw|x4}\ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
KK,Z"){
7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
.0G6flD 7.5 斜入射导纳图 141
~Xlrvb}LP 7.6 对称周期 141
!;Jmg 7.7 参考文献 142
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