[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 W[Ls|<Q  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 _lamn}(x0  
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 3j\1S1  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 tfj:@Z5&$C  
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系统构建块 vX/T3WV  
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图片:1-21050H24406210.png

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组件求解器 |5lk9<z  
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系统构建块 Dfmjw  
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总结 'uBu6G  
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几何光学仿真 t'n pG}`tE  
通过光线追迹 JRB9rSN^  
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结果：光线追迹 hgPa
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快速物理光学仿真 !|^|,"A)  
通过场追迹 UtoT  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 %)1y AdG 8  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 'jWr<]3  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 >g1~CEMN#  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ZMQZs~;~d  
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总结 W+I!q:p4H  
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