[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 qa>Z?/w  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 7x6q:4Ep\  
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 0keqtr  
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图片:1-21050H24314539.png

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在VirtualLab Fusion中构建系统 %E1_)^^  
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系统构建块 n'WhCrW  
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组件求解器 x{
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系统构建块 K<BS%~,I  

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总结 |sG@Ku7~4  
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几何光学仿真 f( %r)%  
通过光线追迹 e!eUgD  
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结果：光线追迹 [/P}1 c[)U  
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快速物理光学仿真 y2_^lW%  
通过场追迹 IY* ~df  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 _0ra
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 h
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 }mhD2'E  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 +WxZB  
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