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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-04-11
    摘要 sC_doh_M  
    .ZupsS9l  
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 S& F;~  
    L0*f(H  
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    建模任务 cRWYS[O?-  
    s0'6r$xj  
    qmtH0I7)  
    概述 D2f~*!vEnA  
    *t`=1Ioj  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 ]+Z,HY@;-  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 M %!O)r#Pn  
    MC1&X'  
    B;t{IYhq{  
    +A1xqOB  
    光线追迹仿真 #e[igxwi  
    #'I<q  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 ]?_V+F  
    •单击go! >:0^v'[  
    •获得了3D光线追迹结果。 fr&K^je\  
    0y%s\,PsT  
    Zbf~E {  
    REPI >-|  
    光线追迹仿真 I.p"8I;  
    o4,9jk$  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 >fp_$bjd  
    •单击go! I=;=;-  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 "5"{~3Gw^  
    J!H)[~2/  
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    SKo*8r   
    场追迹仿真 tdNAR|  
    TlC? ?#  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 )!5"\eys  
    •单击go! <W/YC 2b  
    AbB+<0  
    o),@I#fM  
    UW&K\P  
    场追迹仿真(相机探测器) )Mh5q&ow  
    !(sL  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 >iI_bcqF  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 ,S1'SCwVdJ  
    BX2}ar  
    e'~<uN>  
    -pQ0,/}K  
    场追迹仿真(电磁场探测器) (]$&.gE.F  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Zig3WiD&  
    /KhY,G'Z  
    v>5TTL~?  
    !X1 KOG  
    场追迹仿真(电磁场探测器) Lt {&v ^y  
    CL5t6D9Qi  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 5G=fJAG  
    9w-;d=(Q  
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