摘要 McRfEF\ PG'+vl 如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统,结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、
偏振和
衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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nrRP1`!]T 76RFu@k 建模任务:专利WO2018/178626 = ^_4u%} 2sahb#e
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7eQc14 "1>48Z-UC 任务描述 >Ef{e6 lb<D,&+
-gy@sSfvkv Eh|v>Yew 光波导元件 _Rm1-,3 ^z}$'<D9 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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q#t&\M.U _*LgpZ-2( 光波导结构 N9gbj%+ )CUB7D)= 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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2H2Yxe7? - ctu`FQ 光栅#1:一维倾斜周期光栅 Xi81?F?[ ;]sbz4? 几何布局展示了2个光栅:
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[X\~J &kD •光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅
hYEUiQ •光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交)
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~mK|~x01@
ZBl!7_[_ 光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅 j55;E
E! xty)*$C> 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
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E7>D:BQ\2 /O&{fo 可用
参数:
k{-#2Qz •周期:400纳米
\9`76*X6
c •z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm
s2t9+ZA+s •填充系数(非平行情况下底部或顶部):50%
fsz:A"0H •倾斜角度:40º
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Aw b_rHt
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?$Jj^/luD $hq'9}ASOL 总结—元件 b[os0D95 rs+
["h 具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。
~"}o^#@DwJ c-q=Ct
m)Sdogt_ y,cz;2 可用参数:
_fE$KaP •周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米)
r0(* ]K:. •调制深度:100nm
W~qVZ(G*U •填充系数:65%
Ic')L*i7O •菱形网格的角度:30°
l7vxTj@(- Z|6,*XEc
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m. lXOT>$qR< 总结——元件 x_$`#m{hL5 1yV+~)by3
g=L80$1
GW\66$|
z6x`O-\ ViYfK7Z 结果:系统中的光线 !@4 i:,p@ "^NsbA+
jHQnD]Hr fe8}2#<o 结果:
i.Z iLDs\7 y ]D[JX[
7-A/2/G< Wf:LYL 结果:场追迹 iph}!3f (Qf. S{;
I#PhzGC@ _:7:ixN[Ie VirtualLab Fusion技术 8T?D#,/ am+w<NJ(us