lpHz*NZ0 hp)k[|u; 内容简介 $Hbd:1%i
{ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
b<?A 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
(L7@ez 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
@E@5/N6M 讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
@F,8M YsXf+_._ 目录 p:9^46N@ Preface 1
(&t8.7O 内容简介 2
biw2f~V 目录 i
;H:+w\?8f$ 1 引言 1
~G*eJc0S: 2 光学薄膜基础 2
q'~F6$kv5 2.1 一般规则 2
S6pvbaMZ 2.2 正交入射规则 3
N
J_#;t#j 2.3 斜入射规则 6
(S4[,Sx6E 2.4 精确计算 7
Zo(p6rku 2.5 相干性 8
E3<~C(APW 2.6 参考文献 10
Fi!XaO 3 Essential Macleod的快速预览 10
o$,Dh?l 4 Essential Macleod的特点 32
4ZN&Yf` 4.1 容量和局限性 33
m? #J`?E 4.2 程序在哪里? 33
:UdH}u!Ek 4.3 数据文件 35
;]+p>p-# 4.4 设计规则 35
BavGirCp
4.5 材料数据库和
资料库 37
/i 4.5.1材料损失 38
E A8>{}Z*
4.5.1材料数据库和导入材料 39
dN)!B!*aI 4.5.2 材料库 41
FY6!)/P0I7 4.5.3导出材料数据 43
mfpL?N 4.6 常用单位 43
#O2e[ E- 4.7 插值和外推法 46
9?~K"+-SI 4.8 材料数据的平滑 50
%SSBXWP 4.9 更多光学常数模型 54
>UUT9:,plA 4.10 文档的一般编辑规则 55
&z"sT*3 4.11 撤销和重做 56
6EeK5XLf, 4.12 设计文档 57
ij/5m-{6) 4.10.1 公式 58
>u)DuZXj 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
-<GSHckD 4.10.3 沉积密度 59
@rT}V>2I 4.10.4 平行和楔形介质 60
|N/Wu9w$ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
NEG&zf 4.10.4 性能 61
n:P5m9T 4.10.5 保存设计和性能 64
o/Cu^[an 4.10.6 默认设计 64
v%%;Cp73 4.11 图表 64
.]\+JTm 4.11.1 合并曲线图 67
p0S;$dH\D 4.11.2 自适应绘制 68
'K0=FPB/@ 4.11.3 动态绘图 68
<h"*"q|9 4.11.4 3D绘图 69
DoYzTSWx 4.12 导入和导出 73
XK 09x1r 4.12.1 剪贴板 73
uI*2}Q 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
S@'yuAe*G 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
^.f`6 6/ 4.13 背景 77
;0!rq^JG 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
82bOiN15 4.15 生成Rugate 84
&InMI#0mV 4.16 参考文献 91
jdF~0#vH 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
pd1V8PZSG 5.1 Jobs 92
O)4P)KAO< 5.2 创建一个新Job(工作) 93
EhBYmc"& 5.3 输入材料 94
z2GT9 5.4 设计数据文件夹 95
4Nx]*\\ 5.5 默认设计 95
%!;6h^@ 6 细化和合成 97
t LzX L* 6.1 优化介绍 97
xN a Dzu" 6.2 细化 (Refinement) 98
[sT}hYh+ 6.3 合成 (Synthesis) 100
D\H)uV` 6.4 目标和评价函数 101
X+*"FKm S. 6.4.1 目标输入 102
uWSfr(loX 6.4.2 目标 103
lVmm`q6n9 6.4.3 特殊的评价函数 104
jcT 6.5 层锁定和连接 104
=h{jF7 6.6 细化技术 104
I>jDM 6.6.1 单纯形 105
R3dCw:\O+Z 6.6.1.1 单纯形
参数 106
3;h%mkKQ+ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
[7:(e/& 6.6.2.1 Optimac参数 108
~e)`D nJ 6.6.3 模拟退火算法 109
X~Yj#@ 6.6.3.1
模拟退火参数 109
BP7&wd 6.6.4 共轭梯度 111
4X5Tyv(Dp 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
iB:](Md'r 6.6.5 拟牛顿法 112
P}El#y#& 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
u{-J?t&` 6.6.6 针合成 113
]} +
NT 6.6.6.1 针合成参数 114
:]viLw\&g 6.6.7 差分进化 114
)^C w 6.6.8非局部细化 115
-Xw i}/OX 6.6.8.1非局部细化参数 115
;U^7]JO; 6.7 我应该使用哪种技术? 116
\Q5Jg 6.7.1 细化 116
V_SZp8 6.7.2 合成 117
j/FFxlFNL 6.8 参考文献 117
!P6\-. 7 导纳图及其他工具 118
ftqi >^i 7.1 简介 118
b\U p(] 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
j0LA 7.2.1 四分之一
波长规则 119
YMSA[hm 7.2.2 导纳图 120
{y[T3(tt 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
&D|wc4+ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
%:P&!F\? 7.5 斜入射导纳图 141
sKkk+-J4 7.6 对称周期 141
/puM3ZN 7.7 参考文献 142
{=Y.Z1E: 8 典型的镀膜实例 143
.mse.$TK.^ 8.1 单层抗反射薄膜 145
nEZoF 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
(oYM}#Q 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
},2mIit( 8.4 W-膜层 148
C>?`1d@ 8.5 V-膜层 149
Ier0F7]I 8.6 V-膜层高折射基底 150
d0`5zd@S 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
>|Hd*pg)) 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
Wa8?o~0"L 8.9 四层抗反射薄膜 153
O=HT3gp& 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
1w)#BYc=L 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
{ws:g![ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
o771q}?&` 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
0V5 RZ`. 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
qw!_/Z3[ 8.15十五层宽带抗反射膜 159
)<D(Mb2p| 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
+~6gP! 8.17 1/4波长堆栈 162
G|Du/XYh 8.18 陷波滤波器 163
?0Qm 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
&J\V
!uVo 8.20 褶皱 165
a-t}L{~ 8.21 消偏振分光器1 169
-m&