摘要
A,~Hlw #:3r4J%+~ 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
`NwdbKX ?BCy J
FYPz 4K 5IMSNGS 建模任务
a j|5 # dhRJg"vrQ
Ri:p8 X<Za9 入射平面波
mp`PE= 波长 2.08 nm
zCXqBuvu1 光斑直径: 3mm
`rWB`q|i<
沿x方向线偏振
((3t: 4".J/I5u 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
#dJ 2Q_2 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
3
%(Y$8U 1czG55 | 概览
z<C[nR$N •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
>.dHt\ •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
;?9A(q_Z f==*"?6\
oo'w-\2]p 光线追迹模拟
MUof=EJg>u •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
5ouQQ)vA •点击Go!
|i)lh_iN •获得3D光线追迹结果。
%= u/3b:o +80 2`eax
9$tl00 hN4VlNKu 光线追迹模拟
p?myuNd[ •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
hjY0w •单击Go!
EnscDtf( •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
'XfgBJF=
kJ8vKcc
NXgRNca (DJvi6\H 光场追迹模拟
.:0M+Jr" •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
7~.ZE •单击Go!
D3?N<9g AUAI3K?
_@prmSc NiTJ}1 l 光场追迹结果(照相机探测器)
{'IFWD. 5 W(k:Pl# •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
GoeIjuELR •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
}'`xu9< 3_J>y
hPPB45^ V<-htV 光场追迹结果(电磁场探测器)
6GOg_P aY j%w •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
AP@<r :Y.e[@!1x
iBHw[X,b + zDc
v |ifI 5+FLSk
,I39&;Iq R92R}=G!