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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-04-11
    摘要 O#[+= ^  
    m"3gTqG  
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 YT:])[gVV  
    g Mhn\  
    G.Z4h/1<  
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    建模任务 Y\#+-E  
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    "h.-qQGU%  
    概述 WGy3SV )  
    ynkPI6o  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 ~:h-m\=8Y  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 B?o ?LI  
    *WS'C}T  
    > wsS75n1  
    {|cuu"j26  
    光线追迹仿真 ^uZ!e+   
    &dA{<.  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 ?[Gj?D.Wc  
    •单击go! H|V q  
    •获得了3D光线追迹结果。 (y^[k {#  
    +[W_J z  
    <$m=@@qg  
    #p<1@,  
    光线追迹仿真 4(2iR0N  
    [}p/pj=  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 X MkyX&y  
    •单击go! i;+]Y   
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 t?bc$,S"\(  
    0LQ|J(u  
    }vzZWe  
    p~X=<JM  
    场追迹仿真 ^5BLuN6  
    Iv J ;9d  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 xw1@&QwM  
    •单击go! [):&R1U  
    |[%CFm}+?  
    4[q'1N6-  
    {3V%  
    场追迹仿真(相机探测器) p xj}%LH  
    Os1o!w:m5  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 N\ Nwmx  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 c5KJ_Nfi  
    Y$tgz)  
    {'(1c)q>  
    A4C4xts]N  
    场追迹仿真(电磁场探测器) ,B^NH7A:  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 |dLA D4%  
    _1<zpHp  
    [1Os.G2  
    I $5*Puy#  
    场追迹仿真(电磁场探测器) ?/EyfTex  
    BK+(Uf;g  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 d-cK`pSB  
    ,F4 _ps?(  
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