[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 @QVqpE<|  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 Y(hW(bd;  
$c@w$2  

图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 e' U"`)S  
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图片:1-21050H24314539.png

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SLJ&{`"7
 
在VirtualLab Fusion中构建系统 pwFU2}I  
X!7VyE+n  
系统构建块 q:Y6fbt<7  
<2)s<S.;  

图片:1-21050H24406210.png

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UT
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组件求解器 Gh]_L+  
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图片:1-21050H24431134.png

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a>wfhmr  
系统构建块 zH)cU%I@.  
F . K2  

图片:1-21050H24504963.png

.e`,{G(5q7  
M11"<3]D  
总结 r-RCe3%g%  
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图片:1-21050H24542394.png

hD nM+4D  
)Qh>0T+(  
几何光学仿真 R*s* +I  
通过光线追迹 U/T4i#  
N#(jK1`y  
结果：光线追迹 .MDYGWKt  
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8  

图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 hc-lzYS  
通过场追迹 H
Qq`pG%m6  
n,t6v5>88  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 79)A%@YHQQ  
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图片:1-21050H24F9561.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 NTqo`VWe  
W8f`J2^"M  

图片:1-21050H24JA60.png

X'cf&>h  
c]A Y  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 G1}~.%J  
^9&b+u=X  

图片:1-21050H24QT15.png

p/r~n'g$  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 `5~7IPl3  
4\p$4Hs}  

图片:1-21050H24U19D.png

H76E+AY  
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总结 xTW3UY  
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图片:1-21050H2491WT.png