[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 q^],K'  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 >jjuWO3T  
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 AY['!&T  
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图片:1-21050H24314539.png

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在VirtualLab Fusion中构建系统 Q7O8']~n  
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系统构建块 *V(TNLIh;  
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图片:1-21050H24406210.png

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组件求解器 $F
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图片:1-21050H24431134.png

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系统构建块 \;x+KD  
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图片:1-21050H24504963.png

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总结 Ie>)U)/$  
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几何光学仿真 jJ-j   
通过光线追迹 {,p<!Jq~G  
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X:=~m  
结果：光线追迹 EeWCy5W  
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 `-S6g^Y  
通过场追迹 V}ZF\SG(K  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Gc}d#oo*k  
-G2'c)DR  

图片:1-21050H24F9561.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Qy |*[  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 +9>t; Ty  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 w$UWfL(  
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图片:1-21050H24U19D.png

Ak[}s|,)  
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总结 I?@9;0R  
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图片:1-21050H2491WT.png