摘要
HHoh//(\ KH2a 2 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
0V`0=" rQ ~c3!,C (h|l$OL/ ,n~H]66n 建模任务
7ktf =Y `Nu3s<O7CF
+<AX
0( {Sd{|R_ 入射平面波
~XQN4Tv- 波长 2.08 nm
L&'2 光斑直径: 3mm
OES+BXGX 沿x方向线偏振
nvsuF)%9hZ QSEf 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
MBDu0
[c 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
z+NXD4 SH5GW3\h 概览
6#.z:_ •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
F
~
/{1Q* •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
fkyj&M/ SS@#$t: f(7/ 光线追迹模拟
)iluu1,o •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
p?=rQte([ •点击Go!
`gD'q5.z;3 •获得3D光线追迹结果。
US0)^TKrj Qy5\qW' UFm E`|le 44mYs`] 光线追迹模拟
Nx;U]O6A •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
4vW:xK •单击Go!
]6W#P7 •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
yo") G!BN Q pAK] TR5"K{WDx BRFA%FZ, 光场追迹模拟
Qp!r_a&
•切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
rM<c;iQ •单击Go!
92bvmP*o4 AnfJyltS u==bLl=$ b,$H!V* 光场追迹结果(照相机探测器)
[F*t2 -ta uRh`qnL •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
8@|+-)t •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
5L"{J5R} [>oq~[e)? t+W+f 3 =KfNz_ 光场追迹结果(电磁场探测器)
}.$oZo9J wH3FCfvm •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
BPIp3i 959&I0=g" 0:@:cz=#* KaZ*HPe( 88$G14aXEk #&\^{Z W0K&mBu "/[-U;ck