[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 8+'}`  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 N^;lp<{6?  
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 {<-s&%/r  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 S@,/
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系统构建块 Vl5r~+$|  
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组件求解器 #}~tTL  
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系统构建块 -h8mJ D%Oi  
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总结 Sm/8VSY  
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几何光学仿真 3U6QYD55]]  
通过光线追迹 /E6)>y66  
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结果：光线追迹 JQ+Mg&&Q  
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 L91(|gQP  
通过场追迹 sX?arI=_U  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 /IirTmFK  
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图片:1-21050H24F9561.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 |1wZ`wGZ:L  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 >D=X Tgqqq  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 za6 hyd^  
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总结 >uCO=T,|  
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图片:1-21050H2491WT.png