[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 _2Mpzv  
GvZ[3GT  
在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 msY6zJc`  
5>lIrBf
 
h5(OjlMC  
场景 aS``fE;O  
Cu!]-c{  
_+.JTk  
MdN0 Y@Ll  
在VirtualLab Fusion中构建系统 3W%j^nM  
\ef:H&r  
系统构建块 BOWBD@y  
7pou(U  
fW[ .Q0  
+D2I~hC0'  
组件求解器 LmytO$?2(  
ac\([F-  
0*_E'0L8e  
`?
O0)  
系统构建块 &isKU8n  

P)cEYk  
u HW'F(;  
[N12X7O3  
总结 :yRv:`r3Lt  
oKCv$>Y  
#IJeq0TVB  
A$]s{`  
几何光学仿真 jwUX?`6jX  
通过光线追迹 ]T'7+5w  
}=}wLm#&1  
结果：光线追迹 4Us_Z{.  
[(gXjt-  
;s;3cC!  
tt#dO@G#Fe  
快速物理光学仿真 y/5GY,z%aL  
通过场追迹 Kk*8  
S8Y\@C?5  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 l&}}Io$?@  
N/ f7"~+`  
{VKFw=$8  
\H~zN]3^  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 9?8PMh.  
;1s+1G}_z  
bK.*v4RG  
1Qu@pb^  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ^5.XQ0n  
L
SP p  
<N1wET-  
g`%in  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 /isalOT  
]8}51y8  
 ?C#E_  
0ZM(heQ  
总结 g;v;xlY`N  
Xl$,f`f~