摘要 +& B?f }gkLO
TJ/, 如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统,结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、
偏振和
衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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@ b!]Jw ^v;)6a2 建模任务:专利WO2018/178626 >9{?]x %
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iwK.*07+ pN[WYM?[ 任务描述 <l<O2 l =
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|{ N{VK -!PJHCLd 光波导元件 RsZj U!(.i1^n 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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}p~2lOI %+~\I\)1 光波导结构 fQfn7FaW_\ <8:h%%$? 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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^ }7O|Y7 光栅#1:一维倾斜周期光栅 pQiC#4b K0.aU 几何布局展示了2个光栅:
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•光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅
~[%CUc" •光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交)
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F rckA 0-Mzb{n5 光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅 {'IO m]n2wmE3n 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
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V9) / 可用
参数:
>$D!mraih •周期:400纳米
l'"nU6B& •z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm
>PA*L(Dh% •填充系数(非平行情况下底部或顶部):50%
QY;(Ny/(y •倾斜角度:40º
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roQI;gq^ a`'>VCg 总结—元件
vfkF@^D *Ypn@YpSp 具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。
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8k2*u uMQI Aapb 可用参数:
D>5)',D8xi •周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米)
HA0!>_I dC •调制深度:100nm
tc'iKJ5) •填充系数:65%
:M"+ •菱形网格的角度:30°
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;U(]#pW!t LQ~|VRRX< 总结——元件 <O+GXJ2 sx#O3*'>1
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ZN}`A7 #f#6u2nF\ 结果:系统中的光线 qraXAQ eX$KH;M
y[i}iT/~ }`w(sec:3 结果:
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51ViJdZ &n1Vv_Lb VirtualLab Fusion技术 %f;v$rsZ .f$2-5q