[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 lZD"7om  

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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 257q%"  
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 }[ByN).  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 ajD/)9S
 
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系统构建块 1K{hj%  
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组件求解器 n`|CDKb  
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系统构建块 Dmn{ppfyb  
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总结 1tFx Z#(G  
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几何光学仿真 Z(o]8*;Ai  
通过光线追迹 VKHzGfv  
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结果：光线追迹 a*Ng+~5)6  
5OHF=wh  

图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 C'fQ Z,r-v  
通过场追迹 OG2&=~hOz-  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 8fQaMn4V  
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图片:1-21050H24F9561.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 oJVpJA0IA  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 3Cl&1K #5  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 >D*%1LH~V  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 c:_dW;MJ0  
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