[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 }fR,5|~X  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 `^9(Ot $  
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场景 ~8T(>!hE1h  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 ,`A?!.K$  
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系统构建块 a`(a)9i  
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组件求解器 ~z5R{;Nbz|  
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系统构建块 clw%B  
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总结 LPYbHo3fq  
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几何光学仿真
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通过光线追迹 COzyG.R.  
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结果：光线追迹 '_k+WH&  
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快速物理光学仿真 P +"Y  
通过场追迹 {gNV[45  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 jOpcV|2  

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 mI*[>#q>  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 l {jmlT  
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总结 mC?i}+4>4R  
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