摘要
2\64~a^ t6e6v=.Pg 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
@HI@ PZ> +DefV,Ny 
JY:Fu ".A W 建模任务
"IJ1b~j? @pJ;L1sn 
T$ FKn <ldArZ4C4 入射平面波
K4|fmgcy. 波长 2.08 nm
Wo9=c YC) 光斑直径： 3mm
]CU)#X<J 沿x方向线偏振
7?_g m>]a 1:DA{ejS 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
1p/_U?H:| 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
%,S:^Rvv ~(c<M>Q8 概览
-zt*C&)b •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
tmoclK - •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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GX.a!XQ@! 光线追迹模拟
p@DVy2,EY •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
a|dgK+[ •点击Go！
~S
:8M<aB •获得3D光线追迹结果。
8 f~M6 %[L/JJbP&Z 
\:JY[s/ |a\,([aU 光线追迹模拟
hf)R PG& •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
Kp;<z< •单击Go！
'wBOnGi6 •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
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B/~ubw #~ |esr/wf 光场追迹模拟
w 17{2'] •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
^h`rA"F\ •单击Go！
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L&5zr_ hJ4 A5m. 光场追迹结果（照相机探测器）
eq2L V=d{m c~\ ^C_ •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
kMa|V0 •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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sG| ,#XQ & )-fC 光场追迹结果（电磁场探测器）
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^ 1iM(13jW •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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