摘要 txik{' : B}+li1k 如今，大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统，结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模，包括所有效应（例如相干、
偏振和
衍射）。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力，该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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y.$Ae1a= mtmTlGp6Lc 建模任务：专利WO2018/178626 gy Ey=@L 6aKfcvf & 
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107 任务描述 HCw,bRxm 2 b
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PiN^ /#D SW}?y%~ 光波导元件 H/y,}z Y_<-.?jf 使用光波导组件，可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外，这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构，以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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Nou 光波导结构 +c$:#9$ | d7S?"JpV 使用光波导组件，可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外，这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构，以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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`|2g &Vn c 2gi 3 光栅#1:一维倾斜周期光栅 <H npI ]\y]8v5( 几何布局展示了2个光栅：
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SBI *[ •光栅1耦合器：层状（一维周期性），例如倾斜光栅
i5aY{ 3! •光栅2 EPE和输出耦合器：交叉光栅（二维周期，非正交）
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@N ]]Cf>x 6 {quO# ! 光栅#2：具有菱形轮廓的二维周期光栅 iK=QP+^VN Sc]G7_ 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
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GT<!e ]=6 X'U~g$"(+ 可用
参数：
fejC ,H4I •周期：400纳米
e/&^~ $h •z方向延伸（沿z轴的调制深度）：400nm
hd]ts. •填充系数（非平行情况下底部或顶部）：50%
1m5*M Y •倾斜角度：40º
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v-BQ>-& s *` 8JJs0g 总结—元件 d^f rKPB t3h ){jZ 具有非正交二维周期的菱形（菱形）光栅结构，通过定制接口实现。
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0U~*u DU H'JU5nE 可用参数：
f> bL
}L •周期（锥间方向）：（461.88纳米，800纳米）
r zs-c ? •调制深度：100nm
&B ]1 VZUp •填充系数：65%
}m'n1tm;
•菱形网格的角度：30°
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`2hg?(ul {xH ?b0> 总结——元件 AVm+
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On54!m 0zE@ ?. 结果：系统中的光线 <# RVA{ ^,#m y<{ 
> lf uo GGf<9!: 结果：
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*\(z"B |-)8=QDz)r 结果：场追迹 yYaoA/0 O =;jDWE 
tU5uL.( O {}$Zff VirtualLab Fusion技术 
