摘要
EB&hgz&_ (zsmJe 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
7|=SZ+g H%n /;DW 
O=U,x-Wl =55)|$hgD 建模任务
a`yCPnB( qDG x (d 
@; 9KP6d :@ &e~QP( 入射平面波
^4WZ%J#g 波长 2.08 nm
w$$pTk|&n 光斑直径： 3mm
a?Fz& BE 沿x方向线偏振
JT}"CuC }6LcimQyK 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
)X #$G?|Hn 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
o&q:b9T fR;[??NH 概览
TQt[he$O •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
>H euf"V •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
S~ckIN] |C./gdq 
_Iy)p{y 光线追迹模拟
w,6gnO •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
/FXb,) 1t •点击Go！
<AVWT+, •获得3D光线追迹结果。
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uAYDX< Ja9 lnl >! z 光线追迹模拟
y1Br4K5C •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
BThrv$D} •单击Go！
Wf:X) S7 •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
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<!W9E M (8S+-k? 光场追迹模拟
y\6C9%. •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
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a3=>N •单击Go！
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R,!a X"]| A@.ruG$ 光场追迹结果（照相机探测器）
2sBYy 8.r qi_uob •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
H5F Wk •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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bA"*^"^ L {f0r !d| 光场追迹结果（电磁场探测器）
v{SYz<( q|B.@Ng. •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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