[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 ^H p; .f.  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 B?eCe}*f;B  
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场景 D
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图片:1-21050H24314539.png

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在VirtualLab Fusion中构建系统 oM
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系统构建块 h/QXPdV  
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组件求解器 =Pyj%4Rs  
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系统构建块 6gU96Z  
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总结 D5gFXEeh  
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几何光学仿真 cRC6 s8  
通过光线追迹 ~V:\ _{mE  
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结果：光线追迹 DcS+_>a\{l  
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 SjK  
通过场追迹 h<h%*av|  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦  }t!Gey  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ^23~ZHu  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 \wmN  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 !OZy7  
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总结 T%+#xl  
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图片:1-21050H2491WT.png