摘要 v["_t/_ ? % A2 如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统,结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、
偏振和
衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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Hn#c3o 建模任务:专利WO2018/178626 `6;$Z)=. Kr;=4xg=
MSRk|0Mcr [HL>Lp&A? 任务描述 K\59vtga _"*s x-
1'F!C )dh`aQ%N " 光波导元件 :8HVq*itS Od:-fw 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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*u",-n %(W8WLz} 光波导结构 Rjv;[ L./c#b!{ 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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_ 光栅#1:一维倾斜周期光栅 pLys%1hg WtaOf_ 几何布局展示了2个光栅:
-GM"gkz f=u +G
w=a$]` •光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅
ST;o^\B •光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交)
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1N:~5S}s> o*ucw3s> 光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅 C"%B>e .l5-i@=W 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
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8S8UV(K0 e-[PuJ 可用
参数:
k7;i^$@c •周期:400纳米
T,rRE7 •z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm
r4DHALu#) •填充系数(非平行情况下底部或顶部):50%
VJFFH\!` •倾斜角度:40º
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'$EyVu! /&_q"y9 总结—元件 zSU,le {
0&l*@c& 具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。
,<)D3K< )9[u*|+
:FfEjNil Cl-P6NlR". 可用参数:
OK8Ho" •周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米)
".waCt6 •调制深度:100nm
WSN^iDS •填充系数:65%
s=F[.X9lp •菱形网格的角度:30°
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*|<~IQg 'bz&m( ! 总结——元件 pe2:~}WB H(P]Z~et
sQ,xTWdj QB!_z4UJ_;
.4tu{\YX gx',K1T 结果:系统中的光线 32?'jRN(ue $eG_LY 1v
:]]x^wony~ )KVr2y;RF 结果:
M\ ]'M B3@T
HLG5SS7 m'"H1~BW 结果:场追迹 D7JrGaF{ _q4O2Fx0
hf0(!C* sgGA0af VirtualLab Fusion技术 v}a{nU' 0B!(i.w