摘要
}u&,;] hha!uD~( 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
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;]A:(HSZj & Do|Hw 建模任务
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P;)
{u@w^
hZ$ yGZsPQIaV 入射平面波
-_p@I+B 波长 2.08 nm
`ZELw=kLL 光斑直径: 3mm
JM> 4m)h# 沿x方向线偏振
$-l\&V++F K=Y{iHn 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
J=7<dEm& 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
NxzRVsNF vWq/A . 概览
G}NT[ •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
}:9UI •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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A"pV 7
y 光线追迹模拟
&br_opNi •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
cjyb:gAO •点击Go!
[D= KI&@&O •获得3D光线追迹结果。
1 ,e`, <cNg_ZZ;8
H;kk:s' s3+6Z~g'B 光线追迹模拟
~9h/{$ •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
yIG* •单击Go!
=Xu(Js- •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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eW.[M ?, .p?kAf` 光场追迹模拟
rwCjNky! •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
a/s6|ri`0 •单击Go!
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^eHf'^Cvvu i48Tb7Rx~n 光场追迹结果(照相机探测器)
3oE3bBj 6j5?&)xJ •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
QCVwslj,K •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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9!UFLZR /'WVRa 光场追迹结果(电磁场探测器)
QJKVNOo t]PO4GA •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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