摘要 6i}iAP|0 AvW:<}a, 如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统,结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、
偏振和
衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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rda# h^ 建模任务:专利WO2018/178626 <)3u6Vky9 o_~eg8
+llR204 t2)rUWg 任务描述 fZoHf\B]{ &G-!qxe
pej|!oX : 2EDjW 光波导元件 _ jsK}- \ !_Wi!Vr_ 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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I"ok&^t^} -X"p:=;j 光波导结构 3qf
Ym}d ZusEfh? 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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e7sp =I, 2%_vXo=I 光栅#1:一维倾斜周期光栅 o6uJyCO 6}FP 几何布局展示了2个光栅:
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IhVO@KJI •光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅
7Mg=b%IYs •光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交)
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:qd`zG3 bAx-"Lu 光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅 oY933i@l)P _I:/ZF5 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
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aWR}R>E Hl{S]]z 可用
参数:
.K1FKC$C •周期:400纳米
;wz^gdh; •z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm
}&wUr>= •填充系数(非平行情况下底部或顶部):50%
%H]ptH5 •倾斜角度:40º
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Bu#VMkchJ P\1L7%*lU 总结—元件 wk5s)%V Brf5dT49 具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。
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H9YW l1BtI_7p 可用参数:
t/VD31 •周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米)
: y%d •调制深度:100nm
JB<Sl4 •填充系数:65%
n*[XR`r} •菱形网格的角度:30°
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/_I]H Z2qW\E^_r 总结——元件 f4 P8Oz ;f#v0W`5
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Oo5w?+t zv0l,-o 结果:系统中的光线 _>(^tCo cW@Zd5&0S
6dabU* (^TF%(H 结果:
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o<BOYrS ?XrQ53 结果:场追迹 m% -g ~q e7Xeo +/
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