摘要 (m'-1wX. S`vt\g$ dN 如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统,结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、
偏振和
衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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VEy]vr} /k/X[/WO 建模任务:专利WO2018/178626 f$FO 1B) 4^r6RS@z
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,M WOn<JCh] 任务描述 /wEl\Kx Ja~8ZrcY
QcrhgR xS UpVK 光波导元件 gM&O dT+i s=:)!M.i 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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`xx.,;S wb9(aS4 光波导结构 &wlD`0v 07Yak<+~ 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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:Fe 光栅#1:一维倾斜周期光栅 ^1~lnD~0 2pmj*Y3"8 几何布局展示了2个光栅:
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j*>Df2z •光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅
G>"n6v'^d •光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交)
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E{[Y8U1n ,y'6vW`%g9 光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅
s7n7u7$j gs!'*U) 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
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W0MgY%Qv[ / fUdb=!Z 可用
参数:
g^H,EaPl •周期:400纳米
v {r %/* •z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm
hiibPc?I •填充系数(非平行情况下底部或顶部):50%
}j2;B 8j •倾斜角度:40º
!U:&8Le >yKz8SV#
j^#p#`m UF^[?M = 总结—元件 U]}F A2 %\HE1d5; 具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。
ilQ}{p6I qCI7)L`
/&|p7 Csy$1;"A 可用参数:
zWU]4;," •周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米)
'k]~Q{K$ •调制深度:100nm
b-/QZvg •填充系数:65%
h STcL:b
•菱形网格的角度:30°
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QY4;qA qE2VUEv5Y 总结——元件 \"$P :Uv bK!h{Rr
} r(b:}DN 6)0.q|Q
@gbW: 5,p;b 结果:系统中的光线 ;<m*ASM.3 x#3*C|A
#<==7X# -5 结果:
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9tv,,I;iU "~r)_Ko 结果:场追迹 @*<0:Q|m %w[Z/
>v, si]. ?R)dxuj VirtualLab Fusion技术 >i*,6Psl[Z O6/ vFEB