摘要
!S(jT?'w dP)8T 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
4D\_[(P #"i}wS
/"iYEr%_ 'ARQ7 Q[` 建模任务
V7rcnk# Wt8;S$!=R
+#&2*nY D\*raQ`n 入射平面波
?1PY]KNaK 波长 2.08 nm
u=rY 光斑直径: 3mm
Yl-09)7s 沿x方向线偏振
;'gzRC
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]
Y= 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
!EpP-bq'* 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
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P#k|A 概览
qx_+mCZ •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
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"88| •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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83TN6gW 光线追迹模拟
PjsQ+5[> •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
deeOtco$LT •点击Go!
g-*@I`k[ •获得3D光线追迹结果。
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zhN'@Wj'_ hrcR"OZ~X 光线追迹模拟
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vAiW •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
sBRw#xyS •单击Go!
Q`19YX •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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6x[gg !;85 ;AG5WPI 光场追迹模拟
JN3Oe5yB2@ •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
%X[|7D- •单击Go!
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D} 光场追迹结果(照相机探测器)
SrHRpxy X.T.^}= •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
E}1[& •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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TSuHY0.cp 光场追迹结果(电磁场探测器)
1Z`<HW" YtIJJH •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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