摘要
c_j )8
=z7 Ay 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
,L;c{[*rh ::h02,y;1% 
Q-3J0= hJL0M ! 建模任务
~(L<uFU V ~S<F 
1Y"y!\t7G ]q\= 入射平面波
#' {PY r 波长 2.08 nm
(\[ !,T"[ 光斑直径： 3mm
x[h<3V" 沿x方向线偏振
E*#60z7 F _J$p < 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
8`R}L 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
^a0 -5 -
G2M;]Cn 概览
'}[L sU •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
QS Q\@h;E •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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mf_ 9O 光线追迹模拟
0 GLB3I > •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
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$,O@ •点击Go！
TuhL : •获得3D光线追迹结果。
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nJ`a1 L{N t7`Pw33#kY 光线追迹模拟
pHbguoH, •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
lb XkZ , •单击Go！
p[+me o •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
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XzwQ,+IAr HK4 `@jYQ 光场追迹模拟
?^A:~" ~ •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
AZ@Z o' •单击Go！
pt;Sk?-1 ]m,p 3 
kj"_Y"q= vxfh1B& 光场追迹结果（照相机探测器）
lfG&V +S1 CX2q7azG •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
RIpq/^Th •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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RJm8K,3# &:{yf= 光场追迹结果（电磁场探测器）
.j@n6RyN Ljs(<Gm )- •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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