[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要  ZQY]c  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 d*M:PjG@  
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 *bOgRM[  
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图片:1-21050H24314539.png

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在VirtualLab Fusion中构建系统 Vr|sRvz  
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系统构建块 53g(:
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图片:1-21050H24406210.png

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组件求解器 jDyG~de  
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系统构建块 K6..N\7  
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图片:1-21050H24504963.png

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H N )@sLPc  
总结 \DgWp:|  
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几何光学仿真 UA%tI2  
通过光线追迹 R9-Ps qmF  
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结果：光线追迹 #rps2nf
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 9 M<3m  
通过场追迹 u?a4v\  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 79Y;Zgv  
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图片:1-21050H24F9561.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 c]OK)i-{l  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 {*lRI  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ;vkk$ -  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 %aHQIoxg  
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图片:1-21050H2491WT.png