[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 V*s\~h)  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 4$vUD1('  
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 NVkYm+J#  
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图片:1-21050H24314539.png

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在VirtualLab Fusion中构建系统 *>qc6d@'  
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系统构建块 AaB1H7r-  
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图片:1-21050H24406210.png

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组件求解器
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图片:1-21050H24431134.png

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系统构建块 d!<>Fh^6,  
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总结 L=Aj+  
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几何光学仿真 rr`_\ut  
通过光线追迹 }vB{6E+h/w  
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结果：光线追迹 w_`;Mn%p  
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快速物理光学仿真 0hkYexX73  
通过场追迹 ?\4kV*/Cqz  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 R3_;!/
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 l#ct;KZ  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 QrSO%Rm1*  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 dwvc;f-  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 i/8OC  
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