我国科研团队完成一种新型光刻胶技术初步验证

日前，华中科技大学与湖北九峰山实验室组成联合研究团队，突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。相关成果日前以《Dual nonionic photoacids synergistically enhanced photosensitivity for chemical amplified resists》为题，发表在《化学工程杂志》上。

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据介绍，这一具有自主知识产权的光刻胶体系已在生产线上完成了初步工艺验证，并同步完成了各项技术指标的检测优化，实现了从技术开发到成果转化全链条打通。

光刻胶是半导体制造不可或缺的材料，其质量和性能是影响集成电路电性、成品率及可靠性的关键因素。但光刻胶技术门槛高，市场上制程稳定性高、工艺宽容度大、普适性强的光刻胶产品屈指可数。

当半导体制造节点进入到100纳米甚至是10纳米以下，如何产生分辨率高且截面形貌优良、线边缘粗糙度低的光刻图形，成为光刻制造的共性难题。

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该研究通过巧妙的化学结构设计，以两种光敏单元构建“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”，最终得到光刻图像形貌与线边缘粗糙度优良、space图案宽度值正态分布标准差（SD）极小（约为0.05）、性能优于大多数商用光刻胶，且光刻显影各步骤所需时间完全符合半导体量产制造中对吞吐量和生产效率的需求。

据悉，该研究成果有望为光刻制造的共性难题提供明确的方向，同时为极紫外线光刻机光刻胶的着力开发做技术储备。

相关链接：https://doi.org/10.1016/j.cej.2024.148810