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ouyuu:和离子源能量强度有关,哪怕同一个离子源,新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 4m-I5!=O 1,用氧离子氧化表面的脏污(脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧,氧化后都变成气体挥发了) Y$-3v. 2,用重离子把表面打出凹凸不平的效果,增加表面的结合力。 %5\3Aw 所以也和你清洗效果,清洗 .. (2024-05-17 08:57) ?U7) XvQ
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ouyuu:和离子源能量强度有关,哪怕同一个离子源,新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 kVDe6},D7 1,用氧离子氧化表面的脏污(脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧,氧化后都变成气体挥发了) dv N<5~ 2,用重离子把表面打出凹凸不平的效果,增加表面的结合力。 l)+:4N?iVv 所以也和你清洗效果,清洗 .. (2024-05-17 08:57) 1q.(69M