摘要 |~18MW 0plX"NU 如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统,结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、
偏振和
衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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'^$+G0jv "Y- WY,H 建模任务:专利WO2018/178626 5)h fI7{d @tD (<*f+
MQ0rln? 0?gHRdU" 任务描述 S QGYH (-&d0a9N
-R\dg S3 l~DIV$>,Z 光波导元件 Cz9MXb]B %k )H7nj 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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光波导结构 ~<_WYSzS (hQi { 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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;/JXn LNHi}P~ 光栅#1:一维倾斜周期光栅 8?YeaMIBB BfVh\lkH 几何布局展示了2个光栅:
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._`rh •光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅
WjM7s]ZRv •光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交)
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)58~2vR N3@[95 光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅 n9`]}bnX V'MY+# 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
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)c'E9ZuZ>d C_8_sbZ/ 可用
参数:
< *;GJ{ •周期:400纳米
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pF •z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm
rPGj+wL5- •填充系数(非平行情况下底部或顶部):50%
a_?b< •倾斜角度:40º
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PJe_qP )7o?}"I 总结—元件 @h!Z0}dX( Qr4 D 具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。
&);P|v`8 NVsaV;u
u'>94Gm} 5r~jo7 可用参数:
!jSgpIp •周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米)
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q •调制深度:100nm
@DY"~ccH •填充系数:65%
1
ptyiy •菱形网格的角度:30°
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A1,q3<<D% 5Pn.c! 总结——元件 xy"'8uRi *KY:U&*
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WN5VL 结果:系统中的光线 ljOY;WV3 fi`\e
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4"(rZWv $D !/v)3 结果:
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m6n%?8t ~"SQwE| 结果:场追迹 $8%"bR;Hu 8B?U\cfa^
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