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摘要 ]oix))'n 8k{ XUn 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 k&yBB%g
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建模任务 P3bRv^ V13^SVM  e>Q:j_ ?.e 概述 %. [AZ> >Dv=lgPF •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 /L,iF?7 •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 7OZ0 ;fK +S V!QMIg
 K0*er x =JZ"|TE 光线追迹仿真 *[nS*D\: 9Lt3^MKa" •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 a6 T!)g •单击go！ Rv*x'w
== •获得了3D光线追迹结果。 @)ozgs@e vO{[P# L}
 Z _<Wr7 D k< *1mS8 光线追迹仿真 :v-,-3AG : B/u > •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 {flxZ} •单击go！ D//Ts`}+n •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 M> Ws}Y (B+zh
 ELV$!f|u 6mrfkYK 场追迹仿真 {7Ez7'SVV ,J-YfL^x6* •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 5[qx5|O •单击go！ j"+R*H(# 9T;l*  1K$8F ~%Z
A^7Y% 场追迹仿真（相机探测器） d 7QWK(d FJ&?My,=J •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 - ,xsUw 4 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 W^nG\"T^ } SA/,4/9
 m>?{flO ~_L_un .R 场追迹仿真（电磁场探测器） 78+PG(Q_M •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 k!,&L$sG l(Dkmt>^  <\< [J0
yES+0D 5< 场追迹仿真（电磁场探测器） 4hb<E H'_&
G:NI+E"] •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ,C%fA>?UF8 <RfPd+</
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