摘要
-#LjI. z)4UMR#b& 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
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,YjxCp3 UTZ776`S&X 建模任务
DH5bpg&T JOBz{;:R{
M_k`%o -=>sTMWpr 入射平面波
fO K|: 波长 2.08 nm
Da-u-_~ 光斑直径: 3mm
glv ;C/l 沿x方向线偏振
9khjwt Le*`r2 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
gs?8Wzh90* 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
]?[zx'| ?TDvCL 概览
tcZa~3. •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
M~uMY+> •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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2Kjrw; 光线追迹模拟
aX|g S\zx •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
1\/{#c •点击Go!
xcst<= •获得3D光线追迹结果。
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4Rx~s7l iQqqs`K 光线追迹模拟
yE#g5V& •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
>Iuzk1'S •单击Go!
lr,q{; •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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J,??x0GDx, I!P4(3skAB 光场追迹模拟
"# !D|[h0 •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
x>v-m*4Z4@ •单击Go!
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Lbcy:E*g 1w`2Dt 光场追迹结果(照相机探测器)
=~&VdPZ D93gH1z •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
@OzMiN •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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u"`*DFjo* |d[5l^6 光场追迹结果(电磁场探测器)
YScvyh?E |#k@U6`SG •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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