摘要
aXOW +$, JI"&3H")g% 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
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$_ &Lp\ H YA< 建模任务
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y5e pv3SAO4 入射平面波
)Id.yv}_ 波长 2.08 nm
_lK+/"-l 光斑直径: 3mm
"xr=:[n[ 沿x方向线偏振
\Uz7ar#, sN"JVJXi 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
/"q
wC 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
D]P_tJI \E}YtN# 概览
hN#A3FFo L •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
#L3heb&9 •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
S)n+E\c `jI$>{oa
U3oMY{{EJ 光线追迹模拟
_klT •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
w!GPPW( •点击Go!
Xc>M_%+R
•获得3D光线追迹结果。
@2X{e7+D [5"F=tT7WP
AlVBhR` >14x.c 光线追迹模拟
mi`jY0e2 •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
w$`[C+L •单击Go!
CyHaFUbZ •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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z\kiYQ6kA n7>L&?N#y# 光场追迹模拟
WP}NHz4H •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
)XFaVkQ} •单击Go!
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9ZYT#h <3SO1@? 光场追迹结果(照相机探测器)
]YF_c,Q .%x1%TN •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
4?u<i=i •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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o`{@':%D` cYeC7l" 光场追迹结果(电磁场探测器)
rFJPeK7 R?Dc*, •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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