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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-03-27
    摘要 @A6 P[r  
    lAuI?/E  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 l(|@ dp  
    zM?JLNs]<{  
    Qe<D X"  
    场景 FaO=<jYi  
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    f6n'g:&.W  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 -Gjz;/s%XH  
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    系统构建块 @Q~Oc_z  
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    组件求解器 jeM %XI  
     J5 PXmL  
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    系统构建块  mD`v>L  
    ta\AiHm  
    bp Q/#\Z  
    I\J ^@&JE  
    总结 !}fq%8"-  
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    @MMk=/WDw  
    Yg@k +  
    几何光学仿真 pX3Q@3,$  
    通过光线追迹 S(xlN 7=  
    $,R QA^gxW  
    结果:光线追迹 E'qGKT  
    9 A0wiKp  
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    IfF@$eO  
    快速物理光学仿真 #=r:;,,  
    通过场追迹 %:rct  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ^b)8l  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 9&e=s<6dO  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 fW^\G2Fk  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 tHgn-Dhzr  
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    总结 R7YL I1ov  
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