1. 建模任务
5#P: "U 1.1
模拟条件
V02309Y 模拟区域:0~10
<%he
o 边界条件:Periodic
>[
@{$\?x: 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
2k%Bl+I 单位长度:0.5
gca|?tt YHJ'
Mp!2`4rD 1.2堆栈
结构 Wn b)*pPP )0'Y et} 2. 建模过程
b$IY2W<Ln 2.1设置模拟条件
{|G&W^` 1LV|t+Sex
X5|?/aR} 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 "pR $cS R%Kl&c w($XEv; 2.3创建掩膜并生成多畴结构
qdKh6{ XA=|]5C 3. 结果分析
_.u~)Q`6 3.1 指向矢分布和透过率
RJQ/y3 (L]T*03# D
"JMSL4r 3.2所有畴的V-T曲线
Z?5,cI[6# N)`tI0/W SZNFE 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
3 t~X: pIk4V/fy