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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-04-11
    摘要 A4{p(MS5  
    S;K5JBX0#  
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 Zg&o][T  
    V\nj7Gr:sF  
    ~J![Nx/  
    83!{?EPE  
    建模任务 mFrDV,V  
    !~Ptnr`;  
    z'&tmje[?  
    概述 E_ D0Nm%n  
    -q30tO.  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 b6NGhkr'\  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 +z|@K=d#|  
    eb>jT:  
    Oq*;GR(Q  
    yu}yON  
    光线追迹仿真 9]%2Yb8SC  
    q8!X^1F7  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 Yb\d(k$h  
    •单击go! ] ^53Qbrv  
    •获得了3D光线追迹结果。 8ByNaXMO6  
    VA5f+c/ %  
    BG8`B'i  
    /:@)De(S  
    光线追迹仿真 d7G DIYH<  
    K=1prv2  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 -Q6Vz=ku  
    •单击go! /'a\$G"%6  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 Vg~10Q  
    _>J`e7j+  
    ~gdnD4[G  
    zF@[S  
    场追迹仿真 T3NH8nH9"z  
    &NX7  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 `=lo.c  
    •单击go! u7S C_3R  
    eD|"?@cE  
    M5:j)o W  
    vNHvuw K  
    场追迹仿真(相机探测器) biG :Xn  
    A,EuUp  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 o@L2c3?c5  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 >8|V[-H  
    cB)tf S4)  
    ^^g u  
    \]0#jI/:  
    场追迹仿真(电磁场探测器) y&V%xE/  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 <v!jS=T  
    pVM1%n:#  
    + 2w<V0V_  
    {:#c1d2@8  
    场追迹仿真(电磁场探测器) " {X0&  
     z31g"  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 2 sj: &][R  
    Wuk!\<T{  
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