摘要 Rh#0EbE2 /HR9(j6 如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统,结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、
偏振和
衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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~7aBli= O<nJbsl_w 建模任务:专利WO2018/178626 Am=D kkP% V
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OM5"&ZIZb g7!P| 任务描述 yGl
(QLk Ezw(J[).C
z^=.05jB Zj;2> 光波导元件 *xB9~: g`~c|bx 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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">7 8`E9a 光波导结构 2Wz/s 0` Rz%
Px: M 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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5Gm,lNQ Av pjr,X+6o 光栅#1:一维倾斜周期光栅 UEmNT9V mlCw(i, 几何布局展示了2个光栅:
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aH<BqD[# •光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅
UKyOkuY:w •光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交)
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C$`z23E Ys,}L. 光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅 \eD#s "'p;Udt/Qm 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
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NikY0=i ^S!^$d* 可用
参数:
##VS%&{ •周期:400纳米
^6;n@ •z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm
@2Xw17[f35 •填充系数(非平行情况下底部或顶部):50%
T'.U?G •倾斜角度:40º
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总结—元件 lC&U9=7W )@)wcf!b 具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。
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/NFv?~</k 5]cmDk 可用参数:
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Eq •周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米)
td-2[Sy •调制深度:100nm
<)c/PI[j •填充系数:65%
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= •菱形网格的角度:30°
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9`4mvK/@ b['Jr% "O 总结——元件 B0I(/ 7 Lf _`8Ux
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@czNiWU"4; Y$SZqW0!/ 结果:系统中的光线 @8X)hpHf
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结果:
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V&82U w 3]DUUXg$ 结果:场追迹 9%aBW7@SK B-`d7c5
&Ji!*~sE d`9%:2qE VirtualLab Fusion技术 @,0W( _r+2o-ZR