@%r"7%tq> 内容简介
i_av_I- Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
$5>m\wrl 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
\og2\Oh&gH 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
593!;2/@ 0+AMN- 讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
_!9I
f 目录
T[2<_ nn= Preface 1
kv<(N 内容简介 2
hd)WdGJp 目录 i
m,ur{B8 : 1 引言 1
'a>D+A: 2 光学薄膜基础 2
=)J<R; 2.1 一般规则 2
uYijzHQyD 2.2 正交入射规则 3
~w}=Oby'y 2.3 斜入射规则 6
mv(/M
t 2.4 精确计算 7
w^}*<q\ 2.5 相干性 8
@[{5{ y 2.6 参考文献 10
?5wsgP^ 3 Essential Macleod的快速预览 10
bl\;*.s' 4 Essential Macleod的特点 32
f,ql8q(|J 4.1 容量和局限性 33
N:,V{Pw 4.2 程序在哪里? 33
LdnTdh? 4.3 数据文件 35
mB%m<Zo\U 4.4 设计规则 35
h;~NA}> 4.5 材料数据库和
资料库 37
%Lq}5zB 4.5.1材料损失 38
nPH\Lra 4.5.1材料数据库和导入材料 39
=`l>< 4.5.2 材料库 41
<}F(G-kV6 4.5.3导出材料数据 43
gl!ht@;>ak 4.6 常用单位 43
\jAI~|3 4.7 插值和外推法 46
.I%B$eH 4.8 材料数据的平滑 50
/'^BHA|h 4.9 更多光学常数模型 54
/f hS#+V* 4.10 文档的一般编辑规则 55
W >|'4y) 4.11 撤销和重做 56
UU '9 4.12 设计文档 57
7mL1$i6= 4.10.1 公式 58
$SfY<j,R 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
U@:l~xJ 4.10.3 沉积密度 59
8yM8O
#S 4.10.4 平行和楔形介质 60
&"Fz)} 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
{ea*dX872: 4.10.4 性能 61
(@S9>z4s 4.10.5 保存设计和性能 64
m;PTO$-- 4.10.6 默认设计 64
IG~Zxn1o 4.11 图表 64
1;v wreJ 4.11.1 合并曲线图 67
S5~(3I
)v 4.11.2 自适应绘制 68
C}\kp0mz 4.11.3 动态绘图 68
JC}T*h>Ee 4.11.4 3D绘图 69
%h
v-3L#V 4.12 导入和导出 73
EW/N H&{ 4.12.1 剪贴板 73
ML%JTx0+Z 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
|RDE/ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
A@reIt 4.13 背景 77
_,w*Rv5= 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
ozA%u,\7k 4.15 生成Rugate 84
!k#N]
9D3 4.16 参考文献 91
5xa!L@)`wF 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
x[$:^5V 5.1 Jobs 92
@9\E 5.2 创建一个新Job(工作) 93
nyOvB#f 5.3 输入材料 94
m3|l-[!OA" 5.4 设计数据文件夹 95
HN<e)E38 5.5 默认设计 95
~!_UDD 6 细化和合成 97
8an_s%,AW 6.1 优化介绍 97
{(h!JeQ 6.2 细化 (Refinement) 98
{7K l#b 6.3 合成 (Synthesis) 100
Htep3Ol3 6.4 目标和评价函数 101
lLEEre 6.4.1 目标输入 102
+:u
&] 6.4.2 目标 103
mOb@w/f 6.4.3 特殊的评价函数 104
f1U:_V^d 6.5 层锁定和连接 104
xww\L
&y 6.6 细化技术 104
(AHTv8 6.6.1 单纯形 105
uFaT~ 4 6.6.1.1 单纯形
参数 106
l!IN #|{( 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
P+,YWp 6.6.2.1 Optimac参数 108
nDNK}O~' 6.6.3 模拟退火算法 109
>,f5 5 6.6.3.1
模拟退火参数 109
E%$[*jZ 6.6.4 共轭梯度 111
<O{G& 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
cN)noGkp 6.6.5 拟牛顿法 112
,;yaYF6|/ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
%gTY7LIe1z 6.6.6 针合成 113
RMAbu*D0 6.6.6.1 针合成参数 114
y <P1VES 6.6.7 差分进化 114
;\iu*1>Z,& 6.6.8非局部细化 115
_ sBFs.o 6.6.8.1非局部细化参数 115
N
Q}5' 6.7 我应该使用哪种技术? 116
@>[3[; 6.7.1 细化 116
2F:X:f 6.7.2 合成 117
ShOB"J- 6.8 参考文献 117
o|V=3y
Ok 7 导纳图及其他工具 118
;$UB@)7% 7.1 简介 118
{tnhP^C3> 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
Rtai? 7.2.1 四分之一
波长规则 119
KzB9
mMrO 7.2.2 导纳图 120
+b{tk=Q: 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
`>`{DEDx{5 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
5NMju!/ 7.5 斜入射导纳图 141
"mcuF]7F 7.6 对称周期 141
d^`n/"Ice 7.7 参考文献 142
xic&m5j
m 8 典型的镀膜实例 143
;AT~?o`n 8.1 单层抗反射薄膜 145
!XY}\zKq 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
N0fmC*1- 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
3
FLht
L 8.4 W-膜层 148
{!"lHM% 8.5 V-膜层 149
Na`vw 8.6 V-膜层高折射基底 150
q_:B=w+bC 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
wE_#b\$=b 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
9>d~g!u= 8.9 四层抗反射薄膜 153
q)]S:$?BT 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
AaJz3oncJ 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
1i
6>~ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
Mey=%Fv
8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
<:~'s]`zf 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
_\AT_Zmy 8.15十五层宽带抗反射膜 159
{-s7_\|p( 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
Il!#] 8.17 1/4波长堆栈 162
>orDw3xC 8.18 陷波滤波器 163
~Yl%{1 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
Yd<q4VJR 8.20 褶皱 165
"C]_pWk 8.21 消偏振分光器1 169
S&~;l/ 8.22 消偏振分光器2 171
*l'5z)] 8.23 消偏振立体分光器 172
{c=H#- A 8.24 消偏振截止滤光片 173
|A:+[35 8.25 立体偏振分束器1 174
m[&