摘要
z3\WcW7| ?mRGFS 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
Qel2OI `b LZ?z5U:
hyPVt6Gkj oQ=v:P] 建模任务
xlW`4\ Pa =[7[F)I~O
{[<o)k .A ]V4Fm{] 入射平面波
XlPi)3m4/S 波长 2.08 nm
>3v
j<v}m 光斑直径: 3mm
[nx
OGa2 沿x方向线偏振
"Q>gQKgL q3CcXYY 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
6BnP"R. 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
qVvQ9? V ^ 概览
d[p-zn. •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
.d4L@{V •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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pr;z>|FgA> 光线追迹模拟
T=NF5kj-= •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
`~0^fSww •点击Go!
h}T+M BA% •获得3D光线追迹结果。
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(mgz&* Q"@x,8xW
tz).] E
D n[mVwQ(% 光线追迹模拟
'#;%=+=; •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
NQFMExg, •单击Go!
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n8L •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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N>+s8L.? 3>+9Rru 光场追迹模拟
=}$YZuzmU •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
h8ikM&fl •单击Go!
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fW'@+<b GW29Rj1 光场追迹结果(照相机探测器)
~)ecQ $wQkTx •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
`2B,+ytW8 •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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6c?;-5. w6PKr^ 光场追迹结果(电磁场探测器)
o)(N*tC 6<uJ}3 •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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