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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-03-27
    摘要 JEK%yMj  
    yiv RpSL  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 j:rs+1bc  
    x*,q Rew  
    |: 7EJkKZ  
    场景 6SW|H"!!  
    )[y!m9Vn  
    5@R15q@c6n  
    gZ `#tlA~  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 z{D$~ ob  
    Q8}TNJsU  
    系统构建块 %9~kA5Qj  
     ?;ALF  
    uJ|5 Ve  
    >+A1 V[  
    组件求解器 :w {M6mM>  
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    系统构建块 =\ Tud-1Z  
    k2_6<v Z  
    &dZ.+#8r  
    @mQ/W Ys  
    总结 wa(Wit"-  
    {jx#^n&5R  
    Sg_-OX@f  
    K*HVn2OV  
    几何光学仿真 @ 2%.>0s.  
    通过光线追迹 K d`l[56#  
    ~u?x{[  
    结果:光线追迹 A3 Rm 0  
    DMK"Q#Vw  
    >"sKfiM)b  
    ~Me&cT8  
    快速物理光学仿真 G +nY}c  
    通过场追迹 6,g5To#vw  
    -Iruua7b  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 5x1%oC  
    Vne. HFXA  
    \DcC1W  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ,h wf  
    QAOk  
    L!+[]tB  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 qs8K jG@  
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    Ro3I/NI>  
    zM8/ s96h  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 @WDqP/4  
    *]>OCGsr  
    4Ow Vt&  
    3$kv%uf{  
    总结 Me K\eZ\  
    (W}i287  
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