摘要 ]D O&x+Rb xk& NAB 如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统,结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、
偏振和
衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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vv+km + 1B 5:s,Oyj 建模任务:专利WO2018/178626 qe<Hfp/p F>*{e
Zae.MO^C! J96uyS* 任务描述 9UV9h_.x xYPxg!
H(b)aw^(% *7ZtNo[+ 光波导元件 dN< ,%}R >p0KFU 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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)n>+m|IqY( 7tRi"\[5 光波导结构 +"dv7 Jd_;@(Eg= 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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vT 光栅#1:一维倾斜周期光栅 ?F_)- lNz]HiD 几何布局展示了2个光栅:
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YHB9mZi •光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅
1Ipfw •光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交)
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`:p1&OS lq>AGw 光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅 _[t8rl ]A^4}CK^< 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
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[ *>AN7W XogVpkA 可用
参数:
s2REt$.q •周期:400纳米
=n+ \\D •z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm
XKS8K4" •填充系数(非平行情况下底部或顶部):50%
pDl3!m •倾斜角度:40º
F9a^ED0l\ $!B}$I;cd
,[e\cnq[ E=$p^s 总结—元件 iOCqE 5d3 V 1/p_)A 具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。
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nB5zNyY4 !5Sd2<N 可用参数:
G8J*Wnwu[K •周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米)
^5; `-Ky •调制深度:100nm
gE])!GMM3 •填充系数:65%
@7<uMasfp •菱形网格的角度:30°
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Iz@)!3h T.mmmT 总结——元件 ._PzYE|m2 Qk9 76
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i+{yMol1 SUM4Di7 结果:系统中的光线 t2BL(yB nNt1C
Wwujh2g"0| 7U|mu~$.! 结果:
ZJ*g))k7 ]#2Y e7+
\S~Vx!9w ACq7dLys,B 结果:场追迹 @]aOyb@ 2L?!tBw?1
tptN6Isuh D B E4& VirtualLab Fusion技术 [`RX*OH2 H<EQu|f&x