[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 dcew`$SJp  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 Q&S\?cKe  
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 R/&Bze  
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在VirtualLab Fusion中构建系统  K6d9[;F  
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系统构建块 :yO.Te F  
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组件求解器 r*'a-2Au  
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系统构建块 ?4vf2n@  
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总结 :I*G tq   
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几何光学仿真 Q[+&n*  
通过光线追迹 hqOy*!8'@  
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结果：光线追迹 ~7a(KJgvd"  
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快速物理光学仿真 _' KJ:3e  
通过场追迹 -v"\WmcS  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 C":i56  
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图片:1-21050H24F9561.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 jzCSxuZ7O  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 mqxgrb7  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 /Xa_Xg7  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 "o.V`Bj  
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