摘要
38i,\@p`9$ I3Xh[% -! 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
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k|'Mh0G0 [)vwg`] 建模任务
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mXj Ljgc} L-{r*ccIW 入射平面波
RNtA4rC># 波长 2.08 nm
+Q0-jS#d 光斑直径: 3mm
{][7N p!y 沿x方向线偏振
d2yHfl]3 >Fk`h=Wd 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
vK`h; 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
J5( D7rp# z}8L}: 概览
@ibPL+~-_ •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
WPKTX,k •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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pY#EXZ# 光线追迹模拟
2_b'mepV •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
N==_'`O1Q0 •点击Go!
^QR'yt3e •获得3D光线追迹结果。
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rss.F3dK <dPxy`_ 光线追迹模拟
m@yVG|eP# •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
C?|3\@7 •单击Go!
lILtxVBO2o •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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u;qMo `- \+Ln~\Sv 光场追迹模拟
ptni'W3 •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
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•单击Go!
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Mr,y| bRz^= 光场追迹结果(照相机探测器)
4{WV @"Fp;Je\bN •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
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-7 •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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Q1\k`J G,|]a#w&v. 光场追迹结果(电磁场探测器)
^H6d;n VSpt&19 •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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