摘要
/W|=Or2oR z+5ZUS2~& 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
^ ,cwm:B@ H^d2|E[D
vvi[+$M Z[Z3x6
6 建模任务
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fO UW{s
2 -C*RHRx f{HjM?
Mb3 入射平面波
lSG"c+iV 波长 2.08 nm
r3}Q1b& 光斑直径: 3mm
\@8.BCWK 沿x方向线偏振
hI#1Ybl rlpbLOG` 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
qlU"v)Mx 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
{CaTu5\ SDbR(oV 概览
[Yyb)Qf •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
! N!A% •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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svWQk9d 光线追迹模拟
9 *+X^q' •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
j*fs [4 •点击Go!
a W9_[#z5 •获得3D光线追迹结果。
AzZb0wW6p 3 q^^Os
%>z)Q ,7/F?!G!J 光线追迹模拟
#*tWhXU •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
+FBUB •单击Go!
.l:x! •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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5h \!u 光场追迹模拟
7i##g, •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
xsERn F>` •单击Go!
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"/g\?Nce \\(3gB.Gd 光场追迹结果(照相机探测器)
x@Ze%$' "V3f"J? •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
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"^ •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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-oMp@2\e u}(K3H3 光场追迹结果(电磁场探测器)
G|+naZ N#&/d nV •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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