摘要
\BB(0Ah+t f1R&Q 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
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.54E*V1 M6n9>aW4 建模任务
Vp3
9`m-W f"XFf@!
k~|nU KX*Hev'K 入射平面波
bkmW[w:M 波长 2.08 nm
S<n3wR"^ 光斑直径: 3mm
z4l
O 沿x方向线偏振
RG(m:N HV:mS* e 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
V\axOz! 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
ibDMhW$n 1FfdW>ay* 概览
]:* 8
Mb# •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
*SkUkqP9z •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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bXcDsP$. 光线追迹模拟
,#^<0u+zrF •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
W":is" •点击Go!
,e"A9ik# •获得3D光线追迹结果。
wv,,#P oo\0X
Ph&AP*Fq dZ!Wj7K) 光线追迹模拟
?sl 7C
gl •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
@_0g "Ul •单击Go!
hjiU{@q •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
sPNX) a,Gd\.D
fgFBOpG%Gq 7I;Give{ 光场追迹模拟
t+0&B" •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
e_J_rx •单击Go!
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]d"4G7mu`l hq9b 光场追迹结果(照相机探测器)
m:TS
.@p N"|^AF •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
bw#zMU^E •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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s~$kzEtjjU SsjO1F 光场追迹结果(电磁场探测器)
,hK0F3?H> D={|&:`L e •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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