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ouyuu:和离子源能量强度有关,哪怕同一个离子源,新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 D>L2o88 1,用氧离子氧化表面的脏污(脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧,氧化后都变成气体挥发了) '!h/B;*( 2,用重离子把表面打出凹凸不平的效果,增加表面的结合力。 S0/usC[r 所以也和你清洗效果,清洗 .. (2024-05-17 08:57) &a)eJF]:!
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ouyuu:和离子源能量强度有关,哪怕同一个离子源,新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 ,38Eq`5&W 1,用氧离子氧化表面的脏污(脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧,氧化后都变成气体挥发了) 'fwU]Hm 2,用重离子把表面打出凹凸不平的效果,增加表面的结合力。 36m5bYMd) 所以也和你清洗效果,清洗 .. (2024-05-17 08:57) xgsjm))
UID:326212
UID:326042
UID:295883