摘要
cj$,ob&DX 'jh2**i 34 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
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11i"nR| L=d$"Q 建模任务
slu$2-H ceqFQ
cge-'/8w%
=Ov9Kf 入射平面波
^it4z gx@ 波长 2.08 nm
'g. :MQ8 光斑直径: 3mm
Bfbl#ZkyL 沿x方向线偏振
g;$E1U=R-E w+Ad$4Pf" 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
^%-NPo< 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
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dJ 概览
FL59 •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
g* %bzfk=| •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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*zJD$+Fo 光线追迹模拟
b21}49bHN •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
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Ff77 •点击Go!
ZmNZS0j •获得3D光线追迹结果。
Q{O/xLf X>2?
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rZ pbu>S 'T%IvJ#Xu 光线追迹模拟
HS7R lU^ •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
[70Y,,w •单击Go!
o\d |CE;> •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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p#)e:/Qy %?@x]B9Y8E 光场追迹模拟
bG52s •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
Bhj:9%` •单击Go!
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D4d]3|/T |n)<4%i8J 光场追迹结果(照相机探测器)
#sL/y 0(\p<qq •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
(WJV.GcP1 •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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se!g4XEWD *}7U`Aa 光场追迹结果(电磁场探测器)
%z=`JhE"Q b"^\)|*4; •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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