[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 FM,o&0HSd  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 @B9O*x+n:  
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 OMm'm\+/  
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图片:1-21050H24314539.png

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在VirtualLab Fusion中构建系统 =;{8)m  
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系统构建块 r1a/'+  
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图片:1-21050H24406210.png

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组件求解器 jhB+ ]  
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图片:1-21050H24431134.png

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系统构建块 %`0*KMO3  
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图片:1-21050H24504963.png

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总结 .6A{   
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几何光学仿真 ?7dV:]%~2  
通过光线追迹 ;\ gat)0n%  
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结果：光线追迹 G5*_  
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 lin  
通过场追迹 qkD9xFp  
K}8wCS F  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 9M7Wlx2  
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图片:1-21050H24F9561.png

G\#dMCk?  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 O6]X\Cwj%  
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A+  

图片:1-21050H24JA60.png

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Q+Ya\1$6A  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 m`#UV-$J  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 J-W8wCq`  
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图片:1-21050H2491WT.png