摘要
.S/zxf~h ,>kVVpu 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
w <"mS*Q iZeq
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;sAGT q Dr%wa b"yy 建模任务
+YW;63"o J!5b~8`v 
6XU p$Pd( o}/|"( K 入射平面波
DQXc f*R 波长 2.08 nm
h| wdx(4
光斑直径： 3mm
Kn@#5MC
rU 沿x方向线偏振
I{[Z
{GnZ@Q:F 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
dz +Dk6" R 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
w"dKOdY (g X8iKl 概览
NjEi.]L*fX •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
ug ;Xoh5w •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
`t)9u^[<( Lkx~>U
WfG +_iP? 光线追迹模拟
c$&({ Z{1 •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
@,k5T51m •点击Go！
'xkl|P>=], •获得3D光线追迹结果。
4E=v)C' {dpDQP +! 
{9V.l.Q m=^]93 + 光线追迹模拟
a <?~1pWtc •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
>J S^yVk •单击Go！
ZnI15bsDx •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
Q]N&^ E _Q
I!UQdW 
(,Q WK 08 v ]F4o1ckk 光场追迹模拟
-mRgB"8 •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
[*zg? ur •单击Go！
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o#f"wQH;p breF,d$ 光场追迹结果（照相机探测器）
=%I yR 8^j~uH •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
7(.Z8AO •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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o&%v"# H2 %ZWt 45A 光场追迹结果（电磁场探测器）
X]@"ZV[ ={oNY.(Q •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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