摘要 !-t,r%CG RH.qbPjx 如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统,结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、
偏振和
衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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njc-=o fX.1=BjXi 建模任务:专利WO2018/178626 *`q?`#1&&. >UQY3C
E<jW;trt_ W,|+Dl 任务描述 rz0)S
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1- 光波导元件 35Yf,@VO j4<K0-? 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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Z5E; FGPb P6&%`$ 光波导结构 1uO2I&B !
,bQ;p3g| 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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&s(J:P$! d:kn%L6k_ 光栅#1:一维倾斜周期光栅 QgI[#d{ Q~tXT_ 几何布局展示了2个光栅:
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qVUU pCDN9*0/
,3!$mQL= •光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅
-72EXO=| •光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交)
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l>MDCqV +J|H~` 光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅 xorafL R{fJ"Q5' 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
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3 3|t5Ia LQHL4jRXU 可用
参数:
+U1
Ir5Lx •周期:400纳米
BY.k.]/ •z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm
jM&di •填充系数(非平行情况下底部或顶部):50%
l2LLM {B •倾斜角度:40º
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vjq2(I)u uN:KivVe 总结—元件 wS);KLe3 `0N7G c 具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。
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m/1FVC@* G.H8
><% 可用参数:
y-db CYMc •周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米)
v !8=B21 •调制深度:100nm
N(Ru/9!y"
•填充系数:65%
%\v8FCb •菱形网格的角度:30°
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54CJ6"q W|7|XO 总结——元件 bDM },( ts!tv6@
V6X )L>!xx RbX9PF"|+
I@MG?ZQ @QQ%09* 结果:系统中的光线 ZQ]qJDk c1"wS*u
x-m*p^} $Lr&V~ 结果:
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yf:Vhr "esuLQC 结果:场追迹 F(yR\)!C A$=ny6
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