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Wm(:P 内容简介 ;Z*'D} Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 vevf[eO- 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 iX{H,-C 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ;u,rtEMy; hfg
O 讯技科技股份有限公司 N`HSE=u>
Qwv '< 目录 Pg
Syt Preface 1 >b>gr OX 内容简介 2 KSc~GP_ 目录 i q[P~L`h S 1 引言 1 [t{](- 2 光学薄膜基础 2 8"i/wMP] 2.1 一般规则 2 Pu..NPl+ 2.2 正交入射规则 3 "R23Pi 2.3 斜入射规则 6 @bT3'K-4 2.4 精确计算 7 KzG_ << 2.5 相干性 8 D"cKlp-I6| 2.6 参考文献 10 %K?iNe 3 Essential Macleod的快速预览 10 0~]QIdu{AR 4 Essential Macleod的特点 32 b/nOdFO@ 4.1 容量和局限性 33 wWTQ6~Y%d 4.2 程序在哪里? 33 333u] 4.3 数据文件 35 !!WJn} 4.4 设计规则 35 ra:GzkIw 4.5 材料数据库和资料库 37 I8k 4.5.1材料损失 38 5mavcle{4r 4.5.1材料数据库和导入材料 39 s`c?: 4.5.2 材料库 41 4)^vMG& 4.5.3导出材料数据 43 WYLX?x 4.6 常用单位 43 @+&'%1 4.7 插值和外推法 46 ]RD5Ex!K? 4.8 材料数据的平滑 50 BC({ EE~R) 4.9 更多光学常数模型 54 59i] 4.10 文档的一般编辑规则 55 2ce'fMV 4.11 撤销和重做 56 _R74/| 4.12 设计文档 57 ZoxS*Xk 4.10.1 公式 58 <Oa9oM},d 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 $)*xC!@6X 4.10.3 沉积密度 59 Lm|al.Z 4.10.4 平行和楔形介质 60 hgO?+x 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 lsY `c"NW> 4.10.4 性能 61 5
`=KyHi:b 4.10.5 保存设计和性能 64 h<Wg 3o 4.10.6 默认设计 64 v459},!P 4.11 图表 64 k 4B_W 4.11.1 合并曲线图 67 ~<,Sh~Ana. 4.11.2 自适应绘制 68 -~O/NX 4.11.3 动态绘图 68 W-XpJ\_ 4.11.4 3D绘图 69 P}@*Z>j:# 4.12 导入和导出 73 &@6 GI< 4.12.1 剪贴板 73 XG&K32_fs 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 El
(/em 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 t',BI 4.13 背景 77 "PzP;Br 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 iBoEZEHjw 4.15 生成Rugate 84 g1@wf 4.16 参考文献 91 *1bzg/T< 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ug#<LO-.Rd 5.1 Jobs 92 $.:3$et@/ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 tD-gc''H 5.3 输入材料 94 nxQ}&n 5.4 设计数据文件夹 95 !SF^a6jT 5.5 默认设计 95 Yy
h=G 6 细化和合成 97 jczq`yW 6.1 优化介绍 97 _Adsq8sFW 6.2 细化 (Refinement) 98 ]:et~pfW 6.3 合成 (Synthesis) 100
jBpVxv 6.4 目标和评价函数 101 Q2c*.Y 6.4.1 目标输入 102 9j#@p 6.4.2 目标 103 ETp'oh}? 6.4.3 特殊的评价函数 104 v!trsjb 6.5 层锁定和连接 104 x?L hq2 6.6 细化技术 104 ^i`*Wm@! 6.6.1 单纯形 105 "EH,J 6.6.1.1 单纯形参数 106 l1<?ONB.# 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 :;4SQN{2
O 6.6.2.1 Optimac参数 108 +(mL~td01 6.6.3 模拟退火算法 109 Mm#[&j[Y 6.6.3.1 模拟退火参数 109 Dp^/gL= 6.6.4 共轭梯度 111 U3F3((EYJ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
%+wF" 6.6.5 拟牛顿法 112 cy1jZ1) 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 z*LiweR- 6.6.6 针合成 113 $Ha%Gr 6.6.6.1 针合成参数 114 9=$!gC) 6.6.7 差分进化 114 ;+`uER 6.6.8非局部细化 115 gX,9Gh 6.6.8.1非局部细化参数 115 U9#WN.noG 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ,%hj cGX11 6.7.1 细化 116 %&<W(|U1< 6.7.2 合成 117 D$nK`r 6.8 参考文献 117 5@P-g 7 导纳图及其他工具 118 te'*<HM 7.1 简介 118 X/+OF'po 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ;fGx;D 7.2.1 四分之一波长规则 119 'm O2t~n 7.2.2 导纳图 120 8#59iQl 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 R0<< f] 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 AuCWQ~ 7.5 斜入射导纳图 141 &1GUi{I 7.6 对称周期 141 VPd,]]S5( 7.7 参考文献 142 &iSD/W 8 典型的镀膜实例 143 AyTx' u 8.1 单层抗反射薄膜 145 (~()RkT 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 5 =Z!hQ} 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 )i!^]| $ 8.4 W-膜层 148 Q6^x8 8.5 V-膜层 149 R8<eN9bJ9 8.6 V-膜层高折射基底 150 QIV%6q+*R 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 daX*}Ix 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 \##`pa(8 8.9 四层抗反射薄膜 153 Pp_V5,i\ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 ]}LGbv"`A 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 S()Za@ [a$ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 -&Gfh\_NW 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 7co`Zw4}g 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 7ZFJexN] 8.15十五层宽带抗反射膜 159 8QF`,oXQO 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 J70D+ 8.17 1/4波长堆栈 162 zk=\lp2 8.18 陷波滤波器 163
yP\Up 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 o^ h(#%O 8.20 褶皱 165 7Dt"]o"+ 8.21 消偏振分光器1 169 _Bk
U+=|J 8.22 消偏振分光器2 171 b3U6;]|x 8.23 消偏振立体分光器 172 *gu8-7' 8.24 消偏振截止滤光片 173 'IQsve7cI 8.25 立体偏振分束器1 174 HDS"F.l5 8.26 立方偏振分束器2 177 o&-L0]i| 8.27 相位延迟器 178 R^P_{_I*" 8.28 红外截止器 179 ?~F. / 8.29 21层长波带通滤波器 180 8/Rm!.8+~ 8.30 49层长波带通滤波器 181 JJf<*j^G 8.31 55层短波带通滤波器 182 Lko`F$5X 8.32 47 红外截止器 183 8tQ|-l* 8.33 宽带通滤波器 184 .3wY\W8Dr- 8.34 诱导透射滤波器 186 Iql5T#K+ 8.35 诱导透射滤波器2 188 0BTLcEqgZ 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ^M
Ey, 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 |9,UaA 8.35 增益平坦滤波器 193 ((MLM3zJ 8.38 啁啾反射镜 1 196 1d v=xe. 8.39 啁啾反射镜2 198 h<3p8eB 8.40 啁啾反射镜3 199 B\_[R'Pf& 8.41 带保护层的铝膜层 200 wO!u!I 8.42 增加铝反射率膜 201
Hg(5S,O2 8.43 参考文献 202 a%K}j\M 9 多层膜 204 xm^95}80yh 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 r!K|E95oj9 9.2 内部透过率 204 5py R~+ 9.3 内部透射率数据 205 @"8R3BN 9.4 实例 206 jXR16| 9.5 实例2 210 gdi`x|0 9.6 圆锥和带宽计算 212 - L~Uu^o 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 }kPVtSQ 10 光学薄膜的颜色 216 oI@9}* 10.1 导言 216 H/jm
f5 10.2 色彩 216 \ 4gXY$`@ 10.3 主波长和纯度 220 xzikD,FV 10.4 色相和纯度 221 - ]Y wl 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 7~vqf3ON4J 10.6 色差 226 Z .Pi0c+ 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 GS%b=kc 10.8 颜色渲染指数 234 sh6(z?KP 10.9 色差计算 235 T]71lRY5 10.10 参考文献 236 6tdI6 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 abWl ut 11.1 短脉冲 238 =kFuJ
x)f 11.2 群速度 239 _!:@w9 11.3 群速度色散 241 D 'L{wm 11.4 啁啾(chirped) 245 )w"0w( 11.5 光学薄膜—相变 245 )iSy@*nY 11.6 群延迟和延迟色散 246 ']?=[`#NL 11.7 色度色散 246 JEHK:1^ 11.8 色散补偿 249 o#e7,O 11.9 空间光线偏移 256 r~oSP^e' 11.10 参考文献 258 cyMs(21 12 公差与误差 260 ;BI)n]L 12.1 蒙特卡罗模型 260 xNgt[fLpS 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ]^@0+! 12.2.1 误差工具 267 yWHne~! 12.2.2 灵敏度工具 271 re uYTH 12.2.2.1 独立灵敏度 271 d@g2k> > 12.2.2.2 灵敏度分布 275 k/#>S*Ne 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 .B$h2#i1 12.3 参考文献 276 =|0/Ynfe 13 Runsheet 与Simulator 277 }W}G X(?P 13.1 原理介绍 277 T
% / 13.2 截止滤光片设计 277 ORH93` 14 光学常数提取 289 HV\"T(89 14.1 介绍 289 =pp:j`B9( 14.2 电介质薄膜 289 $l"MXxx5I 14.3 n 和k 的提取工具 295 2U%qCfh6| 14.4 基底的参数提取 302 W)-hU~^OM 14.5 金属的参数提取 306 RVP 18ub.S 14.6 不正确的模型 306 XS|mKuMcC 14.7 参考文献 311 Ab
g$W/(| 15 反演工程 313 %6 ]\^ 15.1 随机性和系统性 313 M(5D'4. 15.2 常见的系统性问题 314 h5!d 15.3 单层膜 314 -+P7:4/ 15.4 多层膜 314 mV zu~xym 15.5 含义 319 D rTM$) 15.6 反演工程实例 319 a#QByP 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 {^wdJZ~QLK 15.6.2 反演工程提取折射率 327 gj;@?o0 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 @1.9PR$x 16.1 光学性质的热致偏移 329 S'@=3) 16.2 应力工具 335 {8:o?LnMW 16.3 均匀性误差 339 [&daG |