1. 建模任务
eZr}xo@9 1.1
模拟条件
O+o4E?} 模拟区域:0~10
ppBIl6 边界条件:Periodic
``:AF: 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
_Q:739& 单位长度:0.5
OEkx}.w -C7IUat< Zy -&g:
1.2堆栈
结构 ?QnVWu2K MWHGB")J 2. 建模过程
LE|*Je3a 2.1设置模拟条件
#()u=) `xhiG9mz~ ?`nF"u>
2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 C XQPbt[5 O>E2G]K]\
.3B3Z&vr 2.3创建掩膜并生成多畴结构
\qrSJ=}t ,u^S(vxyz 3. 结果分析
">n38:?R 3.1 指向矢分布和透过率
7I6bZ;}d hm%'k~ p<|I!n&9 3.2所有畴的V-T曲线
2 NgEzY5 cm8-L[>E ZwLD7j*) 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
,_ XDCu @ >@yHa'*9S