[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 Rzp-Q5@MY  
Ex<loVIrP$  
在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 !|D,cs  
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 7\.5G4dr%  
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图片:1-21050H24314539.png

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在VirtualLab Fusion中构建系统 #p^D([k \  
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系统构建块 W*P/~U=  
@ ~PL|Pp_  

图片:1-21050H24406210.png

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组件求解器 1_A< nt?'R  
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系统构建块 5'X.Z:  
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总结 @hk~8y]rz  
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几何光学仿真 |',Gy\Sj  
通过光线追迹 J5429Soo  
i),W1<A1  
结果：光线追迹 *edB3!!  
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 Y6+nfh_  
通过场追迹  E;k'bz  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 1%H]2@  
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图片:1-21050H24F9561.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ='a$>JVJ5  

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图片:1-21050H24JA60.png

O.}{s;  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 _E3*;  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 'RXh
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 OT+LQ TE  
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图片:1-21050H2491WT.png