摘要
R?E< }\! G oHdhne3 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
5nA
*'($j v&]k8Hc-
4Y/kf%]]A 8rEUZk 建模任务
\v]esIP5R' 5IJm_oy
,jc')#]9B \YZ7 入射平面波
QrSF1y'd 波长 2.08 nm
qZwqnH 光斑直径: 3mm
Gtm|aR{OS 沿x方向线偏振
B_3:.1>"BM '&+5L. 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
;+3XDz
v 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
H~ `JAplr f[s|<U^ 概览
>oHgs •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
}1}L&M@ •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
^Q9;ro*;ck (/;<K$u*h
NSV;R~" 光线追迹模拟
7E]qP
5 •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
:+?w> •点击Go!
l RM7s(^l •获得3D光线追迹结果。
|J^}BXW'^) D~T;z pS
lq_(au. - xE%`X 光线追迹模拟
$O[$<D%H •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
3I.0jA#T&/ •单击Go!
G}V5PEF]` •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
L}hc|(: s.IYPH|pn
d$}!x[g$Z }|9!|Q 光场追迹模拟
{4^NZTjd@ •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
k,h
/B •单击Go!
$Le|4Hj EpUBO}q]
O]cuJp
*m6h(8(7Z 光场追迹结果(照相机探测器)
.EB'n{zxd 4^3lG1^YY •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
AA &>6JB{ •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
N% !TFQf ;_iDiLC;
>[r ,X$] */)O8`}2 光场追迹结果(电磁场探测器)
m/bP`-/, HS@ EV iht •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
rInZd`\ yR$ld.[uf
X"EZpJ'W X6-;vnlKN
EC`=nGF 66C_XT
8~j1 %/}46z9\