[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 Dk`4bYK  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 (9}eF)+O  
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 S,9NUt  
X 45x~8f  

图片:1-21050H24314539.png

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在VirtualLab Fusion中构建系统 Z'Exw-ca  
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系统构建块 Q(|PZng  
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图片:1-21050H24406210.png

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组件求解器 YlswSQ  
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系统构建块 >4n+PXRXX  
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总结 gi6g"~%@q1  
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X E|B)Q(  
几何光学仿真 4k8*E5cx  
通过光线追迹 M|\^UF2e  
Y3-gUX*w0  
结果：光线追迹 x_*%*H  
%*wzO9w4  

图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 lnS(&`oh\=  
通过场追迹 #/Ruz'H1>  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦
N]NF\7(  
4&QUh+F  

图片:1-21050H24F9561.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 v??TJ^1  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 r9# \13-  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 T.REq4<  
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图片:1-21050H24U19D.png

O.,3
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总结 5;\gJf  
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