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摘要 vS$oT]-hKE h41$|lonU% 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 )
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xv R ?~ 建模任务 T9z4W]T 6Z(*cf/s  LG=X)w)W4S 概述 =R&)hl m /&]-I$G@ •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 @ /UOS U •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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 4= T pi` 5pRY&6So 光线追迹仿真 >f\zCT%cf (Qk&g"I •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 731h
~x!u •单击go！ H(15vlOD •获得了3D光线追迹结果。 Ecxj9h,S +{ xMIl_
 A p]4QqU YH[ XRUa 光线追迹仿真 H>? :U] g7xbyB o7 •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 \6 \hnP •单击go！ `'p`PyMt` •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 Fn:.Y8%- Fweh =v
 }RcK_w@Jx) 8[{|xh( 场追迹仿真 <ROpuY\!l ;>9Og O •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 /M3 y)K`^ •单击go！ umQ i gyi) T?uS)  >0P UWr$8
yp=|7 场追迹仿真（相机探测器） aS,a_b] 0V zXDb>` •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 =~J"kC •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 U;\S(s} m!<X8d[bD
 *( k%MTG ~|&="K4,: 场追迹仿真（电磁场探测器） yeh8z:5Z O •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 'pan9PW
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}5 场追迹仿真（电磁场探测器） 6m9 7_NRO
'!!e+\h# •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 :.#z 9C_*3?6
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