[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 TQd FC\@f"  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 #(+HSZm  
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场景 Z_ gVYa  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 @1&;R  
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系统构建块 ;u};&sm  
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组件求解器 pb6^sA%l  
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系统构建块 if[o?6U4t  
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总结 x~9z`d{!  
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几何光学仿真 T E&Q6  
通过光线追迹 tkN3BQ  
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结果：光线追迹 y^QYlZO  
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 5\w=(c9A  
通过场追迹 HCx%_9xlm  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 t&9as}  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 l!;_lH8W$  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 T018)WrhL  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 /NW>;J}C  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 b=K6IX;  
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