[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 '/sc `(`:0  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 T&R`s+7  
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场景 2Cr+Z(f  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 W/\7m\B  
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系统构建块 M2s   
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图片:1-21050H24406210.png

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组件求解器 PN.6BJvu  
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系统构建块 iEU(1?m2-  
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图片:1-21050H24504963.png

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总结 qnA:[H;F  
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几何光学仿真 yq<YGNy!  
通过光线追迹 sRMzU  
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结果：光线追迹 Ja (/ym^  
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快速物理光学仿真 o?b%L
 
通过场追迹 lyi}q"Kn*;  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 eT|_0kx1  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 `j(+Y  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 z=fag'fzM  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 nY8UJy}<oL  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 i f"v4PHq  
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