摘要
YqY6\ mo i[t=@^| 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
n0 _Az2 E_' n4@}Cx 
P15 * VPy 4Jk}/_ 建模任务
M(h H#_ $ > ^v8N 
Kf? {GNE7 6 p n@`UK 入射平面波
UQ f> 5 g 波长 2.08 nm
WGG)
mh&- 光斑直径： 3mm
>KClH'R2 沿x方向线偏振
<9k}CXv2PK 'Rh>w=wB ' 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
hTtp-e` 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
@H# kvYWmn ep}/dBg 概览
\lbiz4^> •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
K!:
,l •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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? jn6Op 光线追迹模拟
wIR[2&b •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
^)IL<S&h •点击Go！
zl#&Qm4Ot •获得3D光线追迹结果。
Z8dN0AqZ POg0=32 
?a0}^:6 c +)|o! d 光线追迹模拟
0l1]QD+Gc5 •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
}.$ B1%2 •单击Go！
OI}HvgV ^! •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
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{3r9 光场追迹模拟
hic$13KuP •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
Rw{ v"n •单击Go！
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v8 k ^=A: S yVbCj 光场追迹结果（照相机探测器）
1&pP}v ? / bu< ,o •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
.z>." ` •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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U1|4vd9 gwz _b 光场追迹结果（电磁场探测器）
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R%R]X tWOze, N •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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