[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 cqi: Rj  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 -i7W|X"  
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场景 OT\[qaK  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 YjoN:z`b  
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系统构建块 'l!tQD!  
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组件求解器 Ri"3o  
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系统构建块 9=K=gfZ  
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总结 a<rk'4,8a  
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几何光学仿真 khyn4   
通过光线追迹 %, XyhS5[o  
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结果：光线追迹 <pK
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快速物理光学仿真 #xNLr  
通过场追迹 Tmg~ZI:MW  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 C
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Z1wN+Y.CA  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 q1;}~}W;z4  
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