摘要
MZ:Ty,pw:O z0 J:"M 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
Bp/k{7 xA>3]<O
TUX:[1~Nf[ r"W<1Hu 建模任务
7e:7RAX us )NgG
Q94p*]W" S #C;"se 入射平面波
+a|u,'u 波长 2.08 nm
6Tg'9|g 光斑直径: 3mm
*qKf!& 沿x方向线偏振
0IxHB|^$ kf1 ( 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
ch)#NHZ9F 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
, L5.KwB <ahcE1h 概览
.#_g.0< •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
tg;AF<VI •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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_4 I@uin|X
i|N(=Z= 光线追迹模拟
jTN!\RH9NF •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
r?R!/`f •点击Go!
DIWcX<s •获得3D光线追迹结果。
P`y 0FKS }qN
TB#oauJm, NBO&VYs| 光线追迹模拟
*W<|5<<u@ •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
V&>mD"~MP •单击Go!
,S7M4ajVZB •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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p2j=73$ TN.&FDqC9 光场追迹模拟
D1~3 3; •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
KTjf2/ •单击Go!
L7B(abT9e !po29w:S
ZZU"Q7`^ !;.nL-NQ 光场追迹结果(照相机探测器)
Y-G;;~ /@9-D
4 •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
Hv .C5mo •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
Zl7m:b2M k1_3\JO"6
r&D&xsbQ K*oWcsu 光场追迹结果(电磁场探测器)
LE@`TPg$R
qh9Ix •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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