摘要
H@Ot77(* ` =P_ed%&' 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
.=TXi<8Brw +(92}~RK
}O>1tauI <j>;5!4!} 建模任务
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]]l0B P1T{5u!T
.ex;4( -! =g!Pw] 入射平面波
ThgJ
' 波长 2.08 nm
rMi\#[oB 光斑直径: 3mm
Ycspdl+(S$ 沿x方向线偏振
E
V)H>kM sdg2^] | 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
fc8ODk*;E 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
>MN"87U6 xh$yXP0/ 概览
2=n`z)R •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
7=^}{ •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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(k #xF"yI 光线追迹模拟
1Ub=RyB •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
Q|h$D~ •点击Go!
#jg-q|nd •获得3D光线追迹结果。
KFHZ3HZ:> {+hABusq
7$Z_'GJ]1C W1X3ArP]m8 光线追迹模拟
7;AK=; •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
.,xyE--;d •单击Go!
O}Pqbx& •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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SA}Dkt&, [;Lgbgt3f 光场追迹模拟
'LPyh ;!f •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
6[k<&; •单击Go!
U@y)x+: [BD`h
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5)'Y\~2 光场追迹结果(照相机探测器)
.Ji9j[[#D 7`J2/( •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
d;Y Kw1 •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
BYEZ[cM 2K};-}eW
6c-3+,Y"# >P~*@>e 光场追迹结果(电磁场探测器)
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cs2po •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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