1. 建模任务
&B|D;|7H 1.1
模拟条件
f4BnX(1u 模拟区域:0~10
i F+vl] 边界条件:Periodic
%?m$`9yU 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
2Y7)WPn 单位长度:0.5
0X^Ke(/89 #y%!\1M/:A
eGX%KT"O 1.2堆栈
结构 I}t#%/'YA 1CHeufQ 2. 建模过程
k2AJXw 2.1设置模拟条件
LGl2$#x wR^ RM(1
AGbhJ=tB 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 AW,53\ 0 6qaulwV4t !=N"vD* 2.3创建掩膜并生成多畴结构
CjiVnWSz< ;f"0~D2 3. 结果分析
$ >EYhLBa 3.1 指向矢分布和透过率
X@f "-\ !U5Wr+83 CXC`sPY 3.2所有畴的V-T曲线
rs~wv(' ' Tc]KXD6 Dre]AsgiV 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
]GRWnif Y_QH&GZ