摘要
i`?yi-R& !/X>k{ 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
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5Fbb5`( e*d lGK3l 建模任务
Xe(]4Ux _rz\[{)
3sDyB-\& f*T}Ov4 入射平面波
:)h4SD8Y 波长 2.08 nm
XEN-V-Z%* 光斑直径: 3mm
6o*'Q8h 沿x方向线偏振
,uO_C(G/i x'SIHV4M@Q 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
wNUcL*n 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
ezri9\Ju 5JhpBx/>o= 概览
8?|W-rN •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
<N3~X,ch •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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JOs
kf( 光线追迹模拟
a)7&2J •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
_,I~1" •点击Go!
f 0~Z@\ •获得3D光线追迹结果。
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x^JC_ g4;|uK;
GoPMWbI7 [jEA|rd~} 光线追迹模拟
>t.PU.OM •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
fd62m]X •单击Go!
dKL9}:oUa •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
6j|~oMYP 1&Ma`M('
K7/&~;ZwT q6x}\$mL 光场追迹模拟
iTF%}( •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
<TSps!(# •单击Go!
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OC\cN%qlw u;b 6uE 光场追迹结果(照相机探测器)
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t/mLw& •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
!~j9Oc^ •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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