tvKAIwe 内容简介
D('2p8;2"7 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
/\s}uSW 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
SzDKByi 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
d5 Edu44 K0+.q?8D| 讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
MTGiAFE 目录
BI?@1q}: Preface 1
6M.;@t,Y 内容简介 2
I&|f'pn^< 目录 i
f$HH:^# 1 引言 1
qo6y %[ 2 光学薄膜基础 2
.9[45][FK 2.1 一般规则 2
7IlOG~DC 2.2 正交入射规则 3
9i5,2~ 2.3 斜入射规则 6
3-Dt[0%{ 2.4 精确计算 7
h&3YGCl 2.5 相干性 8
A=zPLq{Sb 2.6 参考文献 10
W=B"Q
qL 3 Essential Macleod的快速预览 10
2?C`4AR[2H 4 Essential Macleod的特点 32
\vfBrN 4.1 容量和局限性 33
/2M.~3gQ 4.2 程序在哪里? 33
d@0Kr5_ 4.3 数据文件 35
1' v5/ 4.4 设计规则 35
{%v-( 4.5 材料数据库和
资料库 37
k^ F@X 4.5.1材料损失 38
\'CN 4.5.1材料数据库和导入材料 39
5v)(8|.M 4.5.2 材料库 41
h_d +$W5 4.5.3导出材料数据 43
'V+dBt3 4.6 常用单位 43
`~UZU@/x 4.7 插值和外推法 46
_lKZmhi 4.8 材料数据的平滑 50
;{[>&4 4.9 更多光学常数模型 54
5F|8?BkOL^ 4.10 文档的一般编辑规则 55
q*![AzFh 4.11 撤销和重做 56
Il@Y|hK 4.12 设计文档 57
m4E)qCvy 4.10.1 公式 58
L(>=BK* 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
^04Q %, 4.10.3 沉积密度 59
g42)7
4.10.4 平行和楔形介质 60
,fIe&zq 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
gk BdR + 4.10.4 性能 61
w6dFb6~R 4.10.5 保存设计和性能 64
[
=x s4= 4.10.6 默认设计 64
yV3^Qtb! 4.11 图表 64
(R~]|?:wt 4.11.1 合并曲线图 67
9mc!bj^811 4.11.2 自适应绘制 68
>>Ts?? 4.11.3 动态绘图 68
p,pR!qC> 4.11.4 3D绘图 69
SQ,?N
XZ 4.12 导入和导出 73
:4)Qt 4.12.1 剪贴板 73
H2xeP%;$ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
$uui:wU%Q 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
R`";Z$~{ 4.13 背景 77
kc'pN&]r: 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
LWsP ya 4.15 生成Rugate 84
$P7iRM] 4.16 参考文献 91
I-]>d;4. 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
Q(d9n8 5.1 Jobs 92
!J*,)kRN 5.2 创建一个新Job(工作) 93
`u!l3VZ/4 5.3 输入材料 94
49Df?sx 5.4 设计数据文件夹 95
wfL-oi'5 5.5 默认设计 95
#eU.p&Zc 6 细化和合成 97
C.^Ven 6.1 优化介绍 97
.O*bILU 6.2 细化 (Refinement) 98
&Lt[WT$ 6.3 合成 (Synthesis) 100
gw`B "c| 6.4 目标和评价函数 101
m+{K^kr[ 6.4.1 目标输入 102
BYW^/B Y) 6.4.2 目标 103
`s '# 6.4.3 特殊的评价函数 104
bk<\ujH 6.5 层锁定和连接 104
O?8Ni=] 6.6 细化技术 104
iVFkYx%} 6.6.1 单纯形 105
3QSZ ZJ 6.6.1.1 单纯形
参数 106
DcMJ^=r8O: 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
#zrTY9m7 6.6.2.1 Optimac参数 108
L{l6Dd43q 6.6.3 模拟退火算法 109
P+t#4J 6.6.3.1
模拟退火参数 109
;n=. {[, 6.6.4 共轭梯度 111
:{'k@J"|a 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
p5O",3,A4 6.6.5 拟牛顿法 112
LAx4Xp/ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
7:]Pl=:X 6.6.6 针合成 113
{ng"=3+n 6.6.6.1 针合成参数 114
133I.XBU 6.6.7 差分进化 114
FLoNE>q 6.6.8非局部细化 115
/sR%]q
|L 6.6.8.1非局部细化参数 115
~.PO[hC 6.7 我应该使用哪种技术? 116
n\I#CH0V 6.7.1 细化 116
r[.>P$U
6.7.2 合成 117
1[*UYcD 6.8 参考文献 117
Kx"<J@ 7 导纳图及其他工具 118
G>YAJo 7.1 简介 118
a"/#+=[ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
:RSz4 7.2.1 四分之一
波长规则 119
;)Kh;;e 7.2.2 导纳图 120
I~,G 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
_ 46X%k 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
H7+Xs% 7.5 斜入射导纳图 141
7z\m;
1 7.6 对称周期 141
Ae^X35 7.7 参考文献 142
@
P@c.*}s 8 典型的镀膜实例 143
xRuFuf8 8.1 单层抗反射薄膜 145
eMOD;{Q?X 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
D3Jr3
%> 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
GN#<yv$av 8.4 W-膜层 148
xE}VTHFo' 8.5 V-膜层 149
Ub0/r$]DK 8.6 V-膜层高折射基底 150
gu)=wu0 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
VZ>On$hp 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
5`~mmAUk;` 8.9 四层抗反射薄膜 153
lcON+j 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
:"6q,W 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
$d+DDm1o 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
3`O?16O 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
C\_zdADUb% 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
a m-b!l!q^ 8.15十五层宽带抗反射膜 159
s57N) 0kP 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
}14{2=!Q 8.17 1/4波长堆栈 162
vgn@d,v 8.18 陷波滤波器 163
:H. 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
<1w/hy&mWN 8.20 褶皱 165
-]Cc 8.21 消偏振分光器1 169
zJa)* N 8.22 消偏振分光器2 171
H-rWDN# 8.23 消偏振立体分光器 172
v]2S`ffP 8.24 消偏振截止滤光片 173
oq-<ob 8.25 立体偏振分束器1 174
GwsY-jf 8.26 立方偏振分束器2 177
R cY>k 8.27 相位延迟器 178
P ]N
[y 8.28 红外截止器 179
*fO3]+)d+ 8.29 21层长波带通滤波器 180
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