摘要
B$n 1k45 CW2)1%1iz 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
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#IJeq0TVB A $ ]s{` 建模任务
91]sO%3 +H28 F_#
a{@}vZx>3 T];dFv-GT 入射平面波
[(gXjt- 波长 2.08 nm
;s;3cC! 光斑直径: 3mm
~>HzAo9e 沿x方向线偏振
y/5GY,z%aL Kk*8 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
S8Y\@C?5 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
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N/ f7"~+` 概览
{VKFw=$8 •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
PfZS"yk •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
{0j_.XZ Mc<u?H
=#v? }JG 光线追迹模拟
z DU=2c4W9 •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
Q@7d:v •点击Go!
0y6M;"&~E •获得3D光线追迹结果。
5mC"8N1) hHGuD2%
eZaSV>27 tc<uS%XT4^ 光线追迹模拟
AYgXqmH~+ •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
#c5jCy}n •单击Go!
R(`:~@3\6 •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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}f]Y^>-Ux
,zltNbu\.( I# &r5Q 光场追迹模拟
;8eKAh •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
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_T •单击Go!
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r!+{In+Z T*f/M 光场追迹结果(照相机探测器)
bh<;px- fEX=csZ86 •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
X!p`|i •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
FO5a<6 aL( hWE
sVK?sBs] USEb} M` 光场追迹结果(电磁场探测器)
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*A|h B*,)@h •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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