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/w?e(v< 内容简介 LE8<JMB Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 aS [[
AL 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 '3l TI 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 uos8Mav{E E`fG9:6l] 讯技科技股份有限公司 ,sL'T[tuiU
]M5~p^ RB 目录 juHL$SGC Preface 1 m# {'9 | 内容简介 2 U?0|2hR~ 目录 i G)7U&B 1 引言 1 &O'W+4FAc 2 光学薄膜基础 2 ZE=sw}= 2.1 一般规则 2 *J-pAN
2.2 正交入射规则 3 81Kf X {| 2.3 斜入射规则 6 6(8F4[D 2.4 精确计算 7 0<m7:D
Gd 2.5 相干性 8 7h
54j 2.6 参考文献 10 <&E}db 3 Essential Macleod的快速预览 10 tRoSq;VrS 4 Essential Macleod的特点 32 d {!P
c< 4.1 容量和局限性 33 O=o}uB-*6 4.2 程序在哪里? 33 W> pe- 4.3 数据文件 35 J>_mDcPo 4.4 设计规则 35 |*{*tW C1 4.5 材料数据库和资料库 37 MLdwf}[ 4.5.1材料损失 38 1bV
G%N 4.5.1材料数据库和导入材料 39 Dd?G4xUG 4.5.2 材料库 41 'NtI bS 4.5.3导出材料数据 43 Vh\_Ko\V5 4.6 常用单位 43 wo`.sB&T 4.7 插值和外推法 46 [K4cxqlfk 4.8 材料数据的平滑 50 ]K(a32V CH 4.9 更多光学常数模型 54 :xsZz$ 4.10 文档的一般编辑规则 55 lO-DXbgql$ 4.11 撤销和重做 56 N'2?Z b 4.12 设计文档 57 M}|(:o3Yo 4.10.1 公式 58 #z(:n5$F 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 E'WXi!>7p 4.10.3 沉积密度 59 [5P-K{Ko 4.10.4 平行和楔形介质 60 {I{ 0rV 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 >fC&bab 4.10.4 性能 61 84(Jo_9 4.10.5 保存设计和性能 64 "uBnK! 4.10.6 默认设计 64 \g34YY^L3 4.11 图表 64 I 1]YT 4.11.1 合并曲线图 67 >|SIqB<%: 4.11.2 自适应绘制 68 31G:[;g 4.11.3 动态绘图 68 0C<\m\|~k 4.11.4 3D绘图 69 _`?0w#>0 4.12 导入和导出 73 ko}& X= 4.12.1 剪贴板 73 Z 8w\[AF{$ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 q2%cLbI
F 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 5HbHJ.|r 4.13 背景 77 s@L ;3WdO 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ?T/4
= 4.15 生成Rugate 84 ,kJ'_mq 4.16 参考文献 91 B!&5*f}* 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 I=L["] 5.1 Jobs 92 ]xvA2!)Q 5.2 创建一个新Job(工作) 93 q{9vY:`[ 5.3 输入材料 94 ROkwjw 5.4 设计数据文件夹 95 'dj3y/
k% 5.5 默认设计 95 I"x' 6 细化和合成 97 )>ff"| X 6.1 优化介绍 97 aqSOC(jU 6.2 细化 (Refinement) 98 oywPPVxj 6.3 合成 (Synthesis) 100 +`F(wk["m 6.4 目标和评价函数 101 "r6qFxY 6.4.1 目标输入 102 1sXCu|\q 6.4.2 目标 103 U.TZd" 6.4.3 特殊的评价函数 104 :cA P{rSe 6.5 层锁定和连接 104 !>Nlp,r&~ 6.6 细化技术 104 9':Ipf&x 6.6.1 单纯形 105 7#)k-S!B 6.6.1.1 单纯形参数 106 le5@WG/x 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 $j- Fm:ZIA 6.6.2.1 Optimac参数 108 x;[)#>.' 6.6.3 模拟退火算法 109 T.#_v#oM 6.6.3.1 模拟退火参数 109 >"/TiQt 6.6.4 共轭梯度 111 0s`6d; 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 e,OXn gC 6.6.5 拟牛顿法 112 :Ou~?q%X 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 $@VJ@JAe 6.6.6 针合成 113 fS}Eu4Xe 6.6.6.1 针合成参数 114 ~;(\a@ _ 6.6.7 差分进化 114 72|g zm 6.6.8非局部细化 115 0/~p1SSun 6.6.8.1非局部细化参数 115 A6szTX#0 6.7 我应该使用哪种技术? 116 Z&^vEQ 6.7.1 细化 116 Q^{TcL8 6.7.2 合成 117 Y5E0n(Z 6.8 参考文献 117 m !:F/?B 7 导纳图及其他工具 118 9?Bh8%$ 7.1 简介 118 .yF-<Y 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 O[Z$~ 7.2.1 四分之一波长规则 119 VsA_x 7.2.2 导纳图 120 3~`\FuHHe 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 +Vg(2Xt 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 yi^X?E{WnX 7.5 斜入射导纳图 141 y6am(ugE 7.6 对称周期 141 v_5O*F7) 7.7 参考文献 142 A#$l;M.3R 8 典型的镀膜实例 143 QY+{ OCB 8.1 单层抗反射薄膜 145 dZ|bw0~_! 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 _Nh])p- 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 23LG)or.JC 8.4 W-膜层 148 jYU0zGpj 8.5 V-膜层 149 J*g<]P&p0 8.6 V-膜层高折射基底 150 4=q4_ \_T 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 !T`g\za/ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 -)J*(7F(6^ 8.9 四层抗反射薄膜 153 Gad&3M0r 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 ~RLjL" 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 nILUo2e~ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 !o'a]8 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 ++2a xRl 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 (6[< |