摘要
_oILZ, e2dg{n$6" 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
Jn#05Z eXYf"hU,
p9(|p Z ,(@J Ntx 建模任务
+wHrS}I#g %$*WdK#
#H5i$ o XaxM$ 入射平面波
Fs3rsig 波长 2.08 nm
MB!_G[R
光斑直径: 3mm
_1hiNh$ 沿x方向线偏振
FB>^1B]] JQ~[$OGH 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
|c)hyw?[Y 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
O u-/dE% hHsN(v 概览
C]bre^q •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
Q`B K
R]/ •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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TSEv^u)3 光线追迹模拟
8{f~tPY •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
%S$+3q%F •点击Go!
.*k$abb •获得3D光线追迹结果。
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z#|tcHVFT
99YgQ Y]HO t9\}!{<s 光线追迹模拟
)s~szmJoVD •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
$[xS>iuD •单击Go!
LZI[5tA " •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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zAkF:^#Y b uu /Nz$ 光场追迹模拟
{u(( y D •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
A?+0Ce&qL •单击Go!
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Py~1xf/ Jmml2?V-c 光场追迹结果(照相机探测器)
~#];&WE crbph.0 •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
$l=& •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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f6])M) U0ZPY )7k 光场追迹结果(电磁场探测器)
L&,&SDr /_[?i"GW •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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