摘要
*MQ`&;Qa, Yr[&*>S 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
&@=W+A=c~ =MT'e,T
GP;N1/= L3A2A 建模任务
,&L}^ Up 28vQ
"28zLo3 !+]KxB 入射平面波
[&kz4_ 波长 2.08 nm
<GF^VT|Ce 光斑直径: 3mm
OY2u,LF9H 沿x方向线偏振
mF4y0r0 O{0it6 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
h/6^>setz 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
:(@P
*"j TFAR>8Nm 概览
u60RuP& •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
>dgz/n?:v •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
Hg$7[um v0?SN>fZ
`3`.usw 光线追迹模拟
EWr7eH •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
nLx|$=W •点击Go!
sPXjU5uq# •获得3D光线追迹结果。
R:j
mn E^$8nqCL:
%NM={X|' *f_A:`: 光线追迹模拟
u:mndTpB6x •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
T#wG]DH; •单击Go!
$x,EPRNs •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
SPXvi0Jg 9M5W4&
\BN$WV H8g%h}6h 光场追迹模拟
64]8ykRD- •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
m)3M) 8t •单击Go!
FBbaLqgVF{ crN*eFeW
1z4_QZZ.NG 1vxQ`) a 光场追迹结果(照相机探测器)
j=Izwt>
@$'pMg •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
:H wdXhA6 •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
Ln t 1 (\!?>T[En
H5V>d [cco/=c 光场追迹结果(电磁场探测器)
v$w}UC%uf /sj*@HF= •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
Ow.DBL)x'> /'5d0' ,M
?c+$9 jM
@N<k
4 Yv:\c SOn)'!g
1U/RMN3` j/fniyJ)