[技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

摘要 '1fyBU  
yW\kmv.O  
高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 s,pg4nst56  
OF)*kiJ  

图片:1-191125164532947.png

EcSu[b  
ori[[~OyB  
建模任务 F~hH>BH9  
.TDg`O24c,  

图片:1-1911251A00R22.png

:h/v"2uDN  
概述 1)qD)E5&cf  
g[uf e<  
•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 ?GtI.flV  
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 }f% Qk0^  
QAMcI:5  

图片:1-1911251A211D3.png

fC[~X[H  
&Vu-*?  
光线追迹仿真 ,7DyTeMpN  
D~|q^Ms,%  
•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 ?AQA>D#W  
•单击go！ rY&#g%B6Fp  
•获得了3D光线追迹结果。 +(z[8BJl  
"DH>4Q] d  

图片:1-1911251A23G14.png

*65~qAd  
dWe
%6s;   
光线追迹仿真 &3xda1H  
jxt]Z3a~0  
•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 VVpJ +  
•单击go！ OECVExb@eH  
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 =vriraV"  
Ul'H(eH.v  

图片:1-1911251A311b4.png

-w8?Ur1x:  
h(3-/4  
场追迹仿真 -^;,m=4{3  
J4z&J SY  
•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 - DYH>!  
•单击go！ hJw]hVYa  
tw.z5  

图片:1-1911251A335531.png

+Jn\`4/J:  
,S@B[+VZ  
场追迹仿真（相机探测器） zwP*7u$CH  
<Lt"e8Z>x  
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 fA[T5<66  
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 4cJ/XgX  
Ge=\IAj  

图片:1-1911251A41O04.png

"{3|(Qs  
HCe/!2Y/%  
场追迹仿真（电磁场探测器） BQeg-M  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 IjQgmS~G  
SJi;_bVf  

图片:1-1911251A519A0.png

BO6XY90(  
Gl6:2  
场追迹仿真（电磁场探测器） 9>vB,8  
?P#\CW  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 (Kg)cc[B`  
7 n^1H[q  

图片:1-1911251A5594c.png