摘要 'w.}2( Efx=T$%^& 如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统,结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、
偏振和
衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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g*y/j] 99u/fk L 建模任务:专利WO2018/178626 b9 uBdo@o 3+(z_!Qh
Blk}I 6{=_718l` 任务描述 Pu;yEh c<4F4k7
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gd> 光波导元件 b7Oj<!Wo` k!3 cq) 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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Vb!O8xV4;+ \u M? S 光波导结构 n@
[ ar$*a>'? 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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{kL&Rv%' g^l RG3a 光栅#1:一维倾斜周期光栅 / t5p- uel{`T[S 几何布局展示了2个光栅:
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bd==+ •光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅
^DB{qU •光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交)
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|cd-!iJX- "=A>}q@;H 光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅 =a$Oecg? }x :f%Z5h 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
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!SxG(*u 0L#/lDNk 可用
参数:
VhEka# •周期:400纳米
y1pu R7 •z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm
57Z- •填充系数(非平行情况下底部或顶部):50%
wCCV2tk •倾斜角度:40º
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i9 A ~< 2k5/SV
X 总结—元件 vmX"+sHz$] Y)|N"f; 具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。
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<1 "+,}'x 2+Rv{% 可用参数:
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.n4TmF •周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米)
;\{`Ci\ •调制深度:100nm
c#cx>wq9 •填充系数:65%
'V&Y[7Aeq •菱形网格的角度:30°
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7cTk@Gq H/fUM 结果:系统中的光线 (u1m]WYL wvby?MhPY
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