[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 +mhYr]Z  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 LSlaz  
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 'VFxg,  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 l
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系统构建块 ~!meO;|W  
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组件求解器 &WN4/=QW-J  
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系统构建块 ;j=/2vU~@  
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总结 l-_voOP  
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几何光学仿真 tvP_LNMF  
通过光线追迹 Qc\JUm]  
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结果：光线追迹 y`:}~nUdT  
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快速物理光学仿真 eHF#ME  
通过场追迹 iOPv %[  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 AnU,2[(  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Y4){{bEp  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 !e&ZhtTuC  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 +Q If7=  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 jiYYDGs77  
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图片:1-21050H2491WT.png