摘要
J^ewG ]jm:VF]4 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
+}M3O]? 4 9P ACXW0 
W1M322]>L {l5fKVb\C 建模任务
0M roHFh9` T)OR HJ&, 
@{q<"hT n}[S 入射平面波
L@/IyQ[H1 波长 2.08 nm
AoOA.t6RVo 光斑直径： 3mm
!H)- 沿x方向线偏振
^r .CUhx) p 4MWX1 2 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
>p@b$po 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
2_)UHTwsK +0z7}u\x 概览
#T2J + •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
23 i 2yT •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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PU,$YPrZ 光线追迹模拟
'sH_^{V2 •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
{Qy l NC9 •点击Go！
(YYg-@IO •获得3D光线追迹结果。
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[2Zy~`*y { jq*`| m;Q 光线追迹模拟
=#[oi3k •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
hL6;n*S= •单击Go！
;aW k- •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
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eh<mJL%T ^}p##7t [ 光场追迹模拟
-5 PVWL\ •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
'U WkJ2:! •单击Go！
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RPgz"- pKy4***I3 光场追迹结果（照相机探测器）
`62v5d*>a ^M6lF5 •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
Z s=A<[ •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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`3i>e <m~ F c5t,P 光场追迹结果（电磁场探测器）
y4 2 Cg l l4CF}k •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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