摘要
8 K)GH:a _Vt9ckaA 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
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GN5* :8N
by$#V 建模任务
Sy mlirL V tU2& 
9j-;-`$S Yb Z?["S& 入射平面波
Z3u6m0! 波长 2.08 nm
GlJOb|WOX 光斑直径： 3mm
Su
+<mW 沿x方向线偏振
5UK}AkEe&x KRP6b:+4L 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
qM 3(OvCt 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
eE\ T,u5: XG YsTquSe 概览
oGbh * •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
fmLDufx •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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_ KyhX| 光线追迹模拟
7<2^8 ` •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
SF ^$p$mC •点击Go！
@|OGxQoC •获得3D光线追迹结果。
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*kj+6`:CPs ew c:-2Y^ 光线追迹模拟
+I:/8,&-x •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
N!\1O, •单击Go！
u2I@ fH/ •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
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P/k#([:2 P.^*K:5@ 光场追迹模拟
DD>n -8M@> •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
4JH^R^O<n
•单击Go！
u: wf :^ lx ~C{tl2 
.+lx}#-# 9%MgA ik( 光场追迹结果（照相机探测器）
DoICf1 d5=& :cF •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
.i#'IS0c •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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I#C usi3z9P>n 光场追迹结果（电磁场探测器）
LW!4KA] yio8BcXH54 •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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