线下培训 | Ansys Zemax 成像设计线下培训

本次培训主题为『Ansys Zemax 成像设计』，由宇熠高级光学工程师主讲，针对序列成像设计，帮助学员们掌握 优化技巧、公差分析技巧、热分析、像质评价、坐标变换 等知识点。线下培训学习效率更高、更丰富、更精准，可直接与老师面对面交流提问，当场解决记忆深刻。

图片:成像设计.jpg

我们总结了往年线上和线下培训的经验，重新梳理细化了整个课程体系和教学资料，让学员能够在培训期间快速提升自己。

01 我们能够解决这些问题：

武汉宇熠有自己的培训计划，不同于只讲解软件使用的教程，我们更注重理论基础和实际操作，万丈高楼平地起，我们将带领学员深入学习成像设计，探索光学的魅力。

武汉宇熠有经验丰富的光学工程师团队，老师全程线下授课、教学内容通俗易懂，贴合学员自身的项目。

武汉宇熠拥有宽敞明亮的培训教室，各种设施一应俱全为学员创造良好的学习环境和氛围。教室内有大量的光学行业相关书籍，另外内部资料和讲义可向学员开放。

02 培训信息

主题：Ansys Zemax 成像设计

主办方：武汉宇熠科技有限公司

时间：2024年4月10日-12日（共三天）

地点：湖北武汉

03 课程安排

注意：

1、课堂上统一发送配套的培训教材。

2、学员自备笔记本电脑，培训结束后将为每位学员颁发培训证书。

3、为提高培训效率，本次培训采用小班授课模式。培训名额有限，欲报从速。

4、如报名人数未达最低开课标准，武汉宇熠有权取消或延迟本门课程， 具体情况以开课前一周通知为准。

04培训费用

费用：¥ 3980元 / 人

· 三人及以上组团报名可享受八折优惠；

· 费用含培训、教材、发票、证书，其他费用自理；

· 发票统一开“培训服务费”。

报名方式：扫码报名

我们诚意邀请各位光学同行踊跃参与本次培训，相聚武汉一起交流经验，期待与您相见。