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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-05-14
    摘要 g^^m a}i  
    Y tj>U  
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 ;ypO'  
    W&[9x%Ba  
    9>, \QrrH  
    vKLG9ovlY  
    建模任务 / ^M3-5@Q  
    Ec/+9H6g  
    .%h_W\M<l  
    概述 #^w 1!xXD  
    9.}3RAB(cv  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 EHJc*WFPU-  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 #!j&L6  
    l{ { #tW  
    *hgsS~  
    j*\MUR=  
    光线追迹仿真 Dp'af4+%$  
    Y(mwJud|  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 Y{{,62D  
    •单击go! r|$g((g  
    •获得了3D光线追迹结果。 ;yoq/  
    3CL:VwoW  
    \05C'z3]  
    aa3YtNpP  
    光线追迹仿真 7cSvAX0Z.  
    :P'5_YSi  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 TJa%zi  
    •单击go! BNLall  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 TQfY%GKg(  
    tjL#?j  
    wOSNlbQ5jl  
    $(hZw  
    场追迹仿真 cZi&L p  
    VJPPHJ[-  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 t*$@QO  
    •单击go! v8=MO:>{R  
    C u5 - w  
    ]vG)lY.=  
    RR9s%>^  
    场追迹仿真(相机探测器) #`EMK   
    <CdO& xUY  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 Cq'r 'cBZ  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 _z< q9:  
    HKf3eC  
    aUQq<H'R  
    .- o,_eg1f  
    场追迹仿真(电磁场探测器) q\G@Nn^  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 cwM0Z6  
    =Ih_[$1dw  
    34:=A0z  
    d DTt_B  
    场追迹仿真(电磁场探测器) w-m2N-"= '  
    l$NEx0Dffz  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Ei!z? sxzx  
    xr-scdh2  
    n$K_KU v  
     
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