摘要
YqY6\mo i[t=@^| 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
n0_Az2 E_'n4@}Cx
P15* VPy 4Jk}/_ 建模任务
M(h H#_$ > ^v8N
Kf?{GNE7 6pn@`UK 入射平面波
UQf>5g 波长 2.08 nm
WGG)
mh&- 光斑直径: 3mm
>KClH'R2 沿x方向线偏振
<9k}CXv2PK 'Rh>w=wB' 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
hTtp-e` 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
@H# kvYWmn ep}/dBg 概览
\lbiz4^> •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
K!:
,l •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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?jn6Op 光线追迹模拟
wIR[2&b •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
^)IL<S&h •点击Go!
zl#&Qm4Ot •获得3D光线追迹结果。
Z8dN0AqZ POg0=32
?a0}^:6 c+)|o!d 光线追迹模拟
0l1]QD+Gc5 •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
}.$B1%2 •单击Go!
OI}HvgV^! •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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{3r9 光场追迹模拟
hic$13KuP •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
Rw{v"n •单击Go!
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v8k^=A: SyVbCj 光场追迹结果(照相机探测器)
1&pP}v ? /bu<,o •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
.z>." ` •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
{uM{5GSL $)7f%II
U1|4vd9 gwz _b 光场追迹结果(电磁场探测器)
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R%R]X tWOze, N •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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