摘要
MkluK=$ 1xFhhncf 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
D_,_.C~O N#2nH1C
NO0[`jy( "6[Ax{cM 建模任务
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K>DnD0 ^{6UAT~!R 入射平面波
&CPe$'FYI 波长 2.08 nm
%(O^as 光斑直径: 3mm
H)?" 8 s 沿x方向线偏振
45!`g+) {~B4F}ES 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
1W6n[Xg 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
ZT3jxwe duiKFNYN 概览
*YEIG#` •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
]i_):@ •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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:67d>wb 光线追迹模拟
v#AO\zYKd •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
#L1yL<' •点击Go!
5qODS_Eq •获得3D光线追迹结果。
Liz6ob :ayO+fr#
,_X,V! jy)9EU= 光线追迹模拟
=tvm= •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
^PCL^]W •单击Go!
5G]#'tu •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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h.+,*9T\ Wf&G9Be?8 光场追迹模拟
b^=8%~?%4 •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
Lu$:,^ C •单击Go!
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oqm{<g?2 V[2<ha[n> 光场追迹结果(照相机探测器)
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$ eB1eUK> •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
R/KWl^oNj •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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{10+(Vl p44uozbK 光场追迹结果(电磁场探测器)
$AJy^`E^ FK,r<+h •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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